• 제목/요약/키워드: Surface Contaminant

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메조기공 실리카에 부착된 영가철을 이용한 질산성 질소의 환원 (Reduction of Nitrate-nigrogen by Zero-valent Iron Adhered in Mesoporous Silicas)

  • 연경호;이승학;이관용;박용민;강상윤;이재원;최용수;이상협
    • 상하수도학회지
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    • 제21권1호
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    • pp.139-147
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    • 2007
  • For environmental remediation of a contaminated groundwater plume, the use of zero-valent metal represents one of the latest innovative technologies. In this study, the effects of denitrification by zero-valent iron adsorbed in mesoporous silicas have been studied for groundwater contaminant degradation. The mesoporous silica was functionalized with 3-mercaptopropyltrimethoxysilane (MPTS) ligands and the zero-valent iron precipitated in the mesopore of granular silica was made by $FeCl_2$ and $NaBH_4$. Hydrogen was exchanged with $Fe^{2+}$ ions in the granular silicas. And then the ions were reduced by sodium borohydride in the mesoporous silicas. The surface area of the silica determined via the BET method ranged from 858 to $1275m^2/g$. The reductive reaction of nitrate-nitrogen indicated that the degradation of nitrate-nitrogen appeared to be pseudo first-order with the observed reaction rate constant kobs ($0.1619h^{-1}$) and to be directly proportional to the specific surface area. Therefore, the mesoporous silica with nano zero-valent iron proposed as a novel treatment strategy for contaminated groundwater was successfully implemented herein for the removal of nitrate-nitrogen.

드라이아이스 펠렛 세정 장치 및 공정개발 (Development of Equipment and Process on Dry Ice Blasting)

  • 박종수;김호태;김선근
    • 청정기술
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    • 제10권3호
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    • pp.121-130
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    • 2004
  • 액체 탄산의 단열팽창하여 얻은 드라이아이스 snow로부터의 펠렛제조기와 이들 펠렛을 이용한 표면 세정용 블래스팅 장치를 설계 제작하였다. 본 블래스팅 장치는 적은 압력과 적은 량의 공기로도 다양한 오염물질 녹, 기름때, 라커막, 페인트 제거에 강한 세정력을 얻을 수 있었다. 이 때 호퍼 용량은 12 kg이고, 펠렛 분사량은 0-1.2 kg/min 까지 조절이 가능하였다. 드라이아이스 펠렛의 impact는 한계 거리 안에서는 거리에 무관하며, 드라이아이스 분사의 impact stress, 각도 및 질량 속도에 의존하였다. 또한 블래스팅의 세정력은 impact와 대상 물질의 열적 성질 및 표면 조도에 의존하였으며, 유리, 구리, 황동, 강철, 아크릴 기판의 순서로 감소하였다. 그리고 세정 속도는 같은 기판에 붙은 오염물의 경도, 부착력에 의존하였으며 그리스, 에폭시, 페인트 순으로 감소하였다. 사용 중 소음도는 대략 85-100 dBA이었다.

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오염부지 최적 개념모델 수립을 위한 전략적 샘플링 기법 소개 (Introduction to the Strategic Sampling Approaches to Construct Optimal Conceptual Model of a Contaminated Site)

