• Title/Summary/Keyword: SI 방향

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Frequency Dependence of the Magnetoimpedance Effect in Amorphous Fe_{78}B_{13}Si_9 Alloy (비정질 금속 $Fe_{78}\;B_{13}\;Si_9$의 주파수에 따른 자기 임피던스 효과)

  • 김용국;김택기;이희복
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.7 no.1
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    • pp.1-6
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    • 1997
  • The frequency dependence of magnetoimpedance (MI) effect in amorphous $Fe_{78}B_{13}Si_9$ alloy has been obtained. Magnetoimpedance (MI) effect is a high-frequency phenomenon, which describes the changes of impedance in any ferromagnetic sample, when a magnetic field is applied on it. MIR (Magnetoimpedance ratios) is defined as $\Delta$ Z/Z ≡ [Z (0) / Z ($H_s$)]-1 where $H_s$ is the saturating field along the long side of the sample, The MIR of the samples annealed in vacuum has been decreased normally except that the sample annealed at 5 MHz has been reached as much as 58%.

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Effects of the Whisker Orientation and Sintering Temperature on Mechanical Properties of the Si$_3$N$_4$ based Composites (Si$_3$N$_4$ Whisker의 배열방향과 소결온도가 Si$_3$N$_4$ 복합체의 기계적 성질에 미치는 영향)

  • 김창원;박동수
    • Journal of the Korean Ceramic Society
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    • v.36 no.5
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    • pp.483-489
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    • 1999
  • Gas pressure sintered silicon nitride based composites with 3 wt% $\beta$-Si3N4 whiskers were prepared and change of properties according to the whisker orientation and sintering temperature was studied. The tapes with whiskers were fabricated by two different method ; conventional tape casting and a modified tape casting by using guide pins,. Orientations of the whiskers were controlled by different stacking sequences of the sheets cut from the tape. Samples were fully densified by gas pressure sintering at 2148-2273K. As the sintering temperature increased size of the large elongated grains increased. In case of unidirectional samples sintering shrinkage normal to the whisker alignment direction was larger than that of parallel to the direction and the shrinkage anisotropy increased slightly as sintering temperature increased. As sintering temperature increased the crack length parallel to whisker alignment direction became shorter but that normal to the direction did not depend on sintering temperature. In case of cross-plied samples the anisotropy of mechanical properties disappeared.

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스퍼터링법으로 증착한 실리콘 태양전지 전극용 Indium Tin Oxide 박막의 전기적 및 광학적 물성

  • Sim, Seong-Min;Chu, Dong-Il;Lee, Dong-Uk;Kim, Eun-Gyu
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.211.2-211.2
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    • 2013
  • ITO (indium tin oxide)는 스마트폰을 비롯한 여러전자제품의 터치패널 투명전극으로 가장 많이 쓰이고 있는 물질이다. 산화 인듐(In2O3)과 산화 주석(SnO2)의 화합물로 우수한 전기적 특성과 광학적 특성을 지녀 태양전지 분야에서도 그 활용가능성이 높다. 또한 최근 고효율 태양전지인 HIT (heterojunction with intrinsic thin layer) solar cell의 경우 Si 기판의 두께가 얇고, 소자의 양면에서 태양광을 흡수하여 효율을 증가 시키데, 특히 투명 전극의 물리적 특성들과 계면의 트랩의 상태가 효율에 영향을 미친다. 본 연구에서는 HIT Si 기판의 태양전지 구조에 전극으로 쓰일 ITO 박막을 sputtering 방법으로 증착하여 물리적 특성을 연구하였다. ITO 타겟을 활용한 radio frequency magnetron sputtering 방법으로 Si 기판에 ITO 박막을 증착하였다. 50W의 방전전력과 Ar 10 sccm 분위기에서 성장시킨 ITO 박막을 Transmission Electron Microscope 로 측정하였다. X-ray Diffraction 측정으로 ITO 결정의 방향성을 확인하고 Photoluminescence 측정으로 성장된 ITO 박막의 밴드갭 에너지를 확인하였다. $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$, $400^{\circ}C$에서 후열처리한박막의 광 투과율, 비저항, 이동도를 측정 비교하여 적절한 후열처리 온도를 찾는 연구를 진행하였다. Sputtering 방법으로 성장시킨 ITO 박막의 전기적, 광학적 특성을 측정하여 HIT solar cell에 활용될 가능성을 확인하였다.

