• Title/Summary/Keyword: SF6 가스

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Development on the Methodology of CDM Projects in the SF6 Recovery and Recycling of Electrical Equipment (전력설비에서의 SF6 회수 및 재활용 CDM 방법론 개발)

  • Pyo, Jeong-Gwan;Sa, Jae-Hwan;Jeon, Eui-Chan
    • Journal of Climate Change Research
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    • v.2 no.3
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    • pp.143-159
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    • 2011
  • Projects applying the CDM methodology AM0035 of the $SF_6$ Emission Reductions in Electrical Grids should provide direct monitoring of all the key parameters that are related to estimation of baseline and project emissions including detailed explanations of key operating conditions and procedures, and an explanation addressing uncertainty as the result of EB meeting 41. Through this study, recovery ratio during maintenance, purity of $SF_6$ before and after disposal, replacing, loss rate of $SF_6$ before and after reclamation, leakage emission from electricity consumption and fossil fuel combustion, considered conservatively the key parameter of various monitoring. Consequently, confirmed the reduction in the amount of reduction due to the baseline emission decrease, project emission increase.

A Study on the Dielectric Strength in Section of Winding in SF6 Gas Transformer ($SF_6$ 가스절연변압기에서 권선의 섹션에 대한 절연내력 연구)

  • Heo, U-Haeng;Ha, Yeong-Sik;Hong, Jeong-Pyo;Kim, Gyu-Tak
    • The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers B
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    • v.49 no.3
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    • pp.152-158
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    • 2000
  • This paper deal with the experimental discussion about the impulse and AC dielectric strength of SF6 gas insulated transformer. Test sample is measured the dielectric breakdown voltage about modeling of the first and second section which is the weakest for surge voltage. The AC breakdown voltage is appeared 1.4 times than impulse breakdown voltage, so we can estimate that the impulse breakdown voltage is severe to AC breakdown voltage, and when the impulse is applied, in case of lmm tapping with Nomex paper, the characteristics of dielectric breakdown voltage is same to that in oil immersed transformer when SF6 gas pressure is 2.2kg/$cm^2$G.

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Characteristics of $SF_6$ Gas for Kinds of Applied Voltage (인가전원에 따른 $SF_6$ 가스의 절연특성)

  • Yoon, D.H.;Choi, E.H.;Song, H.J.;Do, Y.H.;Kim, J.H.;Lee, K.S.
    • Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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    • 2005.11a
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    • pp.293-295
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    • 2005
  • 산업현장에서 많이 사용되고 있는 전력기기의 이상 발생에는 여러 가지 원인이 있을 수 있다. 어떤 경우든 사고로 진전되면 경제적, 인적 손실이 발생된다. 본 논문은 GIS 및 많은 전력기기에서 사용되고 있는 절연매체인 $SF_6$의 인가되는 전압의 종류에 따라 저온에서의 절연파괴 특성을 알아보기 위해 모의 GIS 장치에 교류 전압 및 부극성 직류 전압 등 전원의 종류를 달리 하면서 각각의 전원 종류에 대한 $SF_6$가스의 절연파괴 전압을 측정하였다. 본 연구 결과는 SF6가스를 절연매체로 이용하는 전력기기를 혹한지역의 전력계통에서 사용할 때 전원의 종류에 따른 절연설계에 중요한 자료가 될 것으로 사료된다.

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환경저부하형 신절연/소호매체 개발 동향

  • 이동희
    • Electrical & Electronic Materials
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    • v.13 no.2
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    • pp.48-52
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    • 2000
  • 우수한 절연성능과 소호성능을 가진 SF6 가스의 사용이 지구온난화 문제를 배경으로 국제적으로 규제되는 경향에 있다. 이 과정에서 환경을 배려한 차세대의 전력기기·시스템을 구축하기 위해 새로운 절연·소호매체의 개발이 시급한 과제로 대두되어 있다. 본 고에서는 SF6 대체가스의 절연특성에 관한 연구 동향과 SF6 대체가스의 아크 차단특성에 관한 연구 동향 등을 살펴보고, 향후 환경저부하형 신절연/소호매체 개발을 위한 연구 가제 등에 대해 기술해 보았다.

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A Study on Etching of Si3N4 Thin Film and the Exhausted Gas Using C3F6 Gas for LCD Process (LCD 공정용 C3F6 가스를 이용한 Si3N4 박막 식각공정 및 배출가스에 관한 연구)

  • Jeon, S.C.;Kong, D.Y.;Pyo, D.S.;Choi, H.Y.;Cho, C.S.;Kim, B.H.;Lee, J.H.
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.21 no.4
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    • pp.199-204
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    • 2012
  • $SF_6$ gas is widely used for dry etching process of semiconductor and display fabrication process. But $SF_6$ gas is considered for typical greenhouse gas for global warming. So it is necessary to research relating to $SF_6$ alternatives reducing greenhouse effect in semiconductor and display. $C_3F_6$ gas is one of the promising candidates for it. We studied about etch characteristics by performing Reactive Ion Etching process of dry etching and reduced gas element exhausted on etching process using absorbent Zeolite 5A. $Si_3N_4$ thin film was deposited to 500 nm with Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and we performed Reactive Ion Etching process after patterning through photolithography process. It was observed that the etch rate and the etched surface of $Si_3N_4$ thin film with Scanning Electron Microscope pictures. And we measured and compared the exhausted gas before and after the absorbent using Gas Chromatograph-Mass Spectrophotometry.

