An experimental study for the comparison of nitrogen and phosphorus removal efficiencies between $A^2/O$ and modified Phostrip (M-Phostrip process) were carried out with bench-scale reactors. In case of nitrogen removal efficiencies both of processes showed similar ones when influent organic loadings were high. However, M-phostrip process was more effective than $A^2/O$ at low organic loadings. This is why M-phostrip process consumes the whole mass of influent organics as a carbon sources for denitrification in anoxic reactor but the anoxic reactor of $A^2/O$ process utilizes the residual carbon followed by consumming a part of influent carbon for phosphorus release in anaerobic reactor. $A^2/O$ process required the influent COD/T-P and COD/TKN ratios were more than 56 and 10, respectively, to take place the phosphorus release in anaerobic process and phosphorus uptake in oxic process. However, the luxury uptake of phosphorus in M-phostrip process was not affected by influent COD/T-P and COD/TKN ratios and the adverse effect of nitrate in return sludge introduced to the p-stripper from the 2nd clarifier was not significant due to the configurational advantage of the p-stripper.
The removal of protozoa in the coagulation process was evaluated under the different pH and turbidity using the jar test after the addition of polyaluminium chloride (PAC) as a coagulant. Two well-known protozoa of Cryptosporidium parvum and Giardia lamblia were tested at the same time with turbidity, the critical water quality parameter of the water treatment process. Both protozoa were removed about 1log (and up to 2log) at the optimum injection of PAC. The source water turbidity and pH affected the removal of protozoa and turbidity. At neutral and alkaline pH, 1.3-1.7log removal of protozoa for low turbid water with 5NTU, and 1.6-2.3log removal for high turbid water with 30NTU were achieved. However, at acidic pH, maximum 0.8-1.0log and 1.1-1.2log were removed for low and high turbid water, respectively, at the optimum PAC injection of 15mg/L. The relation of protozoa and turbidity removals were expressed as the 1st order equation (significantly positive relation) in the most of the tested conditions. In addition, the relation of protozoan removals with residual turbidity were also expressed the 1st order equation (significantly negative relation), although the significance of the equations were reduced at acidic pH. Therefore, residual turbidity could be a good index of efficient protozoan removal in the coagulation process, probably except at the low pH condition.
RC delay is a critical issue for achieving high performance of ULSI devices. In order to minimize the RC delay time, we uses the CMP process to introduce high-conductivity Cu and low-k materials on the damascene. The low-k materials are generally soft and fragile, resulting in structure collapse during the conventional high-pressure CMP process. One troubleshooting method is electrochemical mechanical polishing (ECMP) which has the advantages of high removal rate, and low polishing pressure, resulting in a well-polished surface because of high removal rate, low polishing pressure, and well-polished surface, due to the electrochemical acceleration of the copper dissolution. This study analyzes an electrochemical state (active, passive, transpassive state) on a potentiodynamic curve using a three-electrode cell consisting of a working electrode (WE), counter electrode (CE), and reference electrode (RE) in a potentiostat to verify an electrochemical removal mechanism. This study also tries to find optimum conditions for ECMP through experimentation. Furthermore, during the low-pressure ECMP process, we investigate the effect of current density on surface roughness and removal rate through anodic oxidation, dissolution, and reaction with a chelating agent. In addition, according to the Faraday’s law, as the current density increases, the amount of oxidized and dissolved copper increases. Finally, we confirm that the surface roughness improves with polishing time, and the current decreases in this process.
In this study, a new cleaning process with a low cost of ownership (CoO) was developed with ozonated DI water ($DIO_3$). An ozone concentration of 40 ppm at room temperature was used to remove organic wax film and particles. Wax residues thicker than $200\;{\AA}$ remained after only a commercial dewaxer treatment. A $DIO_3$ treatment in place of a dewaxer showed a low removal rate on a thick wax layer of $8000\;{\AA}$ due to the diffusion-limited reaction of ozone. A dewaxer was combined with a $DIO_3$ rinse to reduce the wax removal time and remove wax residue completely. Replacing DI rinse with the $DIO_3$ rinse resulted in a surface with a contact angle of less than $5^{\circ}$, which indicates no further cleaning steps would be required. The particle removal efficiency (PRE) was further improved by combining a SC-1 cleaning step with the $DIO_3$ rinsing process. A reduction in the process time was obtained by introducing $DIO_3$ cleaning with a dewaxing process.
Halim, Ronald;Utama, Robert;Cox, Shane;Le-Clech, Pierre
Membrane and Water Treatment
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제1권4호
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pp.283-296
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2010
During the disinfection of potable water, humic substances present in the solution react with chlorine to form potential carcinogenic compounds. This study evaluates the feasibility of using a submerged membrane photocatalysis reactor (SMPR) process for treatment of humic substances through the characterization of both organic removal efficiency and membrane hydraulic performance. A simple SMPR was operated and led to the removal of up to 83% of the polluting humic matters. Temporal rates of organic removal and membrane fouling were found to decrease with filtration time. Using tighter membrane in the hybrid process resulted in not only higher organic removal, but also more significant membrane fouling. Under the experimental conditions tested, optimum $TiO_2$ concentration for humic removal was found to be 0.6 g/L, and increasing initial pollutant concentration expectedly resulted in a more substantial membrane fouling. The importance of the influent nature and pollutant characteristics in this type of treatment was also assessed as various water sources were tested (model humic acid solution vs. local water containing natural organic matters). Results from this study revealed the promising nature of the SMPR process as an alternative technique for organic removal in the existing water treatment system.
