We investigated the growth behaviors of ZnO epilayers on sapphire substrates fabricated sing RF magnetron puttering and RTA. The effects of deposition temperature and oxygen partial pressure in plasma on the structural and electrical properties were measured by XRD, AFM, SEM, and Hall effect measurement. It was found that ZnO thin films became denser and smoother with increasing deposition temperature and $O_2$ content in the puttering gas. ZnO thin film of oxygen and argon with a ratio of 5:5 had an electron concentration of $8.048{\times}10^{18}cm^{-3}$, resistivity of $0.0141{\Omega}{\cdot}Cm$, and mobility of $55.07cm^2/V{\cdot}s$.
$Zn_{1-x}Cd_xO$ thin films were grown on (0001) sapphire substrates by pulsed laser deposition. The energy bandgap of $Zn_{1-x}Cd_xO$ films decreases withincreasing Cd content. An increase of Cd content also leads to the emission broadening and degraded crystallinity. The absorption edge and ultraviolet emission peak shift to lower energy from 3.357 eV to 3.295 eV and 3.338 eV to 3.157 eV, respectively, with increasing Cd content from 0.3% to 3%. The Stokes' shift between the absorption and emission indicates the increase of localization of exciton with Cd content.
I-D ZnO nanostructures were fabricated by thermal evaporation method on Si(100), GaN and $Al_2O_3$ substrates without a catalyst at the reaction temperature of $700^{\circ}C$. Only pure Zn powder was used as a source material and Ar was used as a carrier gas. The shape and growth direction of synthesized ZnO nanostructures is determined by the crystal structure and the lattice mismatch between ZnO and substrates. The ZnO nanostructure on Si substrate were inclined regardless of their substrate orientation. The origin of ZnO/Si interface is highly lattice-mismatched and the surface of the Si substrate inevitably has the $SiO_2$ layer. The ZnO nanostructure on the $Al_2O_3$ substrate was synthesized into the rod shape and grown into particular direction. For the GaN substrate, however, ZnO nanostructure with the honeycomb-like shape was vertically grown, owing to the similar lattice parameter with GaN substrate.
1at.% Er$^{3+}$ :LaF$_{3}$와 1at.%Er$^{3+}$ :YAlO$_{3}$ 결정체에 대해 780-820nm에서 펌핑하여 적색, 녹색 및 청색이 상방전환 형광 발생을 상온과 14K에서 연구하였다. 두 재료에 대해 Er$^{3+}$ 이온의 $^{4}$I$_{9}$ 2/준위를 펌핑하기 위해 연속 출력의 티나튬 사파이어 레이저를 사용하였다. 이러한 $^{4}$F$_{9}$ 2/, $^{4}$S$_{3}$2/, $^{2}$P$_{3}$2/로부터 상방전환의 형광 발생 과정이 다단계 흡수와 교차 완화의 에너지 전달에 의한 것임을 스펙트럼의 분석을 통행 밝혀내었다.
In the area of optoelectronic devices based on GaN and related ternary compounds, the two-dimensional system like as quantum wells (QWs) has been investigated as an effective structure for improving the light-emitting efficiency. Generally, the quantum well active regions in III-nitride light-emitting diodes grown on conventional c-plane sapphire substrates have critical problems given by the quantum confined Stark effect (QCSE) due to the effects of strong piezoelectric and spontaneous polarizations. However, the QWs grown on nonpolar templates are free from the QCSE since the polar-axis lies within the growth plane of the template. Also the unique characteristic of linear polarized light emission from nonpolar QW structures is attracting attentions because it is proper to the application of back-light units of liquid crystal display. In this study, we characterized optical properties of the a-plane InGaN/GaN QW structures by temperature-dependent photoluminescence (TDPL) measurements. From the photoluminescence (PL) spectrum measured at 300 K, green emission centered at 520 nm was observed for the QW region. Since indium incorporation on nonpolar QWs is lower than that on c-plane, this high indium-doping on a-plane InGaN QWs is not common. Therefore, the effect of high indium composition on optical properties in a-plane InGaN QWs will be extensively studied.
a-plane 혹은 m-plane면을 사용하는 무분극 GaN LED는 c축 방향으로 발생하는 분극의 영향을 받지 않기 때문에 분극 GaN LED에 비해 높은 내부 양자효율을 가진다. 또한 무분극 GaN는 상대적으로 고농도의 p-type 도핑이 가능하기 때문에 광효율을 높일 수 있다. 하지만 이와 같은 장점에도 불구하고 무분극 GaN는 성장모드의 비대칭으로 인해 높은 결정성과 mirror-like한 표면을 얻기가 힘들다. 본 논문에서는 Metalorganic chemical-vapor deposition (MOCVD) 장비를 사용하여 r-plane 사파이어 기판위에 a-plane GaN을 성장시켰다. 일반적으로 사용하는 저온에서의 nucleation layer 성장 대신 $1050^{\circ}$의 고온에서 성장 시킨후 일반적으로 사용하는 two-step 성장방법으로 그위에 5.5um정도의 GaN을 성장시켰다. 성장시 Trimethylgallium(TMGa)와 암모니아를 각각 Ga과 N 소스로 이용하였고 캐리어 가스는 수소를 사용하였다. 비대칭 결정성을 줄이기 위해 3D island growth mode에서의 성장조건을 바꾸어 c축과 m축 방향으로의 X-ray 결정성(FWHM) 차이가 564 arcsec에서 206 arcsec로 변화 시켰다. Normarski 현미경으로 표면을 관찰한 결과 v-defect이 없고 a-plane GaN에서 볼 수 있는 전형적인 줄무늬 패턴을 가지는 표면을 얻었으며 광학적 특성을 보기 위해 Photoluminescence (PL)을 측정하였다.