  • 박현지;김한석;윤성택;조호영;권만재
    • 한국지하수토양환경학회지:지하수토양환경
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    • 제25권2_spc호
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    • pp.28-54
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    • 2020
  • Even though a systematic sampling approach is very crucial in both the general and detailed investigation phases to produce the best conceptual site model for contaminated sites, the concept is not yet established in South Korea. The U.S. Environmental Protection Agency (EPA) issued the 'Strategic Sampling Approaches Technical guide' in 2018 to help environmental professionals choose which sampling approaches may be needed and most effective for given site conditions. The EPA guide broadly defines strategic sampling as the application of focused data collection across targeted areas of the conceptual site model (CSM) to provide the appropriate amount and type of information needed for decision-making. These strategic sampling approaches can prevent the essential data from missing, minimize the uncertainty of projects and secure the data which are necessary for the important site-decisions. Furthermore, these provide collaborative data sets through the life cycle phases of projects, which can generate more positive proofs on the site-decisions. The strategic sampling approaches can be divided by site conditions. This technical guide categorized it into eight conditions; High-resolution site characterization in unconsolidated environments, High-resolution site characterization in fractured sedimentary rock environments, Incremental sampling, Contaminant source definition, Passive groundwater sampling, Passive sampling for surface water and sediment, Groundwater to surface water interaction, and Vapor intrusion. This commentary paper introduces specific sampling methods based on site conditions when the strategic sampling approaches are applied.

국내 복류수 및 강변여과수 취수시설의 오염물질 제거특성에 관한 연구 (A study on pollutants removal characteristics of domestic riverbed filtration and riverbank filtration intake facilities)

  • 정찬우;이선익;신성우;송창현;조부근;최재원
    • 상하수도학회지
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    • 제37권5호
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    • pp.281-288
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    • 2023
  • This study was performed to evaluate the pollutants removal characteristics of two types of RBFs(Riverbank filtration, Riverbed filtration) intake facilities installed in Nakdong River and in Hwang River respectively. The capacity of each RBF is 45,000 m3/d for riverbank filtration intake facility and 3,500 m3/d for riverbed filtration intake facility. According to data collected in the riverbank filtration site, removal rate of each pollutant was about BOD(Biochemical Oxygen Demand) 52%, TOC(Total Organic Carbon) 57%, SS(Suspended Solids) 44%, Total coliforms 99% correspondingly. Furthermore, Microcystins(-LR,-YR,-RR) were not found in riverbank filtered water compared to surface water in Nakdong River. DOC(Dissolved Organic Carbon) and Humics which are precursors of disinfection byproduct were also reported to be removed about 59% for DOC, 65% for Humics. Based on data analysis in riverbed filtration site in Hwang River, removal rate of each contaminant reaches to BOD 33.3%, TOC 38.5%, SS 38.9%, DOC 22.2%, UV254 21.2%, Total coliforms 73.8% respectively. Additionally, microplastics were also inspected that there was no obvious removal rate in riverbed filtered water compared to surface water in Hwang River.

다양한 지질환경에서 지하수의 수리화학 및 자연방사성물질 산출특성 (Hydrochemistry and Occurrences of Natural Radioactive Materials from Groundwater in Various Geological Environment)

  • 정찬호;이유진;이용천;김문수;김현구;김태승;조병욱;최현영
    • 지질공학
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    • 제26권4호
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    • pp.531-549
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    • 2016
  • 화강암, 화강편마암, 변성퇴적암류와 같이 다양한 지질환경에서 지하수내 자연방사성물질인 우라늄과 Rn-222의 산출특성에 대한 지하수의 수리화학적 영향, 지질과의 상관성, 단층대의 영향 등에 대해서 알아보고자 하였다. 이 연구를 위하여 영동지역을 대상으로 2차례에 걸쳐 지하수 49점, 지표수 4점을 채취하였다. 지하수내 우라늄과 지표 암석과의 상관성을 알아보기 위해 감마스펙트로메트리를 이용하여 40지점에서 지표방사능을 측정하였다. 지하수 화학적 유형 $Ca-HCO_3$, $Na-HCO_3$, $Ca-HCO_3(SO_4+NO_3)$등 3가지 유형을 보인다. 환경부 권고치인 우라늄 $30{\mu}g/L$를 초과하는 지하수는 총 49지점 중 2점이며, Rn-222의 경우 미국 EPA 기준치인 148 Bq/L를 초과하는 지하수는 총 40지점중 11점이다. 초과하는 지하수는 주로 화강편마암과 흑운모편마암 지질과 지질경계부에 분포한다. 지표방사능 세기와 지하수내 우라늄함량과는 뚜렷한 상관관계를 보여지 않는다. 아울러 $N45^{\circ}E$ 방향의 주향이동단층인 영동단층은 $82^{\circ}$의 고경도로 상반에 해당되는 화강암 및 화강편마암지역에서 고함량의 우라늄과 Rn-222가 산출되며, 하반에 해당되는 퇴적암지역에는 고함량의 지하수가 확인되지 않는데, 이와 같은 뚜렷한 차이는 지질의 영향과 더불어 단층대가 방사성물질의 이동 및 확산을 차단시키는 역할에도 원인이 있을 것으로 추정된다.

