극저온($150^{\circ}C$ )에서 ICP-CVD로 증착한 Nanocrystalline-Si 박막
(Nanocrystalline-Si Thin Film Deposited by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition (ICP-CVD) at $150^{\circ}C$ )
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2005년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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- pp.12-14
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- 2005