Oxidation behavior and microstructural characteristics of nano-sized Sn powder were studied. DTA-TG analysis showed that the Sn powder exhibited an endothermic peak at $227^{\circ}C$ and exothermic peak at $560^{\circ}C$ with an increase in weight. Based on the phase diagram consideration of Sn-O system and XRD analysis, it was interpreted that the first peak was for the melting of Sn powder and the second peak resulted from the formation of $SnO_2$ phase. Microstructural observation revealed that the $SnO_2$ powder, heated to $1000^{\circ}C$ under air atmosphere, consisted of agglomerates with large particle size due to the melting of Sn powder during heat treatment. Finally, fine $SnO_2$ powders with an average size of 50nm can be fabricated by controlled heat treatment and ultrasonic milling process.
The structural formation of inorganic nanoparticles dispersed in polymer matrices is a key technology for producing advanced nanocomposites with a unique combination of optical, electrical, and mechanical properties. Barium titanate ($BaTiO_3$) nanoparticles are attractive for increasing the refractive index and dielectric constant of polymer nanocomposites. Current synthesis processes for $BaTiO_3$ nanoparticles require expensive precursors or organic solvents, complicated steps, and long reaction times. In this study, we demonstrate a simple and continuous approach for synthesizing $BaTiO_3$ nanoparticles based on a salt-assisted ultrasonic spray pyrolysis method. This process allows the synthesis of $BaTiO_3$ nanoparticles with diameters of 20-50 nm and a highly crystalline tetragonal structure. The optical properties and photocatalytic activities of the nanoparticles show that they are suitable for use as fillers in various nanocomposites.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.17
no.2
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pp.150-155
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2004
This study attempts to form a TiN barrier layer against Cu diffusion by the easier and more convenient method. In this new approach, Ti was sputter-deposited, and nitrided by heat-treating in the NH$_3$ambient. Sheet resistance of as-deposited Ti was 20 Ω/$\square$, but increased to 195 Ω/$\square$ after the heat-treatment at 30$0^{\circ}C$, and lowered to 120 Ω/$\square$ after the heat-treatment at 50$0^{\circ}C$, and $600^{\circ}C$. AES results for these thin films confirmed that the atomic ratio of Ti and N was close to 1:1 at or above 40$0^{\circ}C$ heat-treatment. However, it was also found that excessive oxygen was contained in the TiN layer. To examine the barrier property against Cu diffusion, 100nm Cu was deposited on the TiN layer and then annealed at 40$0^{\circ}C$ for 40 min.. Cu remained at the surface without diffusing into the Si layer.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.8
no.4
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pp.174-177
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2007
We fabricated organic field-effect transistors (OFETs) based a fluorinated copper phthalocyanine ($F_{16}CuPC$) and copper phthalocyanine (CuPc) as an active layer. And we observed the surface morphology of the $F_{16}CuPC$ thin film. The $F_{16}CuPC$ thin film thickness was 40 nm, and the channel length was $50{\mu}m$, channel width was 3 mm. And we also fabricated the $F_{16}CuPc/CuPc$ double layer FET and with different $F_{16}CuPc$ film thickness devices. We observed the typical current-voltage (I-V) characteristics and capacitance-voltage (C-V) in $F_{16}CuPc$ FET and we calculated the effective mobility. From the double layer FET devices, we observed the higher drain current more than single layer FET devices.
Kim J. H.;Yun J. H.;Lee G. G.;Choi I. D.;Park Y. H.;Cho K. M.;Park I. M.