Shewanella algae BrY를 이용한 영가철 칼럼의 TCE 처리 수명연장 (Durability Extension of Fe(0) Column with Shewanella Algae BrY on TCE Treatment)

  • 채희훈;배연욱;박재우
    • 한국지반환경공학회 논문집
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    • 제8권2호
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    • pp.41-48
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    • 2007
  • 영가철은 trichloroethylene(TCE)과 같은 염소계 유기오염물질 제거에 탁월한 효과를 가지고 있어서, 반응벽체를 이용한 오염된 토양 및 지하수의 현장처리에 반응매질로 자주 사용되고 있다. 하지만 영가철의 빠른 반응성으로 인하여 반응벽체의 수명이 다하고, 탈염소화 과정 중 생성된 산화철이 영가철 표면에 침적 되어 반응표면적을 줄임으로써 반응성이 떨어지게 된다. 이러한 영가철 반응벽체의 단점을 보완하기 위한 방법이 연구되어 왔고, 그 중 철환원균을 이용한 연구가 본 연구에서 시도되었다. 실험에 사용한 Shewanella algae BrY는 철환원균의 일종으로서 Dissimilatory Iron Reducing Bacteria(DIRB)로 분류된다. 본 연구에서는 이전의 배치실험 연구결과를 바탕으로 칼럼실험을 통해 TCE의 농도를 30mg/L과 67.5mg/L의 두 가지로 비교하고, 유량을 8mL/hr, 16mL/hr의 두 가지로 비교하여 세 개의 칼럼 실험을 실시하여 영가철 반응벽체의 TCE의 제거 및 산화된 철의 철환원균을 이용한 환원과정을 칼럼실험을 통해 측정했다. 그 결과 철환원균에 의한 산화철의 환원은 오염물질의 농도가 높을 경우 처리량의 증가로 인하여 반응벽체의 수명을 단축시키는 원인이 되었고, 유량의 증가 역시 유입되는 오염물질의 증가로 인하여 수명의 단축을 가져왔다. 그러나 유량증가의 경우 유속의 증가를 가져와서 Shewanella algae BrY가 매질표면에 작용하여 산화철을 환원시킬 수 있는 시간을 감소시키고 착상되는 것을 방해하기 때문에 오염물질의 농도보다 큰 영향을 미치는 결과를 보여준다. 칼럼실험결과 Shewanella algae BrY에 의한 산화철의 환원은 TCE의 탈염소화 후 생성된 산화철의 침적에 의하여 발생되는 반응벽체의 수명감소를 줄일 수 있다는 결과를 얻었다.

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고에너지 광자선속에서 TLD-100 chip 위에 있는 금박막(140 ${\mu}{\textrm}{m}$) 역할 (The Roles of Gold Plate (140${\mu}{\textrm}{m}$) Loaded on TLD-100 Chips in the High Energy Radiation Beams)

