To evaluate the micro-shear bond strength of current adhesive systems to cervical and mid-coronal enamel. Materials and Two commercially available resin adhesives were investigated; a self-etching primer system(Clearfil SE Bond, Kyraray) and a one-bottle adhesive system(Single Bond, 3M) intended for use with the total-etch wet-bonding technique were employed. Two regions of enamel, cervical and mid-coronal regions, were chosen from the buccal surface of extracted molars and were then bonded with each adhesive system and submitted to the micro-shear bond test.(중략)
본 연구의 목적은 유치 상아질의 복합레진 술식에서 각 단계별로 치면에 인공타액이 오염되었을 때와 이것을 제거하는 방법이 한 단계 자가부식 접착제와 두 단계 산 부식 접착제의 결합강도에 미치는 영향을 비교 분석하는 것이다. 연구 목적을 달성하기 위해, 건전한 유구치 42개를 선정하여 세 종류의 상아질 접착제인 Scotchbond Universal Adhesive(SBU), All-Bond Universal(ABU)과 Prime & Bond NT(PNT)에 따라 3개의 군으로 분류하였다. 이를 다시 각 접착제에서 7개의 하위 그룹으로 나누었다. 대조군인 1군을 제외한 나머지 군은 인공타액으로 오염시킨 군으로 다음과 같이 분류하였다: 2, 3군 - 접착제 도포 전; 4, 5군 - 접착제 중합 전; 6, 7군 - 접착제 중합 후. 인공타액은 수세, 건조(2, 4, 6군)와 건조(3, 5, 7군)로 제거하였다. 처치된 치면에 복합레진(Filtek, Z-350)으로 수복하고 시편을 제작한 후 미세인장 결합강도(Microtensile bond strength, MTBS)를 측정하였다. One-way ANOVA와 Tukey HSD test를 이용해서 통계분석을 실시하였다(p < 0.05). 대조군에서 MTBS의 평균값은 PNT가 ABU와 SBU에 비해 높게 나타났다(p < 0.001). 세 가지 접착제의 각 오염단계에서 수세와 건조를 시행했을 때(2, 4, 6군)가 건조만 시행했을 때(3, 5, 7군)보다 높은 결합강도를 나타내었다. 그리고 접착제 중합 전 단계에서 인공타액의 오염이 발생했을 때(4, 5군)는 대조군에 비해 낮은 MTBS를 보였다(p < 0.001). 전반적으로 두 단계 산 부식 접착제가 한 단계 자가부식 접착제에 비해 높은 MTBS를 보였다. 접착제를 중합하기 전 단계에서 인공타액에 오염되었을 경우에는 접착 강도가 현저히 감소하였고, 수세와 건조 과정으로 접착강도를 회복할 수 없었다.
본 연구는 유구치 상아질의 각기 다른 부위(표층부, 심층부, 치경부)에서 복합레진 접착제의 접착강도를 비교, 평가하기 위하여 임상에서 흔히 사용하고 있는 서로 다른 4종의 접착방식(3-step total etch: 1군, 2-step total etch: 2군, 2-step self-etch: 3군, all-in-one: 4군)을 적용하고 복합 레진 ($Light-Core^{TM}$ Core Build-Up Composite)을 적층한 후, 미세인장접착강도를 비교하였을 때 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 접착방식간의 비교에서 레진의 접착방식에 따른 상아질 각 부위에서의 미세인장접착강도는 제 1군이 표층부에서 뚜렷이 높았으나(p<0.05) 2, 3, 4군은 부위에 따른 차이가 없었다. 2. 부위별 미세인장접착강도를 비교하여 보았을 때 상아질 표층부에서의 미세인장접착강도는 레진의 접착 방식간에 차이가 없었으나, 심층부에서는 2군, 3군, 4군 및 1군의 순으로 나타났고(p<0.05), 치경부에서는 2군과 3군이 1군과 4군에 비하여 현저히 높았다(p<0.05).