A Study on Plasma Etching of Tungsten Thin Films using $SF_6$ and $SF_6-N_2$ gases ($SF_6$$SF_6-N_2$ 가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구)

  • Ko, Yong-Deuk;Jeong, Kwang-Jin;Choi, Song-Ho;Koo, Kyoung-Wan;Cho, Tong-Yul;Chun, Hui-Gon
    • Journal of Sensor Science and Technology
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    • v.8 no.3
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    • pp.291-297
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    • 1999
  • The plasma etching of tungsten thin films has been studied with $SF_6$ gas in RIE system. The etch rate of ${\alpha}$-phase W film with $SF_6$ gas plasma has been showed to depend strongly on process parameters ($SF_6$, $SF_6-N_2$ gas). Effect of $N_2$ addition and etching selectivity between W film and photoresist have also been studied in detail. Etching profiles between W film and photoresist were investigated by SEM. The compounds on W surface after $SF_6-N_2$ gas plasma treatment were examined by XPS and the concentration of F ions was detected by OES during plasma on.

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A study of Breakdown characteristics of $SF_6$ and Dry-Air with Pressure Variation under Uniform (평등전계에서 $SF_6$와 건조공기(Dry-Air)의 압력별에 따른 절연특성 연구)

  • Kim, Young-Su;Kim, Do-eok;Kim, Jeong-Bae;Park, Kwang-Seo;Lee, Kwang-Sik
    • Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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    • 2007.11a
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    • pp.255-258
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    • 2007
  • 본 연구는 현재 전력설비에 사용되고 있는 $SF_6$가스의 대체 절연가스로 건조공기(Dry-Air)의 절연파괴특성 연구를 위하여 모의 GIS 챔버와 AC 300[kV], DC(-) 150[kV] 전원장치로 교류 및 직류고전압을 인가하여 연구를 수행하였다. 평등전계인 구전극 대 구전극을 이용하여 $SF_6$ 가스와 건조공기(Dry-Air)의 절연내력을 비교하기 위해서 20, 30 및 40[N/$cm^2$ ]까지 가스의 압력변화를 주었고 각 압력별 전극간거리(d)에 따른 절연파괴전압($V_B$)을 연구하였다.

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A Study on the Etcting Technology for Metal Interconnection on Low-k Polyimide (Low-k Polyimide상의 금속배선 형성을 위한 식각 기술 연구)

  • Mun, Ho-Seong;Kim, Sang-Hun;An, Jin-Ho
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.10 no.6
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    • pp.450-455
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    • 2000
  • For further scaling down of the silicon devices, the application of low dielectric constant materials instead of silicon oxide has been considered to reduce power consumption, crosstalk, and interconnection delay. In this paper, the effect of $O_2/SF_6$ plasma chemistry on the etching characteristics of polyimide-one of the promising low-k interlayer dielectrics-has been studied. The etch rate of polyimide decreases with the addition of $SF_6$ gas due to formation of nonvolatile fluorine compounds inhibiting reaction between oxygen and hydrocarbon polymer, while applying substrate bias enhances etching process through physical attack. However, addition of small amount of $SF_6$ is desirable for etching topography. $SiO_2$ hard mask for polyimide etching is effective under $O_2$plasma etching(selectivity~30), while $O_2/SF_6$ chemistry degrades etching selectivity down to 4. Based on the above results, $1-2\mu\textrm{m}$ L&S PI2610 patterns were successfully etched.

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$SF_6$ 가스절연 개폐장치일반

  • 강길건
    • 전기의세계
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    • v.40 no.1
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    • pp.23-26
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    • 1991
  • 본고에서는 SF$_{6}$ 가스절연개폐기의 특징, 형상, 국내 개발현황을 간략히 소개하고, 개폐기가 발전해온 역사 및 향후 방향을 도표로 검토함으로서 실수요자로 하여금 GIS전반에 대한 이해를 돕고자 한다.

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Insulation Characteristic Analysis of SF6 Voltage Transformer between Windings (SF6 계기용 변압기의 권선간 절연특성해석)

  • Son, Ju-Wan;Hahn, Sung-Chin
    • Proceedings of the KIEE Conference
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    • 2011.07a
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    • pp.1063-1064
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    • 2011
  • GIS에 이상전압이 흐를 때, 이를 계측하여 전력기기의 손상 및 고장을 미연에 방지하기 위해 SF6 계기용 변압기를 사용한다. 이러한 계기용 변압기는 절연 파괴가 일어나지 않도록 설계하여야 한다. 특히, 절연은 권선 부분이 중요한 구성 요소로, 권선간의 전기적 절연특성해석을 통하여 전계강도를 완화할 수 있는 절연 설계를 수행하여야 한다. SF6 계기용 변압기는 SF6가스의 유전율이 절연물에 비해 적기때문에 가스에서의 전계 집중 현상이 생기게 된다. 본 논문에서는 SF6 계기용 변압기의 권선간 절연특성해석을 수행하였다. 1차 권선과 2차 권선의 형상을 모델링하고 유한요소법을 사용하여 축대칭 2차원 전계해석을 수행한다. 이 때 발생하는 전계강도를 예측하고 최대전계강도가 발생하는 영역을 찾는다.

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