In this paper, cerium doped lutetium pyrosilicate (LPS) powders with cerium content (0.05 and 0.07 mol%) were prepared by sol-gel process. The formation of lutetium pyrosilicate (LPS) phase was confirmed by XRD analysis for the powders heated at $1,200^{\circ}C$; in these powders, a single phase of $Lu_2Si_2O_7$ (LPS) was observed. Cerium doped lutetium pyrosilicate (LPS) powder was agglomerated and constituted of small spherical particles with diameters of about 300 nm. The photoluminescence spectra of the $Lu_2Si_2O_7:Ce^{3+}$ powders showed the characteristic of excitation and there was an emission spectrum for $Ce^{3+}$ in the host of $Lu_2Si_2O_7$. The emission spectrum shows a broad band in the range of 350-525 nm; the broad wavelength on the right side of the spectra should be ascribed to the same 5d-4f transitions of $Ce^{3+}$, as in the case of cerium doped $Lu_2Si_2O_7$ single crystals.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.11
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pp.969-973
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2009
In this study, the electrical and optical properties of $(SiO_2)_x(ZnO)_{100-x}$ (SZO) films prepared on the coming 7059 glass substrates by using rf-magnetron sputtering method are investigated. The deposition rate becomes maximum near 3 wt.% and gradually decreases when the $SiO_2$ content further increases. The growth rates of the SZO film with $SiO_2$ content of 3 wt.% is $4\;{\AA}/s$. We found that the average transmittance of all films is over 80% in the wavelength range above 500 nm. The optical band gap were decreased from 3.52 to 3.33 eV as an increase the deposition thickness. X-ray diffraction patterns showed that the film with a relatively low $SiO_2$ content (< 4 wt.%) is amorphous. SZO film with the $SiO_2$ contents of 2 wt.% showed the resistivity of about $3.8{\times}10^{-3}\;{\Omega}{\cdot}cm$. The sheet resistance decreases with increasing the heat treatment temperature.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.13
no.5
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pp.254-259
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2003
In the fabrication process of transparent conducting thin films of the ATO (antimony-doped tin oxide) on a soda lime glass substrate by a sol-gel dip coating method, the effects of the $SiO_2$ buffer layer formed on the substrate and $N_2$ annealing treatment were investigated by XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) analysis. Optical transmittance and electrical resistivity of the 400 nm-thick ATO thin films which were deposited on $SiO_2$ buffer layer/soda lime glass and then annealed under nitrogen atmosphere were 84 % and $5.0\times 10^{-3}\Omega \textrm{cm}$ respectively. The XPS analysis confirmed that a $SiO_2$ buffer layer inhibited Na ion diffusion from the substrate, resulting in prohibiting the formation of a secondary phase such as $Na_2SnO_3$ and SnO and increasing Sb ion concentration and ratio of $Sb^{5+}/Sb^{3+}$ in the film. And it was also found that $N_2$ annealing treatment leads to the reduction of $Sn^{4+}$as well as $Sb^{5+}$ however the reduction of $Sn^{4+}$ is more effective and therefore consequently results in decrease in the electrical resistivity to produce an excellent electrical properties of the film.
The reliability of fluorine doped silicon oxide (SiOF) films for intermetal dielectrics in multilevel interconnections of ultra-large scale integrated circuits (ULSIs) is investigated. SiOF films were deposited by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition (ECRPECVD) using H-free source gases, i.e., SiF4 and O2. The effect of post plasma treatment on the moisture absorption and dielectric properties of SiOF films was carried out I terms of air exposure time, The reliability test of Cu/TiN/SiOF/Fi specimen was carried out in terms of temperature by rapid thermal annealing (RTA) in N2 ambient. After O2 plasma treatment,, no appreciable peak directly related to moisture absorption was detected. The capacitance-voltage (C-V) characteristics of the O2 plasma treated SiOF film showed that the film remained to hold the sound dielectric properties even after boiling treatment. The Cu/TiN/SiOF/Si system was found to be reliable up to $600^{\circ}C$.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.05a
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pp.26.1-26.1
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2011
We investigated the atomic layer deposition (ALD) process for nitrogen doped ZnO and the application for n-ZnO : N/p-Si (NW) coaxial hetero-junction photodetectors. ALD ZnO:N was deposited using diethylzinc (DEZ) and diluted $NH_4OH$ at $150^{\circ}C$ of substrate temperature. About 100~300 nm diameter and 5 um length of Si nanowires array were prepared using electroless etching technique in 0.108 g of $AgNO_3$ melted 20 ml HF liquid at $75^{\circ}C$. TEM images showed ZnO were deposited on densely packed SiNW structure achieving extraordinary conformality. When UV (360 nm) light was illuminated on n-ZnO:N/p-SiNW, I-V curve showed about three times larger photocurrent generation than film structure at 10 V reverse bias. Especially, at 660 nm wave length, the coaxial structure has 90.8% of external quantum efficiency (EQE) and 0.573 A/W of responsivity.