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Probing Atomic Structure of Quarternary Aluminosilicate Glasses using Solid-state NMR (다성분계 현무암질 비정질 규산염의 원자 구조에 대한 고상핵자기 공명 분광분석연구)

  • Park, Sun-Young;Lee, Sung-Keun
    • Journal of the Mineralogical Society of Korea
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    • v.22 no.4
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    • pp.343-352
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    • 2009
  • High-resolution Solid-state NMR provides element specific and quantitative information and also resolves, otherwise overlapping atomic configurations in multi-component non-crystalline silicates. Here we report the preliminary results on the effect of composition on the structure of CMAS (CaO-MgO-$Al_2O_3-SiO_2$) silicate glasses, as a model system for basaltic magmas, using the high-resolution 1D and 2D solid-state NMR. The $^{27}Al$ MAS NMR spectra for the CMAS silicate glasses show that four-coordinated Al is predominant, demonstrating that $Al^{3+}$ is network forming cation. The peak position moves toward lower frequency about 4.7 ppm with increasing $X_{MgO}$ due to an increase in $Q^4$(4Si) fraction with increasing Si content, indicating that Al are surrounded only by bridging oxygen. $^{17}O$ MAS NMR spectra for $CaAl_2SiO_6$ and $CaMgSi_2O_6$ glasses qualitatively suggest that NBO fraction in the former is smaller than that in $CaMgSi_2O_6$ glasses. As $^{17}O$ 3QMAS NMR spectrum of model quaternary aluminosilicate glass resolved distinct bridging and non-bridging oxygen environments, atomic structure for natural magmas can also be potentially probed using high-resolution 3QMAS NMR.

Investigation on solid-phase crystallization of amorphous silicon films

  • Kim, Hyeon-Ho;Ji, Gwang-Seon;Bae, Su-Hyeon;Lee, Gyeong-Dong;Kim, Seong-Tak;Lee, Heon-Min;Gang, Yun-Muk;Lee, Hae-Seok;Kim, Dong-Hwan
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2016.02a
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    • pp.279.1-279.1
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    • 2016
  • 박막 트랜지스터 (thin film transistor, TFT)는 고밀도, 대면적화로 높은 전자의 이동도가 요구되면서, 비정질 실리콘 (a-Si)에서 다결정 실리콘 (poly-Si) TFT 로 연구되었다. 이에 따라 비정질 실리콘에서 결정질 실리콘으로의 상변화에 대한 결정화 연구가 활발히 진행되었다. 또한, 박막 태양전지 분야에서도 유리기판 위에 비정질 층을 증착한 후에 열처리를 통해 상변화하는 고상 결정화 (solid-phase crystallization, SPC) 기술을 적용하여, CSG (thin-film crystalline silicon on glass) 태양전지를 보고하였다. 이러한 비정질 실리콘 층의 결정화 기술을 결정질 실리콘 태양전지 에미터 형성 공정에 적용하고자 한다. 이 때, 플라즈마화학증착 (Plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD) 장비로 증착된 비정질 실리콘 층의 열처리를 통한 결정화 정도가 중요한 요소이다. 따라서, 비정질 실리콘 층의 결정화에 영향을 주는 인자에 대해 연구하였다. 비정질 실리콘 증착 조건(H2 가스 비율, 도펀트 유무), 실리콘 기판의 결정방향, 열처리 온도에 따른 결정화 정도를 엘립소미터(elipsometer), 투과전자현미경 (transmission electron microscope, TEM), 적외선 분광기 (Fourier Transform Infrared, FT-IR) 측정을 통하여 비교 하였다. 이를 기반으로 결정화 온도에 따른 비정질 실리콘의 결정화를 위한 활성화 에너지를 계산하였다. 비정질 실리콘 증착 조건 보다 기판의 결정방향이 결정화 정도에 크게 영향을 미치는 것으로 확인하였다.

