RTA를 이용하여 수소 열처리한 실리콘 웨이퍼의 표면 및 근처의 변화 연구
(Investigation into the variation on Si wafer by RTA annealing in $H_2$ gas)
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- 한국결정성장학회지
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- 제10권1호
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- pp.42-47
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- 2000