We report strong exciton transition and exciton-phonon couplings in photoluminescence (PL) of ZnO thin films grown on MgO/sapphire (buffer/substrate) by plasma-assisted molecular beam epitaxy. The PL spectra at 10 K showed the intensity of the dominant emission, donor-bound exciton transition of front surface (top surface, the latter part in growth) is found to be about 100 times higher than that of back surface (in-depth bottom area, the initial part), while the room temperature PL spectra showed dominant contributions from the free exciton emissions and phonon-replicas of free excitons for front surface and back surface, respectively, It could be attributed to the strong contributions of exciton-phonon coupling. Time resolved PL spectra reveal that the life time of exciton recombination from the front surface are longer than those from back surface. This is most probably due to the fact that reduction of non-radiative recombination in the front surface. This investigation indicates that the existence of native defects or trap centers which can be reduced by the proper initial condition in growth and the exciton-phonon interaction couplings play an important role in optical properties and crystal quality of ZnO thin films.
Vanadium dioxide ($VO_2$) has been widely attracted for academic research and industrial applications due to its metal-insulator transition (MIT) temperature close to room temperature. We synthesized VOx film on (0001) sapphire substrate with vanadium target (purity: 99.9%) using DC magnetron sputtering in Ar ambience at a pressure of $10^{-3}$ Torr at $400{\sim}700^{\circ}C$. The VOx film subsequently was annealed at difference temperatures in ambience of Ar and $O_2$ gas mixture at $60{\sim}800^{\circ}C$. The structural properties of the films were investigated using scanning electron microscopic (SEM), x-ray diffraction (XRD) and x-ray absorption fine structure (XAFS) measurements. SEM reveal that small grains formed on the substrates with a roughness surface. XRD shows oriented $VO_2$(020) crystals was deposited on the $Al_2O_3$(006) substrate. From I-V measurements, the electric resistance near its MIT temperature were dramatically changed by ${\sim}10^4$ during heating and cooling the films. We will also discuss the temperature-dependent local structural changes around vanadium atoms using XAFS measurements.
In-rich InGaN epilayers were grown on (0001) sapphire substrates by radio-frequency plasma-assisted molecular beam epitaxy (RF-MBE). InGaN epilayers grown at various growth condition were observed by SEM, XRD, and RHEED. When plasma power of nitrogen increased from 290 to 350 W, surface morphology and crystal quality became worse according to more active nitrogen on the surface of InGaN at N-rich growth condition. As In composition was reduced from 89 to 71% by changing the incoming flux of In and Ga, surface morphology and crystal quality became worse. In addition, weak peaks of cubic InGaN phase was observed from InGaN layer with 71% In composition by XRD ${\Phi}$ scan measurement. When growth temperature decreased from 500 to $400^{\circ}C$, RHEED diffraction pattern was changed to be from streaky to spotty which means atomically rough surface, and spotty pattern showed cubic symmetry of InGaN clearly. XRD ${\Phi}$ scan measurement gave clear evidence that more cubic InGaN phase was formed at low growth temperature. All these results indicates that extremely low surface mobility of Ga adatom caused inferior crystal quality and cubic InGaN phase.
ZnS nanowires were synthesized in order to investigate $NO_2$ gas sensing properties. They were grown on the sapphire substrate using ZnS powders. SEM (scanning electron microscopy) showed the diameter and length of the ZnS nanowires were approximately in the range of 50 - 100 nm and a few $10s\;{\mu}m$, respectively. They were also found to be composed of Wurtzite- structured single crystals from TEM (transmission electron microscopy) analysis. $NO_2$ gas sensing performance of the ZnS nanowire was measured with electrical resistance changes caused by $NO_2$ gas with a concentration of 1-5ppm. The sensor was UV treated with an intensity of $1.2mW/cm^2$ to facilitate charge carrier transfer. The responses of the ZnS nanowires to the $NO_2$ gas at room temperature, treated with UV of two different wavelengths of 365 nm and 254 nm, are measured to be 124.53 - 206.87 % and 233.97 - 554.83%, respectively. In the current work, the effect of UV treatment on the gas sensing performance of the ZnS nanowires was studied. And the underlying mechanism for the electrical resistance changes of the ZnS nanowires by $NO_2$ gas was also discussed.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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