• 제목/요약/키워드: Soft lithography

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소프트 식각법을 이용한 효율적 제작방식의 마찰전기 에너지 수확소자 개발 (Cost Effective Fabrication of a Triboelectric Energy Harvester Using Soft Lithography)

  • 이준영;성태훈;여종석
    • 한국진공학회지
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    • 제22권4호
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    • pp.198-203
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    • 2013
  • 에너지 수확은 우리주변에 존재하는 버려지는 에너지를 유용한 전기에너지로 변환하는 기술이다. 마찰전기 소자는 접촉을 통한 정전기를 유도하는 원리로 동력학적 에너지를 전기에너지로 전환하는 소자이다. 본 연구에서는 소프트 식각 기술을 활용하여 제작 단계를 최소화한 마찰전기 에너지 수확소자를 개발하고, 그 전기적 특성을 측정하였다. 마찰전기를 통한 발전은 마이크로패턴을 통해 마이크로 거칠기를 가진 알루미늄 층과 PDMS 층 사이에서 발생한다. 이때 PDMS 층의 마이크로 패턴은 마스크리스 식각을 통해 만들어진 알루미늄 층의 마이크로 패턴을 소프트 식각법으로 바로 본뜨는 방식으로 제작되었다. 본 소자는 2 V와 20 nA의 발전 성능을 나타낸다.

Compact Disc를 마스터 몰드로 사용하는 저비용의 OFET용 유기반도체 소프트 리소그래피 (Cost-Effective Soft Lithography of Organic Semiconductors in OFETs with Compact Discs as Master Molds)

  • 박세진;김혁진;안태규
    • 접착 및 계면
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    • 제23권4호
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    • pp.116-121
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    • 2022
  • Organic field-effect transistor가 실제 전자 장치에 쓰이기 위해서는 유기반도체 용액공정용 미세 패터닝 기술이 요구된다. 본 연구에서는 기존의 스핀 코팅 방법보다 미세 패턴을 형성할 수 있는 소프트 리소그래피 방법이 더 우수한 전기적 특성을 가질 수 있다는 것을 확인하기 위해 비교 분석하였다. Compact Disc 표면의 나노 패턴을 이용하여 유연한 마스터 몰드를 제작하였고, 650 nm 폭의 2,7-Dioctyl [1] benzothieno [3,2-b] [1] benzo thiophene (C8-BTBT) 나노 와이어를 얻었다. 그 결과 소프트 리소그래피 방법을 이용해 제작된 소자 이동도는 0.086 cm2/Vs이며, 스핀 코팅으로 만들어진 소자 이동도는 0.0036 cm2/Vs으로 소프트 리소그래피 방법으로 제작된 소자가 약 20배 이상 높은 이동도와 더 우수한 전기적 성능을 보였다.

미세접촉인쇄기법을 이용한 미세패턴 제작 (Fabrication of Micropattern by Microcontact Printing)

  • 조정대;이응숙;최대근;양승만
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.1224-1226
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    • 2003
  • In this work, we developed a high resolution printing technique based on transferring a pattern from a PDMS stamp to a Pd and Au substrate by microcontact printing Also, we fabricated various 2D metallic and polymeric nano patterns with the feature resolution of sub-micrometer scale by using the method of microcontact printing (${\mu}$CP) based on soft lithography. Silicon masters for the micro molding were made by e-beam lithography. Composite poly(dimethylsiloxane) (PDMS) molds were composed of a thin, hard layer supported by soft PDMS layer. From this work, it is certificated that composite PDMS mold and undercutting technique play an important role in the generation of a clear SAM nanopattern on Pd and Au substrate.

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Neurons-on-a-Chip: In Vitro NeuroTools

  • Hong, Nari;Nam, Yoonkey
    • Molecules and Cells
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    • 제45권2호
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    • pp.76-83
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    • 2022
  • Neurons-on-a-Chip technology has been developed to provide diverse in vitro neuro-tools to study neuritogenesis, synaptogensis, axon guidance, and network dynamics. The two core enabling technologies are soft-lithography and microelectrode array technology. Soft lithography technology made it possible to fabricate microstamps and microfluidic channel devices with a simple replica molding method in a biological laboratory and innovatively reduced the turn-around time from assay design to chip fabrication, facilitating various experimental designs. To control nerve cell behaviors at the single cell level via chemical cues, surface biofunctionalization methods and micropatterning techniques were developed. Microelectrode chip technology, which provides a functional readout by measuring the electrophysiological signals from individual neurons, has become a popular platform to investigate neural information processing in networks. Due to these key advances, it is possible to study the relationship between the network structure and functions, and they have opened a new era of neurobiology and will become standard tools in the near future.

