• 제목/요약/키워드: SIN mask

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In-situ SiN 박막을 이용하여 성장한 GaN 박막의 특성 연구 (A Study of Properties of GaN grown using In-situ SiN Mask by MOCVD)

  • 김덕규;박춘배
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제18권6호
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    • pp.582-586
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    • 2005
  • We have grown GaN layers with in-situ SiN mask by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) and study the physical properties of the GaN layer. We have also investigate the effect of the SiN mask on its optical property. By inserting a SiN mask, (102) the full width at half maximum (FWHM) decreased from 480 arcsec to 409 arcsec and threading dislocation (TD) density decreased from $3.21\times10^9\;cm^{-2}\;to\;9.7\times10^8\;cm^{-2}$. The PL intensity of GaN with SiN mask improved 2 times to that without SiN mask. We have thus shown that the SiN mask improved significantly the physical and optical properties of the GaN layer.

In-situ SiN 박막을 이용하여 성장한 GaN 박막 및 LED 소자 특성 연구 (A Study of Properties of GaN and LED Grown using In-situ SiN Mask)

  • 김덕규;유인성;박춘배
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제18권10호
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    • pp.945-949
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    • 2005
  • We have grown GaN layers with in-situ SiN mask by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) and study the physical properties of the GaN layer. We have also fabricate PN junction light emitting diode (LED) to investigate the effect of the SiN mask on its optical property By inserting a SiN mask, (102) the full width at half maximum (FWHM) decreased from 480 arcsec to 409 arcsec and threading dislocation (TD) density decreased from $3.21{\times}10^9\;cm^{-2}$ to $9.7{\times}10^8\;cm^{-2}$. The output power of the LED with a SiN mask increased from 198 mcd to 392 mcd at 20 mA. We have thus shown that the SiN mask improved significantly the physical and optical properties of the GaN layer.

반사형 포토폴리머를 이용한 홀로그래픽 광 보안 시스템 (Holographic optical security system using a reflection photopolymer)

  • 신창원;김남;김민수;전석희;김은경
    • 한국광학회:학술대회논문집
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    • 한국광학회 2008년도 동계학술발표회 논문집
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    • pp.199-200
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    • 2008
  • In this paper, we researched optical characteristics of a holographic optical security system using a reflection recording material and optical random phase mask. The system have the property of optical security key with the phase mask. Also, a reflection recording geometry can reduced a size of the reconstruction system because a input beam to reconstruct a holographic image and a diffraction beam are the same side on the material.

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S-Function Builder를 이용한 UWB 시스템의 성능해석 (Performance Analysis of UWB System using S-Function Builder)

  • 이성신;변건식
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제9권3호
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    • pp.516-521
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    • 2005
  • UWB 통신 기술은 초광대역 특성 때문에 높은 전송 속도와 저전력 통신이 가능하여 의료장비에 응용이 가능하다 특히 근거리 무선 통신 기술로 급부상하고 있는 UWB 통신 기술의 응용으로 의료 측정기인 ECG 센서 시스템을 고려할 수 있다 본 논문에서는 유선 심전도 센서를 무선 링크로 대체하는 것으로, UWB에 사용가능한 각종 펄스의 스펙트럼 특성을 FCC Spectral Mask와 FCC indoor limit에 비교하였다. 또한, 적용하고자 하는 시스템 환경에서 발생할 수 있는 UWB 신호 간섭의 영향에 따른 UWB 송수신 시스템을 근거리 송수 거리에 따른 시뮬레이션을 수행하였으며, Rake 수신기를 사용하면 약 10m까지 신뢰성을 가지는 통신을 할 수 있음을 확인하였다.

결정질 태양전지의 고효율화를 위한 선택적 도핑 중 에치-백 구조에 관한 연구 (A study of etch-back structure for high efficiency in crystalline silicon solar cells)