현대 사회에서 증가하고 있는 산성 음료의 소비는 치아 부식의 원인으로 주목받고 있다. 이에 본 연구에서는 산성 음료와 산부식 용액, 산성 음료 적용 후 칫솔질, 산성 음료 적용 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$ 의 적용이 치아 법랑질 표면 재광화에 미치는 영향을 평가하기 위해 사람 소구치의 치관 시편을 제작하여 각각을 적용시킨 후 scanning electron micrograph (SEM)를 촬영한 결과 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산도는 FineEtch 37과 self-etching primer인 $Tyrian^{TM}SPE$의 산도보다 높았다. 2. Coca-Cola, Chilsung-Cider, FineEtch 37, $Tyrian^{TM}SPE$를 적용한 후 촬영한 SEM 사진에서 법랑질 표면의 부식된 양상을 비교한 결과 Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산부식 정도가 나머지 둘의 산부식 정도보다 낮은 양상을 보였다. 3. Coca-Cola, Chilsung-Cider를 적용한 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$를 적용시키고 촬영한 SEM 결과 모두 비슷한 양상을 보였으며 이는 부식된 법랑질 표면보다 덜 부식된 양상을 보였다. 4. Coca-Cola를 적용시킨 다음 칫솔질한 후와 Coca-Cola, 타액, 칫솔질의 순서로 적용한 후 촬영한 SEM 결과, 타액을 적용시킨 법랑질의 표면이 덜 부식된 양상을 보였다.
A self-diagnostic, air-damped, piezoresitive, cantilever-beam microaccelerometer has been designed, fabricated and tested for applications to automotive electronic airbag systems. A skew-symmetric proof-mass has been designed for self-diagnostic capability and zero transverse sensitivity. Two kinds of multi-step anisotropic etching processes are developed for beam thickness control and fillet-rounding formation, UV-curing paste has been used for sillicon-to-glass bounding. The resonant frequency of 2.07kHz has been measured from the fabricated devices. The sensitivity of 195 $\mu{V}$/g is obtained with a nonlinearity of 4% over $\pm$50g ranges. Flat amplitude response and frequency-proportional phase response have been obserbed, It is shown that the design and fabricaiton methods developed in the present study yield a simple, practical and effective mean for improving the performance, reliability as well as the reproducibility of the accelerometers.
본 연구는 자가부식 접착제의 치질로의 침투와 레진 tag 형성을 알아보고 부가적인 산부식이 레진 tag 형성에 미치는 효과를 관찰하기 위하여 계획되었다. 3종의 자가부식 접착제(SE bond, AQ bond and L Pop)와 one bottle adhesive(Single bond)를 사용하였고 발거한 구치로 교합면 법랑질과 상아질 시편을 제작하였으며 각 군당 5개씩 네 개의 군으로 나눈 총 20개의 시편을 양분하여 각각 접착제를 적용하기 전 35% 인산으로 산부식하거나 산부식처리하지 않았으며 이후 레진을 적용시키고 중합하였다. 시편은 Silverstone microtome으로 절단한 후 HCl 용액과 NaOCl 용액으로 처리하고 건조시킨 후 이온으로 피복하였으며 주사전자현미경으로 관찰하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 부가적 산부식 처리한 상아질은 모든 자가부식 접착제군에서 산부식하지 않은 상아질보다 resin tag의 길이와 두께가 증가하는 것이 관찰되었다. 2. 법랑질에서는 L Pop을 제외하고 부가적 산부식한 군에서 레진 tag의 두께가 산부식하지 않은 군보다 컸고 보다 명확한 부식양상을 관찰할 수 있었다. L Pop에서는 부식법랑질과 비부식법랑질간의 차이가 없었다. 본 연구의 결과는 자가부식형 접착제가 법랑질을 부식시키지 않고 상아세관으로 침투하는 정도가 산부식군에 미치지 못하다는 것을 의미한다. 이와 관련하여 접착강도와 미세누출 및 레진 tag 형태에 대한 부가적 연구가 필요할 것이다.