In order to know the effect of atuoclaving on the heavy metal removal using chitosan, lead removal capacities and removal rates by various chitosans in aqueous solution were compared according to the various autoclaving time. The lead removal efficiencies and removal rates by the autoclaved chitosan were found to be on the order of 15 min(98%) > 10 min(95%) > 30 min(83%) > 5 min(53%) > 60 min(47%) > 0 min(22%) chitosan. The molecular weight of chitosan was decreased by the increase of autoclaving time. Therefore, the heavy metal removal capacity was not well correlated to the molecular weight. Langmuir isotherm was well fitted to experimental results of equilibrium adsorption on chitosan. In order to examine the process of lead removal by the autoclaved chitosan, TEMs, SEMs and FT-IR analyses were used. The surface of autoclaved chitosan was much more porous and the lead removal was mainly occurred on the surface of chitosan. The structure of autoclaved chitosan was same as that of controlled chitosan.
Using rotating biological contactor(RBC) with artificial endogenous stage and aerobic fixed biofilm reactor(AFBR), organic material removal and biological nitrification of piggery wastewater has been studied at a pilot plant. RBC was operated in the endogenous phase at a interval of every 25 days. The concentration of COD, BOD and TKN in influent wastewater were from 2,940 to 3,800 mg/L, from 1,190 to 1,850 mg/L and from 486 to 754 mg/L respectively. The maximum active biomass content represented as VSS per unit aera was $2.0mg/cm$^{2}$ and biofilm dry density of $17mg/cm^{3}$ was observed at biofilm thickness of $900{\;}{\mu}m$. It was observed that the pilot scale RBC/AFBR process exhibited 72 percentage to 93 percentage of BOD removal, In order to obtain more than 90 percentage of BOD removal, the organic loading rate to the RBC/AFBR process should be maintained less than $0.09{\;}m^{3}/m^{2}{\cdot}day(125.9g{;\}BOD/m^{3}{\cdot}d$. The TKN removal efficiencies was from 45.5 to 90.9 percentage according to vary influent loading rate, It was estimated that the RBC/AFBR process consumed approximately 6.2 mg/L(as $CaCO_{3}$) of alkalinity per 1 mg/L of $NH_{3}$-N oxidized as the nitrification took piace.
Cadmium telluride (CdTe) is one of the most attractive photovoltaic materials due to its low cost, high efficiency and stable performance in physical, optical and electronic properties. Few researches on the influences of uniform surface on the photovoltaic characteristics in large-area CdTe solar cell were not reported. As the preceding study of the effects of thickness-uniformity on the photovoltaic characteristics for the large-area CdTe thin film solar cell, chemical mechanical polishing (CMP) process was investigated for an enhancement of thickness-uniformity. Removal rate of CdTe thin film was 3160 nm/min of the maximum value at the 200 $gf/cm^2$ of down force (pressure) and 60 rpm of table speed (velocity). The removal rate of CdTe thin film was more affected by the down force than the table speed which is the two main factors directly influencing on the removal rate in CMP process. RMS roughness and peak-to-valley roughness of CdTe thin film after CMP process were improved to 96.68% and 85.55%, respectively. The optimum process condition was estimated by 100 $gf/cm^2$ of down force and 60 rpm of table speed with the consideration of good removal uniformity about 5.0% as well as excellent surface roughness for the large-area CdTe solar cell.
There are a lot of parameters affecting microbial acclimation/cultivation characteristics such as dynamic conditions, F/M ratio and substrate affinity. From the process control point of view, the effect of high salinity on the removal efficiencies of BOD and SS have been documented by few researchers. In this research, lab-scale CAS(Conventional Activated Sludge) process and modified $A_2O$(Anaerobic/Anoxic/Oxic) process were operated and monitored to evaluate the characteristics of microbial acclimation and cultivation under high salinity wastewater during the period of three weeks. As a result of acute microbial activity test(6hr) at various $Cl^-$ concentration, the appropriate $Cl^-$ concentration for microbial growth and acclimation ranged under 3,100 mg/l. As a result of acclimation/cultivation test, the trend of COD removal efficiency reduced gradually as time elapsed. It is considered that $NH_4$-N removal phenomenon of the conventional pollutants removal mechanisms gave little effect to the microbial acclimation/cultivation under high salinity wastewater.
The necessity and the importance of the remanufacturing are increasing day by day along with environmental problems. Many studies are being conducted on remanufacturing, but the research for cleaning is much lacking. This study aims to evaluate the effective cleaning method for remanufacturing of start motors, one of the automobile parts. The cleaning process consists of oil stain removal, drying and rust removal processes. In this study, the two processes were conducted except for the drying process which has little influence on cleaning. The methodology for cleaning agent selection, degreasing and rust removal process was presented. For each methodology, five analysis factors were calculated by two-way comparison according to the process, and the values were evaluated quantitatively by substituting them into the evaluation table. In the selection of cleaning agent, neutral system, ultrasonic cleaning in degreasing, and grinding in rust removal were selected as the best cleaning methods.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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