• 제목/요약/키워드: Soft interconnections

검색결과 3건 처리시간 0.016초

플렉시블 전자소자의 유연전도성 접합 기술 (Soft Interconnection Technologies in Flexible Electronics)

  • 이우진;이승민;강승균
    • 마이크로전자및패키징학회지
    • /
    • 제29권2호
    • /
    • pp.33-41
    • /
    • 2022
  • 최근 플렉시블 전자소자의 안정적인 전기적 연결을 위한 유연전도성 접합 기술의 연구 필요성이 대두되고 있다. 기존의 금속 납땜 접합에서 발생하는 기계적 파손 문제는 탄성 계수가 작거나 두께가 얇은 재료를 기반으로 제작된 유연전도성 접합을 통해 해결할 수 있다. 기계적 특성을 향상시키는 동시에 안정적인 전기적 연결이 가능하도록 높은 전기전도도를 가진 물질을 박막화하거나, 작은 탄성 계수를 가진 물질에 혼합하는 방식 등으로 형성된다. 대표적인 유연전도성 접합 기술로는 박막 증착을 통한 유연전도성 접합, 유연 전도성 접착제 기반 접합, 그리고 액체 금속 기반의 전도성 접합 형성 방법 등이 있으며 본 논문에서는 각 방법들의 기계적/전기적 특성 향상 전략과 그 쓰임을 소개한다.

Operations on Generalized Intuitionistic Fuzzy Soft Sets

  • Park, Jin-Han
    • International Journal of Fuzzy Logic and Intelligent Systems
    • /
    • 제11권3호
    • /
    • pp.184-189
    • /
    • 2011
  • Generalized intuitionistic fuzzy soft set theory, proposed by Park et al. [Journal of Korean Institute of Intelligent Systems 21(3) (2011) 389-394], has been regarded as an effective mathematical tool to deal with uncertainties. In this paper, we prove that certain De Margan's law hold in generalized intuitionistic fuzzy soft set theory with respect to union and intersection operations on generalized intuitionistic fuzzy soft sets. We discuss the basic properties of operations on generalized intuitionistic fuzzy soft sets such as necessity and possibility. Moreover, we illustrate their interconnections between each other.

STI-CMP 적용을 위한 이중 연마 패드의 최적화 (Optimization of Double Polishing Pad for STI-CMP Applications)

  • 박성우;서용진;김상용
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
    • /
    • 제51권7호
    • /
    • pp.311-315
    • /
    • 2002
  • Chemical mechanical polishing (CMP) process was required for the global planarization of inter-metal dielectric(IMD), inter-level dielectric (ILD) layers of multi-layer interconnections. In this paper, we studied the characteristics of polishing pad, which can apply shallow trench isolation (STI)-CMP process for global planarization of multi-level interconnection structure. Also, we investigated the effects of different sets of polishing pad, such as soft and hard pad. As an experimental result, hard pad showed center-fast type, and soft pad showed edge-fast type. Totally, the defect level has shown little difference, however, the counts of scratch was detected less than 2 on JR111 pad. Through the above results, we can select optimum polishing pad, so we can expect the improvements of throughput and device yield.