$N_2O$ 플라즈마 열처리에 의한 저유전율 SiOF 박막의 물성 안정화
(Stabilizing Properties of SiOF Film with Low Dielectric Constant by $N_2O$ Plasma Annealing)
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- 한국재료학회지
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- 제8권4호
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- pp.317-322
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- 1998