Korean Journal of Materials Research
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v.15
no.12
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pp.809-813
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2005
A copper matrix composite reinforced by turbulent in-situ $TiB_2$ nanoparticle was Prepared by reactions of boron ana titanium. The microstructure, mechanical and electrical properties of the as-drawn composites were investigated. The results showed that the formed $TiB_2$ particles, which had a size of about from 50 to 200nm, exhibited a homogeneous dispersion in the copper matrix. Due to their reinforcement, the hardness and Young's modulus of $Cu-TiB_2$ composites were enhanced with increasing the cooling rate. Moreover, the electrical conductivity of the composites were improved with increasing the cooling rate.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.20
no.11
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pp.932-938
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2007
The structural, optical, and electrical properties of ZnO thin films grown on glass by radio-frequency (rf) magnetron sputtering were investigated. The mixture flow ratio of $O_2$ to Ar, which was operated with sputtering gas, was chosen as a parameter for growing high-qualify ZnO thin films. The structural properties and surface morphologies of the thin films were characterized by the X-ray diffraction and the atomic force microscope, respectively. As for the optical properties of the films, the optical absorbance was measured in the wavelength range of 300-1100 nm by using UV-VIS spectrophotometer. The optical transmittance, absorption coefficient, and optical bandgap energy of ZnO thin films were calculated from the measured data. The crystallinity of the films was improved and the bandgap energy was increased from 3.08 eV to 3.23 eV as the oxygen flow ratio was increased from 0 % to 50 %. Furthermore, The ultraviolet and violet luminescences were observed by using photoluminescence spectroscopy. The hall mobility was decreased with the increase of oxygen flow ratio.
Byeong-Joo Kim;Miyeon Yoon;Myeonghee Lee;Sang Ho Park;Ji-Kwang Lee;Kyeongdal Choi;Woo-Seok Kim
Progress in Superconductivity and Cryogenics
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v.25
no.4
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pp.50-53
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2023
In this study, the photolithography process was chosen to reduce the aspect ratio of the cross-section of a high-temperature superconducting (HTS) tape by dividing the superconducting layer of the tape. Reducing the aspect ratio decreases the magnetization losses in the second-generation HTS tapes generated by AC magnetic fields. The HTS tape used in the experiment has a thin silver (Ag) layer of about 2 ㎛ on top of the REBCO superconducting layer and no additional stabilizer layer. A dry film resist (DFR) was laminated on top of the HTS tape by a lamination method for the segmentation. Exposure to a 395 nm UV lamp on a patterned mask cures the DFR. Dipping with a 1% Na2CO3 solution was followed to develop the uncured film side and to obtain the required pattern. The silver and superconducting layers of the REBCO films were cleaned with an acid solution after the etching. Finally, the segmented HTS tape was completed by stripping the DFR film with acetone.
Among many material processing related issues for successful scaling down of devices for the next 10 years or so, the advanced gate stack and interconnect technology are two most critical research areas, which need technical innovation. The introduction of new metallic films and appropriate processing technologies are required more than ever. Especially, as the device downscaling continues well into sub 50 nm regime, the paradigm for metal nano film deposition technique research has been shifted to high conformality, low growth temperature, high quality with uniformity at large area wafers. Regarding these, ALD has sparked a lot of interests for a number of reasons. The process is intrinsically atomic in nature, resulting in the controlled deposition of films in sub-monolayer units with excellent conformality. In this paper, the overview on the current issues and the future trends in device processing technologies related to metal nano films as well as the R&D trends in these applications will be discussed. The focus will be on the applications for metal gate, capacitor electrode for DRAM, and diffusion barriers/seed layers for Cu interconnect technology.
The growth of amorphous silica nanowires by on-site feeding of silicon and oxygen is reported. The nanowires were grown on a nickel-coated oxidized silicon substrate without external silicon or oxygen sources. Transmission electron microscopy observation revealed that the nanowires, which have diameters of less than 50 nm and a length of several micrometers, were grown using a traditional vapor-liquid-solid mechanism. Blue photoluminescence was observed from these nanowires at room temperature. An approach to grow nanowires without external precursors may be useful when integrating nanowires into devices structures. This can benefit the fabrication of nanowire-based nanodevices.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.7
no.6
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pp.305-308
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2006
We have studied liquid crystal (LC) aligning capabilities for homeotropic alignment and the control of tilt angles on the $SiO_{x}$ thin film by electron beam evaporation method. A high tilt angle of about $86.5^{\circ}$ was obtained, and also the suitable tilt angle of the NLC on the $SiO_{x}$ thin film at $20{\sim}50\;nm$ thickness with e-beam evaporation can be achieved. The uniform LC alignment on the $SiO_{x}$ thin film surfaces with electron beam evaporation can be achieved. It is considerated that the LC alignment on the $SiO_{x}$ thin film by electron beam evaporation is attributed to elastic interaction between LC molecules and micro-grooves at the $SiO_{x}$ thin film surface created by evaporation.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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