  • 정우원;양두환;이용우;공대영;김선용;이준신
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.347-347
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    • 2009
  • 결정질 태양전지의 공정에 있어서 호모지니어스(homogeneous)한 구조보다 향상된 변환효율을 얻기 위해 선택적 도핑 방법에 관한 연구가 활발하다. 선택적 도핑 방법이란 에미터(emitter) 층을 $n^{++}$ 영역과 $n^+$ 영역으로 나누어 향상된 전류밀도와 개방전압을 얻기 위한 방법이다. 본 연구에서 제시된 RIE 에치-백 구조는 다수의 선택적 도핑 방법 중 하나이다. 기존의 에치-백 구조는 전면 전극 형성 후 RIE 공정을 수행하기 때문에 전면 전극이 손상되고 RIE 데미지(damage)가 발생되는 문제점이 있었다. 그러나 본 연구에서 제시된 구조는 기존의 에치-백 구조와 달리 RIE 에칭 후 발생된 데미지를 제거하는 추가적인 공정인 질산 패시베이션(nitric acid passivation)이 수행되었다. 또한 본 연구에서 새롭게 제시된 블라킹 마스크 페이스트(blocking mask paste)는 기존의 에치-백 구조에서 발생된 전극 손상 문제를 해결해 주고 있다. 이러한 결과로 호모지니어스 구조보다 향상된 전류밀도 (35.77 mA/$cm^2$), 개방전압 (625 mV), FF (78.01%), 변환효율 (17.43%)를 얻었다.

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고 투과 C 형 개구를 이용한 나노 크기 패턴 구현 (Nano-size Patterning with a High Transmission C-shaped Aperture)

  • 박신증;김용우;이응만;한재원
    • 한국정밀공학회지
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    • 제24권11호
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    • pp.108-115
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    • 2007
  • We have designed a high transmission C-shaped aperture using finite differential time domain (FDTD) technique. The C-shaped aperture was fabricated in the aluminum thin film on a glass substrate using a focused ion beam (FIB) milling. Nano-size patterning was demonstrated with a vacuum contact device to keep tight contact between the Al mask and the photoresist. Using 405 nm laser, we recorded a 50 nm-size dot pattern on the photoresist with the aperture and analyzed the spot size dependent on the dose illuminated on the aperture.

팸토초 레이저를 이용한 3차원 패키징 기술 (3D Packaging Technology Using Femto Laser)

  • 김주석;신영의;김종민;한성원
    • 대한용접접합학회:학술대회논문집
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    • 대한용접접합학회 2006년 추계학술발표대회 개요집
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    • pp.190-192
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    • 2006
  • The 3-dimensional(3D) chip stacking technology is one of the leading technologies to realize a high density and high performance system in package(SIP). It could be found that it is the advanced process of through-hole via formation with the minimum damaged on the Si-wafer. Laser ablation is very effective method to penetrate through hole on the Si-wafer because it has the advantage that formed under $100{\mu}m$ diameter through-hole via without using a mask. In this paper, we studied the optimum method for a formation of through-hole via using femto-second laser heat sources. Furthermore, the processing parameters of the specimens were several conditions such as power of output, pulse repetition rate as well as irradiation method and time. And also the through-hole via form could be investigated and analyzed by microscope and analyzer.

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The Study of Sequential Lateral Solidification Process as a Function of Laser Intensity

  • Jang, Sung-Jin;Kim, Byoung-Joo;Kim, Hyun-Jae;Kang, Myung-Koo;Souk, Jun-Hyung;Kim, Do-Young;Suh, Chang-Ki;Dhungel, Suresh Kumar;Yi, Jun-Sin
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.679-682
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    • 2003
  • We report the suitable SLS (sequential lateral solidification) as a function of laser intensity. Precursor film is changed from 50nm to 100nm and is deposited on glass substrate by PECVD. We can find the suitable SLS length by changing the mask size. In this paper, we present the well-defined grain growth conditions as a function of laser intensity.

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Symmetric-viewing liquid crystal display with alternating alignment layers in an inverse-twisted-nematic configuration

  • Na, Jun-Hee;Li, Hongmei;Park, Seung-Chul;Lee, Sin-Doo
    • Journal of Information Display
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    • 제12권4호
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    • pp.191-194
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    • 2011
  • A symmetric-viewing inverse-twisted-nematic (ITN) liquid crystal display (LCD) with alternating alignment layers was developed using a stamping-assisted rubbing (SAR) technique. A patterned layer of a fluorinated acrylate polymer was transferred onto the first rubbed vertical-alignment layer prepared on a substrate by stamping. The fluorinated acrylate polymer provided a protective layer covering the first rubbed alignment layer during the second rubbing process, which promoted the vertical alignment of the LC molecules. The LC cell in the ITN geometry with two orthogonally rubbed alignment layers showed symmetric-viewing characteristics with fourfold symmetry. The SAR technique was shown to be a mask-free alignment method of producing multidomains for symmetric-viewing LCDs.