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박막 표면 결정성에 대한 Nano-Indenter 압입 각도 차이의 nano-electrotribology 특성 변화 연구

  • Lee, Jae-Hun;Kim, Su-In;Kim, Hong-Gi;Kim, Min-Ho;Kim, Min-Jun;Park, Bo-Gyeom;Lee, Seok-Won;Hong, Gi-Taek;Lee, Chang-U
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2015.08a
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    • pp.176.2-176.2
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    • 2015
  • 기존의 트라이볼로지 분석 기법은 macro 영역에서 시료의 강도 및 탄성 등의 물성을 분석하는 정도였으나 Nano-Indenter 분석 기법은 macro 영역보다 더 미세한 nano 영역에서의 시료 물성 분석을 가능하게 해주었다. 따라서 본 연구에서는 시료들의 결정 배양 방향에 따른 Nano-Indenter 압입 각도 차이에 대한 nano 영역에서의 연구를 진행하였다. Si 기판 외에 본 연구에 사용 된 HfN 및 Zr 박막의 시료들은 rf magnetron sputter를 이용하여 약 100 nm 두께로 증착하였다. 각각 시료들에 대한 결정성 확인을 위해 XRD 분석을 실시하였다. 이후 Nano-Indenter를 이용하여 압입 인가력 대비 압입 깊이를 측정하였다. 이 과정에서 Nano-Indenter 압입 각도를 $0^{\circ}$$90^{\circ}$로 변화함에 따라 압입 인가력 - 압입 깊이 그래프의 차이를 확인하였고 이를 기준점으로 부터 $10{\mu}m$ 이격시켜 16회 반복 측정과 Weilbull distribution을 통해 신뢰도를 향상시켰다. 측정 결과 Zirconium(Zr) 박막의 경우 21.53 GPa과 22.18 GPa 측정되었으나 Si 기판은 17.46 GPa 16.33 GPa으로, 그리고 HfN 박막의 경우 25.18 GPa과 27.75 GPa으로 상대적으로 큰 차이를 확인하였다. Si 기판과 HfN의 측정결과 Weibull distribution는 75.02와 70.23인 반면 Zr 박막은 30.94로 상대적으로 불균일한 특성을 확인하였다. 이 결과들로부터 각각의 박막 결정 배양 방향에 따른 분석의 한가지 방법으로 Nano-Indenter 분석 기법을 사용할 수 있는 가능성을 확인하였다.

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Deposition mechanism of $Bi_4Ti_3O_{12}$ films on Si by MOCVD and property improvement by pulse injection method (MOCVD $Bi_4Ti_3O_{12}$ 박막의 실리콘 위에서의 증착기구 및 유기 금속원료의 펄스주입법에 의한 박막 특성 개선)

  • 이석규;김준형;최두현;황민욱;엄명윤;김윤해;김진용;김형준
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.9 no.4
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    • pp.373-378
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    • 2000
  • There was a great difference in the formation kinetics of $TiO_2$ and $Bi_2O_3$ on silicon, but the growth of bismuth titanate (BIT) thin film was mainly limited by the formation of $TiO_2$. As a result, the BIT film was easy to be lack of bismuth. The pulse injection metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) process was introduced in order to overcome this problem by recovering the insufficient bismuth content in the film. By this pulse injection method, bismuth content was increased and also the uniform in-depth composition of the film was attained with a abrupt $Bi_4Ti_3O_{12}/Si$ interface. In addition, the crystallinity of $Bi_4Ti_3O_{12}$ thin film prepared by pulse injection process was greatly improved and the leakage current density was lowered by 1/2~1/3 of magnitude. Clockwise hysteresis of C-V was observed and the ferroelectric switching was confirmed for $Bi_4Ti_3O_{12}$ film deposited by pulse injection method.

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펄스레이저를 이용한 $MgTiO_3$ 박막의 성장 및 특성

