The impact of effective parameters on the electrodeposition rate optimization of Au-Cu alloy at high thicknesses on the silver substrate was investigated in the present study. After ensuring the formation of gold alloy deposits with the desired and standard percentage of gold with the cartage of 18K and other standard karats that should be observed in the manufacturing of the gold and jewelry artifacts, comparing the rate of gold-copper deposition by direct and pulsed current was done. The rate of deposition with pulse current was significantly higher than direct current. In this process, the duty cycle parameter was effectively optimized by the "one factor at a time" method to achieve maximum deposition rate. Particular parameters in this work were direct and pulse current densities, bath temperature, concentration of gold and cyanide ions in electrolyte, pH, agitation and wetting agent additive. Scanning electron microscopy (SEM) and surface chemical analysis system (EDS) were used to study the effect of deposition on the cross-sections of the formed layers. The results revealed that the Au-Cu alloy layer formed with concentrations of 6gr·L-1 Au, 55gr·L-1 Cu, 24 gr·L-1 KCN and 1 ml·L-1 Lauryl dimethyl amine oxide (LDAO) in the 0.6 mA·cm-2 average current density and 30% duty cycle, had 0.841 ㎛·min-1 Which was the highest deposition rate. The use of electrodeposition of pure and alloy gold thick layers as a production method can reduce the use of gold metal in the production of hallow gold artifacts, create sophisticated and unique models, and diversify production by maintaining standard karats, hardness, thickness and mechanical strength. This will not only make the process economical, it will also provide significant added value to the gold artifacts. By pulsating of currents and increasing the duty cycle means reducing the pulse off-time, and if the pulse off-time becomes too short, the electric double layer would not have sufficient growth time, and its thickness decreases. These results show the effect of pulsed current on increasing the electrodeposition rate of Au-Cu alloy confirming the previous studies on the effect of pulsed current on increasing the deposition rate of Au-Cu alloy.
The non-thermal pasteurization of foods using High Voltage High Current Pulsed Electric Fields (HVHC-PEF) is a promising technology and a sound complement or replacement to traditional thermal pasteurization. The conventional thermal method also inactivates bacteria and other microorganisms harmful to humans, but degrades natural color, flavor, texture and nutrients. At this point, a nonthermal pasteurization technique, HVPEF is thought to be a new processing technique which is able to produce a good quality foods nutritional as well as sensuous. In this paper, the system for HVHC-PEF pasteurization is presented. It use square wave pulse instead of exponential ones. So, power rating of system is reduced considerably. Design considerations for 20kV 500A class equipment are analyzed and experimental results are discussed.
High Voltage High Current Pulsed Electric Fields (HVHC-PEF) is a promising technology for the non-thermal pasteurization of foods and a sound complement or replacement to traditional thermal pasteurization, which inactivates bacteria and other microorganisms harmful to humans, but also degrades color, flavor, texture and nutrients. Foods can be pasteurized with pulsed electric fields at ambient or refrigerated temperatures for a short treatment time of seconds or less and the fresh-like quality of food is preserved. Although successful in laboratory tests, applying HVHC-PEF to food pasteurization on a large scale presents many unresolved engineering problems. In this paper the design considerations for 25kV 1kA class HVHC-PEF pasteurization equipment are analyzed and experimental results are discussed.
The coupling between electric, magnetic, and structural order parameters results in the so-called multiferroics, which possess ferroelectricity, ferromagnetism, and/or ferroelasticity. The simultaneous ferroelectricity and ferromagnetism (magnetoelectricity) allow potential applications in information storage, spintronics, and in magnetic or electric field sensors. Perovskite compound $BiFeO_3$ (BFO) is antiferromagnetic below Neel temperature of 647K and ferroelectric with a high Curie temperature of 1043K. It exhibits weak magnetism at room temperature(RT) due to the residual moment from a canted spin structure. It is likely that non-stoichiometry and second-phase formation are the factors which cause leakage in BFO. It has been suggested that oxygen non-stoichiometry leads to valence fluctuations of Fe ions in BFO, resulting in high conductivity. To reduce the large leakage current of BFO, one attempt is fabricating donor doped BFO compounds and thin films. We report here the successful fabrication of the Nd, Ti co-doped $BiFeO_3$ ceramics and thin films by pulsed laser deposition technique.