  • Vahc, Young-Woo;Park, Kyung Ran.
    • 한국의학물리학회지:의학물리
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    • 제6권2호
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    • pp.51-60
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    • 1995
  • 고에너지 (6-15MV) 광자선속으로 치료할때 LiF(TLD-100) 결정은 solid water phantom 이나 환자의 피부 표면에서의 흡수선량을 측정하기 위해 열자극 발광 선량계(이하 NC-100)가 주로 사용된다. 통상 NC-100은 가열 과정을 여러회 반복하면 그 감도가 줄어드는 것으로 조사되었다. NC-100 위에 입사 광자선속 방향으로 올려놓은 140$\mu\textrm{m}$ 두께의 금박막(이하 GC-100)은 NC-100 과 다른 성질을 갖는다. 즉, 광자선속에서 GC-100 은 금박막에서 주로 쌍생성이 일어나고 부분적으로 Compton 산란이 일어나 많은 양전자와 음전자를 만들어 낸다. 그 결과 TLD-100 결정은 증가된 신호를 갖고(최대 100% 증가), 흡수 선량당 높은 반응도가 좋은 선형도를 갖으며, 선량물에 무관할 뿐만 아니라 Fluctuation error 도 $\pm$0.5% 미만으로 낮게 측정되었다. GC-100 은 주로 쌍생성이 일어나기 때문에 전자선보다 광자선에서 더욱 감도가 좋은것으로 나타난다. 그것은 금과같이 원자번호가 높은 매질에서 광자선에 의한 쌍생성의 확률이 큰것에 기인한다. 치료용 고에너지 광자선속에서 TLD-100 chip 위에 올려진 금박막은 TLD 의 신호를 크게 증가시키는 역할을 하는것으로 나타났다.

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난지도 매립지 주변 지하수환경의 오염 특성에 관한 연구 (The Contamination Characteristics of the Nanji Uncontrolled Landfill and its Surrounding Hydrogeologic Environment)

  • 이철효;한정상
    • 대한지하수환경학회지
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    • 제3권1호
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    • pp.27-36
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    • 1996
  • 난지도 매립지는 바닥차수재나 침출수 차집시설과 같은 오염방지시설이 전혀 설치되어 있지 않은 대표적인 불량 매립지로써 투수성 충적층상에 조성되어 현재 그 인근 지하수와 지표수환경에 심각한 악영향을 미치고 있다. 침출수에 의해 오염된 주변 지하수환경의 오염운(구간) 탐지시 사용할 수 있는 오염지시인자를 결정하고 난지도 매립지를 중심으로 거리별로 설치된 10개의 관측정과 1개의 BTMW*정을 이용하여 물시료를 채취 분석하거나 Electric data logger를 이용하여 그 오염물질의 수직 및 수평적인 분포특성을 파악하였다. 그 결과 온도와 전기전도도는 매립지에서 가까운 지점일수록 높았으며 침출수는 지표하 85 m 지점까지 거동하였다. 오염성분중 전기전도도와 온도는 매립지 인근지에서 오염지시인자임이 판명되었다. 완전스크린설치정(Fully screened well)에서 측정한 오염물질의 심도별 농도는 공내 전구간을 통해 일정하거나 하부구간이 약간 높은데 반해 BTMW에서 측정한 오염물질의 농도는 심도가 깊어짐에 따라 점이적으로 감소하였다. 이는 상하구간이 완전히 관통된 완전스크린설치정에서는 오염물질의 온도나 밀도차이 혹은 침출수의 수직흐름 때문에 농도가 공내에서 평준화되었기 때문이다. 따라서 매립지 인근지역에서 침출수의 수직 및 수평분포상태나 그 거동을 규명하기 위해서는 BTMW나 다점시료 채취정(multi level sampling well)을 이용하여 물시료를 채취 분석한 값을 이용해야 한다.

