Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.11
no.6
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pp.48-54
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2012
In recent years, developments in the semiconductor and electronic industries have brought a rapid increase in the use of large size silicon. However, for many companies, it is hard to produce 400mm or 450mm wafers, because of excesive funds for exchange the equipments. Therefore, it is necessary to investigate 300mm wafer to obtain a better efficiency and a good property rate. Polishing is one of the important methods in manufacturing of Si wafers and in thinning of completed device wafers. This research investigated the surface characteristics that apply variable machining conditions and Taguchi Method was used to obtain more flexible and optimal condition. In this study, the machining conditions have head speed, oscillation speed and polishing time. By using optimum condition, it achieves a ultra precision mirror like surface.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.29
no.3
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pp.253-260
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2012
In nowadays, the infrared optics is frequently employed to various fields such as military, aerospace, industry and medical. To develop the infrared optics, special glasses which can transmit infrared wave are required. Ge(Germanium), Si(silicon), and fluoride glasses are typically used for material of the infrared optics. Compared with Ge and Si glasses, fluoride glasses have high transmittance in infrared wavelength range. Additionally, UV(ultraviolet) and visible light can be transmitted through fluoride glasses. There characteristics of fluoride glasses makes it possible to evaluate optical performance with generally used visible testing equipment. In this paper, we used design of experiment to find ultra precision machining characteristic of Ge and fluoride glasses and optimized machining process to obtain required form accuracy of PV(Peak to Valley) $0.2\;{\mu}m$.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.30
no.5
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pp.301-306
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2017
Wire electrical discharge machining (WEDM) process was evaluated to slice Silicon (Si) for various applications. Specifically, various Si workpieces with various resistances, such as single and multi crystalline Si bricks and wafers were used. As conventional slicing processes, such as slurry-on or diamond-on wire slicing, are based on mechanical abrasions between Si and abrasive, there is a limitation to decrease the wafer thickness as well as kerf-loss. Especially, when the wafer thickness is less than $150{\mu}m$, wafer breakage increases dramatically during the slicing process. Single crystalline P-type Si bricks and wafers were successively sliced with considerable slicing speed regardless of its growth direction. Also, typical defects, such as microcracks, craters, microholes, and debris, were introduced when Si was sliced by electrical discharge. Also, it was found that defect type is also dependent on resistance of Si. Consequently, this study confirmed the feasibility of slicing single crystalline Si by WEDM.
The nanoprobe based on lithography, mainly represented by SPM based technologies, has been recognized as a potential application to fabricate the surface nanosctructures because of its operational versatility and simplicity. However, nanoprobe based on lithography itself is not suitable for mass production because it is time a consuming method and not economical for commercial applications. One solution is to fabricate a mold that will be used for mass production processes such as nanoimprint, PDMS casting, and others. The objective of this study is to fabricate the silicon stamper for PDMS casting process by a mastless fabrication technique using the combination of nano/micro machining by Nanoindenter XP and KOH wet etching. Effect of the Berkovich tip alignment on the deformation was investigated. Grooves were machined on a silicon surface, which has native oxide on it, by constant load scratch (CLS), and they were etched in KOH solutions to investigate chemical characteristics of the machined silicon surface. After the etching process, the convex structures was made because of the etch mask effect of the mechanically affected layer generated by nanoscratch. On the basis of this fact, some line patterns with convex structures were fabricated. Achieved groove and convex structures were used as a stamper for PDMS casting process.