A conventional electrolyzing cell has been made by an ion exchange membrane inbetween parallel plate electrodes. A low dc voltage is applied to the electrodes for electrolyzing and the efficiency is remained in low. in this study, a novel electrolyzing cell with a pair of slit-type third electrodes installed inbetween parallel plate electrodes has been proposed and investigated experimentally. And pulse power wa supplied to between each electrodes. This slit type of third electrodes can concentrate the strong electric fields at the every its edges to accelerate the electrolyzing powers, and to generate oxygen bubble discharges for generating oxidants. And moreover the slits eliminate the space charge limiting action and the temperature of the water by leaking out through the slits from electrolyzing region to outside of the main electrode region. As a result, it was found that a strong electorzed water of pH 2.8 and pH 10.5 and oxidants dissolved water of 1 [ppm] in acidic water were obtained with a tap water fed at the electric current of 2 [A], which however were several times higher oxidant and ion concentration quantity compared with the conventional cell.
Numerical analysis is done to investigate the effects of pulse bias on the plasma processing characteristics like ion doping and ion nitriding by using fluid dynamic code with a 2D axi-symmetric model. For 10 mTorr of Ar plasma, -1 kV of pulse bias was simulated. Maximum sheath thickness was around 20 mm based on the electric potential profile. The peak electron temperature was about 20 eV, but did not affect the averaged plasma characteristics of the whole chamber. Maximum ion current density incident on the substrate was 200 $A/m^2$ at the center, but was decreased down to 1/10th at radius 100 mm, giving poor radial uniformity.
$Si_3N_4$/TiN nano/nano-type composites were successfully fabricated by the combination of a mechano-chemical grinding (MCG) method and a short time sintering process, and their wear resistance was evaluated. Powder mixtures of $\alpha-Si_3N_4$and Ti were prepared using mechano-chemical grinding process and the resulting nanocomposite powder mixtures were consolidated using pulsed electric current sintering (PECS). TEM observation showed that the nano/nano-type composites consisted of homogeneous and very fine matrix grains with the size less than 100 nm. The obtained $Si_3N_4$-based nano/nano-type showed high wear resistance and electric discharge machinability.
A pulsed power supply of 2.4MJ capacitor bank has been developed to make investigation into electric gun technology. It is made up of eight paralleled 300kJ modules, and can supply various shape of high current pulse by changing charging voltage, inductance, capacitance, and firing time of each module. The 300kJ module has been designed and fabricated for the maximum operating voltage of 22kV, peak current of 150kA, and pulse duration of 1msec. The experiments of the modules were done, and the equivalent circuit of the module was determined. The characteristics of the module were analyzed more deeply through the circuit simulation. The experiments of the paralleled modules with inductance of 20 $\mu$H and load resistance of 100 m$\Omega$ were performed, where the modules were discharged simultaneously and/or sequentially. The results of the experiments were analyzed. The 2.4MJ capacitor bank is currently used as the pulsed power supply for the ETCG (Electro Thermal Chemical Gun) research.
A current-voltage relation for Positive Temperature Coefficient of Resistance (PTCR) ceramic was derived and compared with the experimental data. The new current-voltage relation was developed based on Heywangs double Schottky barrier model and a bias distribution across the grain boundary. The voltage limitation V < 4${\Phi}$$\sub$b/ suggested by Heywang is no longer necessary in the new expression for the voltage dependence of the resistance. The pulsed voltages were applied to the PTCR ceramic specimen in order to avoid possible temperature variation during the measurement.
In this paper, the new technology and R&D status is presented, which accelerates the projectile using the electrical energy to overcome the limit of the conventional gun. The ETC (electro_thermal_chemical) gun, one kind of electric guns, seems to be the highly probable candidate as the next generation gun. The high density power supply and the forming and control of the current pulse are required to develop the ETC gun. And, the interior ballistics considered the mechanism of ETC gun must to be studied.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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