능동 폴리머 펜 어래이를 이용한 미세 패터닝 (Micro Patterning Using Active Polymer Pen Array)

  • 한윤수;홍지화
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제26권12호
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    • pp.853-857
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    • 2013
  • We design, develope and test a parallel active polymer pen lithography (PPL) device, which consists of individually addressable elastomeric probe tips. The PPL array chip is fabricated using soft lithography method with polydimethylsiloxane (PDMS) material. Individual probe can be pneumatically actuated via a computer controlled interface. We demonstrate parallel writing with 16 individually addressed pens, with each pen producing a different pattern in the same run. The largest proof-of-concept array fabricated is $4{\times}4$ with a spacing of $250{\mu}m$ in both x and y axes.

Novel 3D nanofabrication technique and its applications

  • 전석우
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2009년도 춘계학술발표대회
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    • pp.15.1-15.1
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    • 2009
  • Nano transfer printing and micro contact printing is well known printing method based on soft lithography which uses conformal soft elastomer with designed surface relief structures. Here I introduce another class of novel 3D nanofabrication technique by using the same elastomer but in a different manner. The approach, which we refer to as proximity field nanopatterning, uses the surface-reliefed elastomers as phase masks to pattern thick layers of transparent, photosensitive materials. Aspects of the optics, the materials, and the physical chemistry associated with this method are outlined. A range of 3D structures illustrate its capabilities, and several application examples demonstrate possible areas of use in technologies ranging from microfluidics to photonic materials to density gradient structures for chemical release and high-energy density science.

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하이브리드 자외선 노광법을 이용한 3차원 고종횡비 미소구조물 제작 (Hybrid UV Lithography for 3D High-Aspect-Ratio Microstructures)

  • 박성민;남경목;김종훈;윤상희
    • 대한기계학회논문집A
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    • 제40권8호
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    • pp.731-736
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    • 2016
  • 본 연구에서는 의용생체공학에 널리 사용되는 미소바늘과 같은 3차원 고종횡비 미소구조물을 용이하게 제작할 수 있는 하이브리드 자외선 노광법에 대해 기술한다. 하이브리드 자외선 노광법은 기존에 사용되고 있는 경사노광, 회전노광 및 역노광을 혼합한 방법으로, 경사 및 회전노광은 경사진 축대칭 형상을 가지는 3차원 미소구조물의 제작이 가능하도록 하고 역노광은 자외선 노광공정 중 필연적으로 발생하는 하부기판에서의 자외선 반사를 최소화 시킨다. 자체 개발한 자외선 노광시스템과 SU-8 음성감광제를 이용하여 하이브리드 자외선 노광법의 다양한 공정조건이 최종 제작된 3차원 고종횡비 미소구조물 형상(종횡비, 선단의 곡률반경 등)에 미치는 효과를 확인한다. 또한 SU-8의 소프트 베이킹(soft baking) 조건과 미소구조물 선단 형상 사이의 관계에 대해서도 논의한다.

대면적 UV 임프린팅 공정에서 유연 몰드의 변형 (Soft Mold Deformation of Large-area UV Impring Process)

  • 김남웅;김국원
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제10권4호
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    • pp.53-59
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    • 2011
  • Recently there have been considerable attentions on nanoimprint lithography (NIL) by the display device and semiconductor industry due to its potential abilities that enable cost-effective and high-throughput nanofabrication. Although one of the current major research trends of NIL is large-area patterning, the technical difficulties to keep the uniformity of the residual layer become severer as the imprinting area increases more and more. In this paper we focused on the deformation of the $2^{nd}$ generation TFT-LCD sized ($370{\times}470mm^2$) large-area soft mold in the UV imprinting process. A mold was fabricated with PDMS(Poly-dimethyl Siloxane) layered glass back plate(t0.5). Besides, the mold includes large surrounding wall type protrusions of 1.9 mm width and the via-hole(7 ${\mu}m$ diameter) patterend area. The large surrounding wall type protrusions cause the proximity effect which severely degrades the uniformity of residual layer in the via-hole patterend area. Therefore the deformation of the mold was calculated by finite element analysis to assess the effect of large surrounding wall type protrusions and the flexiblity of the mold. The deformation of soft mold was verified by the measurements qualitatively.