$Ca_3MgSi_2O_8:Eu^{2+}$(x = 0.003, 0.005, 0.007, 0.01, 0.03 mol) white phosphors for Light Emitting Diodes(LED) are synthesized with different concentrations of $Eu^{2+}$ ions using a solid state reaction method. The crystal structures, surface and optical properties of the phosphors are investigated using X-Ray Diffraction(XRD), Scanning Electron Microscope(SEM) and photoluminescence(PL). The X-Ray Diffraction results reveals that the crystal structure of the $Ca_3MgSi_2O_8:Eu^{2+}$ is a monoclinic system. The particle size of $Ca_3MgSi_2O_8:Eu^{2+}$ white phosphors is about $1{\sim}5{\mu}m$, as confirmed by SEM images. The maximum emission spectra of the phosphors are observed at 0.01 mol $Eu^{2+}$ concentration. The decrease in PL intensity in the $Ca_3MgSi_2O_8:Eu^{2+}$ white phosphors with $Eu^{2+}$ concentration is interpreted by concentration quenching. The International Commission on Illumination(CIE) coordinate of 0.01 mol Eu doped $Ca_3MgSi_2O_8$ is X = 0.2136, Y = 0.3771.
To investigate optical properties of (V, Pr)-doped $ZrSiO_4$ green pigments, samples were prepared by the ceramic method using NaF and NaCl as mineralizers. They were characterized by X-ray diffraction, UV-Vis spectroscopy and Raman spectroscopy. The changes of color in the samples during heating and effect of mineralizers were studied in terms of valence of the vanadium and praseodymium in the zircon matrix. (V, Pr)-doped $ZrSiO_4$ pigments give rise to green coloration in $800^{\circ}C$. The oxidation state of V and Pr ions of pigments in the glazed samples were confirmed by UV-Vis absorption spectra. This absorption spectra showed three typical bands of trivalent Pr at the 445, 480~490, 592 nm due to f-f transitions and two broad bands of 302~380, 400~500 nm due to f-d transitions of tetravalent Pr. According to the increasing amounts of $Pr_6O_{11}$, the two broad bands showed decreasing intensity at 290, 640 nm due to d-d transitions of tetravalent V.
An improvement for the efficiency of the $Sr_{2}SiO_{4}:Eu$ yellow phosphor under the $450{\sim}470\;nm$ excitation range have been achieved by adding the co-doping element ($Mg^{2+}\;and\;Ba^{2+}$) in the host. White LEDs were fabricated through an integration of an blue (InGaN) chip (${\lambda}_{cm}=450\;nm$) and a blend of two phosphors ($Mg^{2+},\;Ba^{2+}\;co-doped\;Sr_{2}SiO_{4}:Eu$ yellow phosphor+CaS:Eu red phosphor) in a single package. The InGaN-based two phosphor blends ($Mg^{2+},\;Ba^{2+}\;co-doped\;Sr_{2}SiO_{4}:Eu$ yellow phosphor+CaS:Eu red phosphor) LEDs showed three bands at 450 nm, 550 nm and 640 nm, respectively. The 450 nm emission band was due to a radiative recombination from an InGaN active layer. This 450 nm emission was used as an optical transition of the $Mg^{2+},\;Ba^{2+}\;co-doped\;Sr_{2}SiO_{4}:Eu$ yellow phosphor+CaS:Eu red phosphor. As a consequence of a preparation of white LEDs using the $Mg^{2+},\;Ba^{2+}\;co-doped\;Sr_{2}SiO_{4}:Eu$ yellow phosphor+CaS:Eu red phosphor yellow phosphor and CaS:Eu red phosphor, the highest luminescence efficiency was obtained at the 0.03 mol $Ba^{2+}$ concentration. At this time, the white LEDs showed the CCT (5300 K), CRI (89.9) and luminous efficacy (17.34 lm/W).
The structural and optical properties of Ni-doped transparent glass-ceramics are reviewed. The quantum efficiencies of ceramics were examined to explore suitable crystalline phase for Ni-doping in glass-ceramics. Inverse spinel $LiGa_5O_8$ have the quantum efficiency of almost 100 % at room temperature. Transparent glass ceramics containing $LiGa_5O_8$ was successfully synthesized by heat treatment of $Li_2O-Ga_2-O_3-SiO_2-NiO$ glass. Most of $Ni^{2+}$ ions in glass-ceramic were incorporated into $LiGa_5O_8$ nanocrystals. The near-infrared emission covering from the O-band to L-band (1260-1625 nm) was observed from the Ni-doped $Li_2O-Ga_2O_3-SiO_2$ glass-ceramic though it was not observed from the as-cast glass. The lifetime of the emission was about $580\;{\mu}sec$ even at 300K. The emission quantum efficiency was evaluated as about 10 % that is enough high for practical usage as gain media of optical fiber amplifiers. The figure of merit (the product of the stimulated emission cross section and lifetime) was as high as that of rare-earth-doped glasses. The broad bandwidth, high quantum efficiency and high figure of merit show that transparent glass-ceramics containing $Ni^{2+}:LiGa_5O_8$ nanocrystals are promising candidates as novel ultra-broadband gain media.
SiO2 doped sapphire single crystals were grown by Verneuil method using feed material which prepared by adding SiO2 in Al2O3. Crystal growing were attempted with varing doping amount of SiO2 from 0.01 to 1.0 wt% and when the doping amount of SiO2 were 0.01~0.04 wt%, single crystals could be attained. Starting materials for feed powder were 99.99% purity alumina and extra pure SiO2 powder. Mixing these two materials by wet milling for 24 hours and drying the mixture and then was calcined at 900~110$0^{\circ}C$ for 2~4 hours. The grown crystals had yellowish color and were somewhat transparent. During growing process the flow range of oxygen was 5~7.5ι/min and of hydrogen was 13~25ι/min, the average growth rate was 7.0~11 mm/hr. The pressure of gases were fixed at 5psi. The color of crystal was appeared and mechanical property of sapphire was developed by doping of SiO2.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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