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폐기물 매립지 주변의 지하수 오염과 오염물질의 지연 특성 (Characteristics of Groundwater Pollution and Contaminant Attenuation at Waste Disposal Sites)

  • 오석영;전효택
    • 대한지하수환경학회지
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    • 제3권1호
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    • pp.37-49
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    • 1996
  • 이 연구에서는 난지도 매립지와 화성매립지를 연구대상으로하여 주변의 지하수 오염 정도를 파악하고, 오염물질들의 지연작용을 밝히며, 최적 오염지시인자를 도출하고자 하였다. 난지도, 김포, 화성 매립지에서 채취된 침출수에 대하여 현장측정과 실내 화학분석을 실시하여 침출수의 물리화학적 수리화학적 특성들을 파악한 결과 침출수는 높은 온도(31.7-40.1$^{\circ}C$)와 높은 전기전도도(14,650-32,800 $\mu$S/cm), 약 알칼리의 pH(7.58-8.45), 낮은 Eh값(-119.4-20.4 mV)을 특징적으로 보이며, 주성분 이온들로서 $Na^{+}$, $K^{+}$, $Ca^{2+}$, $Mg^{2+}$, HC $O_3$$^{-}$, C $l^{-}$ 등이, 부성분 이온들로서 Mn, S $r^{2+}$, $Ba^{2+}$, L $i^{+}$, $F_{-}$, B $r^{-}$ 등이 부화되어 있다. 일반폐기물 매립지인 난지도.김포 매립지의 침출수와 산업폐기물 매립지인 화성매립지의 침출수는 S $O_4$$^{2-}$ , Fe 중금속 원소들의 함량으로 구분된다. 지표수와 지하수의 화학분석, Cl 표준화과정, WATEQ4F 분석 등을 종합하여 앞서 연구된 유선망 분석을 바탕으로 오염물질의 거동을 해석하였다. 또한 Contamination Factor를 통하여 최적의 오염지시인자를 도출하였다. 일반페기물 매립지인 난지도 매립지의 경우 K, Na, Ca, Mg, B, Zn, HC $O_3$, Cl, F, Br, TOC 등이 , 산업 폐기 물 매립지인 화성 매립지의 경우 K, Na, Ca, Mg, B, S $O_4$, HC $O_3$, Cl, F, Br, TOC 등이 뚜렷한 대조를 보이는 좋은 오염지시인자이며, 해안 매립지는 TOC가 가장 적합한 오염지시 인자이다.

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Atmospheric Plasma Spray코팅을 이용한 Yttrium계 소재의 내플라즈마성 및 세정 공정에 관한 연구 (A Study on Plasma Corrosion Resistance and Cleaning Process of Yttrium-based Materials using Atmospheric Plasma Spray Coating)

  • 권혁성;김민중;소종호;신재수;정진욱;맹선정;윤주영
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제21권3호
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    • pp.74-79
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    • 2022
  • In this study, the plasma corrosion resistance and the change in the number of contamination particles generated using the plasma etching process and cleaning process of coating parts for semiconductor plasma etching equipment were investigated. As the coating method, atmospheric plasma spray (APS) was used, and the powder materials were Y2O3 and Y3Al5O12 (YAG). There was a clear difference in the densities of the coatings due to the difference in solubility due to the melting point of the powdered material. As a plasma environment, a mixed gas of CF4, O2, and Ar was used, and the etching process was performed at 200 W for 60 min. After the plasma etching process, a fluorinated film was formed on the surface, and it was confirmed that the plasma resistance was lowered and contaminant particles were generated. We performed a surface cleaning process using piranha solution(H2SO4(3):H2O2(1)) to remove the defect-causing surface fluorinated film. APS-Y2O3 and APS-YAG coatings commonly increased the number of defects (pores, cracks) on the coating surface by plasma etching and cleaning processes. As a result, it was confirmed that the generation of contamination particles increased and the breakdown voltage decreased. In particular, in the case of APS-YAG under the same cleaning process conditions, some of the fluorinated film remained and surface defects increased, which accelerated the increase in the number of contamination particles after cleaning. These results suggest that contaminating particles and the breakdown voltage that causes defects in semiconductor devices can be controlled through the optimization of the APS coating process and cleaning process.