원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition)기술은 기판 표면에서의 self-limiting reaction을 통해 매우 얇은 박막을 형성할 수 있고, 두께 및 조성 제어를 정확히 할 수 있으며, 복잡한 형상의 기판에서도 100%에 가까운 step coverage를 얻을 수 있어 초미세패턴의 형성과 매우 얇은 두께에서 균일한 물리적, 전기적 특성이 요구되는 초미세 반도체 공정에 적합하다. 특히 반도체의 logic 및 memory 소자의 gate 공정에서 절연막과 보호막으로, 그리고 배선공정에서는 층간절연막(ILD, Inter Layer Dielectric)으로 사용하는 silicon oxide 박막에 적용될 경우, LPCVD 방법에 비해 낮은 온도에서 증착이 가능해 boron과 같은 dopant들의 확산을 최소화하여 transistor 특성 향상이 가능하며, PECVD 방법에 비해 전기적·물리적 특성이 월등히 우수하고 대면적 uniformity 증가가 기대된다. 본 연구에서는 자체적으로 설계 및 제작한 장비를 이용하여 silicon oxide 박막을 ALD 방법으로 증착하고 그 특성을 살펴보았다. 먼저, cycle 수에 따른 증착 박막 두께의 linearity를 통해서 원자층 증착(ALD)임을 확인할 수 있었으며, reactant exposure(L)와 증착 온도에 따른 deposition rate 변화를 알아보았다 Elipsometer를 이용해 증착된 silicon oxide 박막의 두께 및 굴절률과 그 uniformity를 관찰하였고, AES 및 XPS 분석 장비로 박막의 조성비와 불순물 성분을 살펴보았으며, 증착 박막의 치밀성 평가를 위해 HF etchant로 wet etch rate를 측정하여 물리적 특성을 정리하였다. 특히, 기존의 박막 증착 방법인 LPCVD와 PECVD에 의한 silicon oxide박막의 물성과 비교, 평가해 보았다. 나아가 적절한 촉매 물질을 선정하여 원자층 증착(ALD) 공정에 적용하여 그 효과도 살펴보았다.
To increase the light-emission efficiency of LED, we increased the internal and external quantum efficiency by suppressing the defect formation in the quantum well and by increasing the light extraction efficiency in LED, respectively. First, the internal quantum efficiency was improved by investigating the effect of a low temperature (LT) grown p-GaN layer on the In$\sub$0.25/GaN/GaN MQW in green LED. The properties of p-GaN was optimized at a low growth temperature of 900oC. A green LED using the optimized LT p-type GaN clearly showed the elimination of blue-shift which is originated by the MQW damage due to the high temperature growth process. This result was attributed to the suppression of indium inter-diffusion in MQW layer as evidenced by XRD and HR-TEM analysis. Secondly, we improved the light-extraction efficiency of LED. In spite of high internal quantum efficiency of GaN-based LED, the external quantum efficiency is still low due to the total internal reflection of the light at the semiconductor-air interface. To improve the probability of escaping the photons outside from the LED structure, we fabricated nano-sized cavities on a p-GaN surface utilizing Pt self-assembled metal clusters as an etch mask. Electroluminescence measurement showed that the relative optical output power was increased up to 80% compared to that of LED without nano-sized cavities. I-V measurement also showed that the electrical performance was improved. The enhanced LED performance was attributed to the enhancement of light escaping probability and the decrease of resistance due to the increase in contact area.
In this paper, novel release technique using wet etch is proposed. The results of this technique and the results of SAMs (Self-Assembled monolayers) coated after release using this technique are compared. Fabricated structure have 100 um in width and experimental length is from 100 um to 1 mm. Thickness of aluminum sacrificial layer is 2 um and structure thickness is 2.5 um. Cantilevers and bridges are fabricated with electroplated gold and silicon nitride deposited on substrate. An aluminium sacrificial layer was evaporated thermally and removed in various wet etching solutions. Detachment length of cantilever is 200 um and detachment length of bridge is 1 mm after isooctane rinsing. And the SAMs coating condition which is appropriate for gold and nitride are studied respectively.
The purpose of this study was to measure the roughness on the acid -etching surface. The etching agents of three-kinds composite resins were used to etch the tooth surface. Newly extracted I5-anterior teeth were invested with self-curing acrylic resin, and the labial surface was exposed. The exposed labial side was polished with abrasive papers and finally polished on polishing machine with zinc oxide powder. After the teeth were polished, the specimens were washed by water and dried by air. Surface roughness tester, Taylor-Habson's Taly Surf-10, (Fig-1) was used to measure roughness of this unetched tooth surface. And that, the specimens were divided into three groups. The first group was etched with Restodent etchant, the second group was etched with Nuva-system etchant, and Hi-pol etching agent was used in the third group. And the surface roughness tester was used to measure roughness of the etching teeth surface. The results obtained were as follows. 1. The roughness of acid-etched enamel were increased $2{\mu}m$ to $6{\mu}m$. 2. Hi-pol etchant produced the smoothest surface($2.3{\mu}m$). 3. Restodent etchant($3.8{\mu}m$) and Nuva-system etchant($3.7{\mu}m$) produced rougher surface than Hi-pol.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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