Proceedings of the Korean Society of Machine Tool Engineers Conference
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2005.05a
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pp.395-400
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2005
Nano-scale fabrication of silicon substrate based on the use of atomic force microscopy (AFM) was demonstrated. A specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of damaged layer on silicon substrate by a simple scratching process, has been applied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A thin damaged layer forms in the substrate at the diamond tip-sample junction along scanning path of the tip. The damaged layer withstands against wet chemical etching in aqueous KOH solution. Diamond tip acts as a patterning tool like mask film for lithography process. Hence these sequential processes, called tribo-nanolithography, TNL, can fabricate 2D or 3D micro structures in nanometer range. This study demonstrates the novel fabrication processes of the micro cantilever and diamond tip as a tool for TNL using micro-patterning, wet chemical etching and CVD. The developed TNL tools show outstanding machinability against single crystal silicon wafer. Hence, they are expected to have a possibility for industrial applications as a micro-to-nano machining tool.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.23
no.8
s.185
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pp.39-46
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2006
Nano-scale fabrication of silicon substrate based on the use of atomic force microscopy (AFM) was demonstrated. A specially designed cantilever with diamond tip, allowing the formation of damaged layer on silicon substrate by a simple scratching process, has been applied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A thin mask layer forms in the substrate at the diamond tip-sample junction along scanning path of the tip. The mask layer withstands against wet chemical etching in aqueous KOH solution. Diamond tip acts as a patterning tool like mask film for lithography process. Hence these sequential processes, called tribo-nanolithography, TNL, can fabricate 2D or 3D micro structures in nanometer range. This study demonstrates the novel fabrication processes of the micro cantilever and diamond tip as a tool for TNL using micro-patterning, wet chemical etching and CVD. The developed TNL tools show outstanding machinability against single crystal silicon wafer. Hence, they are expected to have a possibility for industrial applications as a micro-to-nano machining tool.
We have developed laser micro-machining technology for fabrication of the micro thin-film inductors. After the thin layers of FM/M/FM films were coated to the silicon substrate by using the conventional sputtering method, the new laser machining was applied to the patterning process that used to be carried out by the semiconductor lithography procedure. A CW Nd:YAG laser operating in TEM$\sub$00/ mode was actively Q-switched to obtain the very short pulse of 200 ns. The laser micro-machining process with pulse energy and repetition rate have been optimized as 5 mJ/pulse and 5 kHz, respectively, to obtain the line resolution as fine as 20 $\mu\textrm{m}$.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.27
no.2
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pp.34-39
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2010
In order to achieve and maintain dimensional accuracy in laser micro-machining, dominant parameters such as laser power and laser focus position need to be monitored and controlled real time. Also, in order to selectively machine multi-layered materials, the material being presently machined need to be recognized. This paper presents an auto-focusing (AF) module to keep laser focus on a large-area surface; a real-time laser power stabilizing module based on optical attenuation; and a laser-induced breakdown spectroscopy (LIBS) module. With these monitoring modules, position error in laser focus on a 4" silicon wafer was kept below $4{\mu}m$, initially $51{\mu}m$, and laser power stability of a UV laser source was improved from 1.6% to 0.3%. Also, the material transition from polyimide to copper in machining of FCCL (flexible copper clad laminate) was successfully observed.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.26
no.7
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pp.1280-1287
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2002
The old technique of sandblasting which has been used for decoration of glass surface has recently been developed into a powder blasting technique for brittle materials such as glass, silicon and ceramics, capable of producing micro structures larger than $100{\mu}$ m. This paper describes the performance of powder blasting technique in micro-line grooving of glass and the effect of the number of nozzle scanning on the depth and width of line groove. Experimental results showed that increasing the no. of nozzle scanning resulted in the increase of depth and width in grooves. Increase of width which may cause several problems in the precision machining results from wear of mask film. Therefore, well-controlled masking process is the most important factor for micro machining of glass with accuracy.
Proceedings of the Korean Society For Composite Materials Conference
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1999.11a
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pp.139-142
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1999
Screw rotors are core parts of screw type air compressors, compressors in refrigerating machines and super chargers of automobiles etc. They are composed of a female and a male rotors which have complex section profiles and helically swept geometry. Screw type compressors have advantages of low noise, high efficiency, less needs in maintenance etc. Usually, machining process of screw rotors requires long machining time using CNC machine designed only for screw rotors, which increase the cost of production. In this work, the screw rotors for air-compressors were manufactured with fiber reinforced epoxy composite materials by resin transfer molding process. The mold for the RTM process was made of aluminum and silicon rubber and was designed for release of helical shape products. Composite screw rotors, manufactured by RTM process, have advantages of lightweight, less cost of production, good characteristics of vibration etc.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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