  • 강신충;임왕규;이재찬
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.68-68
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    • 2000
  • 펄스레이저 증착법(이하 PLD)을 이용하여 마이크로파 유전체 소자 및 절연 산화막으로의 응용을 위한 MgTiO3 박막을 다양한 기판상에서 증착하였다. 사파이어 기판에 (a,c-plane Al2O3) 성장된 MgTiO3 박막은 에피텍셜 성장(epitaxial growth)이 되었으며, SiO2/Si 및 Pt/Ti/Si 기판위세 성장된 MgTiO3 박막의 경우 003방향으로 배향(oriented) 되었다. MgTiO3 박막은 450~75$0^{\circ}C$까지 기판온도를 변화시키면서 증착시켰으며, 증착시 산소분압은 50~200 mTorr로 변화시켰다. PLD 증착시 타켓에 조사된 레이저 에너지 밀도는 약 2J/cm2였으며, MgTiO3 박막 증착후 200Torr O2 분위기에서 상온까지 1$0^{\circ}C$/min 의 속도로 냉각시켰다. 사파이어 c-plane 상에서 일머나잇(ilminite) MgTiO3 구조가 55$0^{\circ}C$ 에피텍셜 성장하는 것을 관찰할 수 있었으며, 사파이어 a-plane 상에서는 MgTiO3 구조가 $650^{\circ}C$ 이상부터 110방향으로 배향되며 성장하였다. $600^{\circ}C$ 이상에서 c-축으로 배향된 구조를 갖고 있었다. 증착된 MgTiO3 박막의 조성분석(stoichio metric analysis)을 위해 RBS 분석을 수행하여, 증착에 이용된 타켓과 동일한 조성을 갖는 MgTiO3 박막이 성장된 것을 확인할 수 있었다. 사파이어 기판상에 증착된 MgTiO3 박막은 가시영역에서 투명하였으며, 약 270nm 파장을 갖는 영역에서 급격한 흡수단을 보였다. 이때의 MgTiO3 박막은 AFM 분석을 통해 약 0.87mn rms roughness 값을 갖는 매우 평탄한 표면구조를 갖고 있는 것을 확인하였다. MIM(Pt/MgTiO3/Pt) 구조의 캐패시터를 형성시켜 MgTiO3 박막의 유전특성(dielectric properties)을 관찰하였다. PLD로 성장된 MgTiO3 박막의 유전율(relative dielectric constant)은 약 22였으며, 1MHz에서 약 1.5%의 유전손실(dielectirc loss) 값을 보였다. 또한 이때 MgTiO3 박막은 낮은 유전분산값을 보였다.

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Comparative Study on Usefulness of SPAIR and STIR Fast SE T2-weighted 3T Magnetic Resonance Imaging (3T 고속스핀에코 T2강조영상에서 지방소거 반전회복기법의 유용성 연구 - SPAIR와 STIR와의 비교 -)

  • Lee, Hoo-Min;Yoon, Joon;Yeo, Young-Bok
    • Journal of radiological science and technology
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    • v.33 no.1
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    • pp.45-50
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    • 2010
  • In this study, we compared the clinical usefulness of SPAIR (Spectral Adiabatic Inversion Recovery) and STIR (Short TI Inversion Recovery) to evaluate the fat tissues precisely. The images of brain axial (n = 20), lumber spine sagittal (n = 20), hip joint coronal (n = 17) and knee joint (n = 25) were obtained by turbo spin echo T2 weighted method on 3T magnetic resonance image. The signal intensity (SI) values were measured using region of interest in fat, muscle tissue, and background noise. The inhomogeneity values were measured using the standard deviation (SD) value divided by the mean values. SD signifies the amount of error which is similar to the imaging heterogeneity. In brain axial images, the SPAIR showed more superior SI and inhomogeneity results than the STIR. In spine, hip and knee images, STIR showed more excellent SI results, but poor inhomogeneity than the SPAIR.

Analysis of technical environment of domestic fintech companies (국내 핀테크 기업의 기술 환경 분석)

  • Choi, Yoo-jung;Choi, Hun
    • Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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    • v.24 no.10
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    • pp.1384-1389
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    • 2020
  • Although the fintech industry is developing rapidly around the world, the domestic development situation is rather slow compared to the speed. Therefore, the future development direction can be set by analyzing the current status of the fintech industry in order to suggest the direction of development in the domestic fintech industry. The main services provided by companies belonging to the domestic fintech industry are in the areas of remittance settlement, financial investment, asset management, crowdfunding, P2P finance, overseas remittance, fintech SI, insurtech, virtual currency, security, and authentication. It is divided into. This study identifies the main technologies used in the service and grasps the current domestic status. In addition, it analyzes the distribution of workers by each service. This study is expected to play an important role in the development of the financial industry through technical analysis of fintech companies.