• 제목/요약/키워드: Poly-(dimethylsiloxane)

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나노 복화(複畵)공정을 이용한 PDMS 스탬프 제작 (Fabrication of a PDMS (Poly-Dimethylsiloxane) Stamp Using Nano-Replication Printing Process)

  • 박상후;임태우;양동열;공홍진
    • 대한기계학회논문집A
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    • 제28권7호
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    • pp.999-1005
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    • 2004
  • A new stamp fabrication technique for the soft lithography has been developed in the range of several microns by means of a nano-replication printing (nRP) process. In the nRP process, a figure or a pattern can be replicated directly from a two-tone bitmap figure with nano-scale details. A photopolymerizable resin was polymerized by the two-photon absorption which was induced by a femtosecond laser. After the polymerization of master patterns, a gold metal layer (about 30 ㎚ thickness) was deposited on the fabricated master patterns for the purpose of preventing a join between the patterns and the PDMS, then the master patterns were transferred in order to fabricate a stamp by using the PDMS (poly-dimethylsiloxane). In the transferring process, a few of gold particles, which were isolated from the master patterns, remained on the PDMS stamp. A gold selective etchant, the potassium iodine (KI) was employed to remove the needless gold particles without any damage to the PDMS stamp. Through this work, the effectiveness of the nRP process with the PDMS molding was evaluated to make the PDMS stamp with the resolution of around 200 ㎚.

초임계 이산화탄소를 이용한 Phenolic/Furfural계 유기 겔 입자의 합성 및 물성 (Preparation and Characterization of Phenolic/Furfural Organic Gel Microspheres in Supercritical $CO_2$)

  • 이경남;이해준;김중현
    • 폴리머
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    • 제24권1호
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    • pp.8-15
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    • 2000
  • 본 연구에서는 초임계 이산화탄소를 반응 연속상으로 하여 졸-에멀젼-겔 방법에 의한 신합성 공정을 통해 1-6 $\mu\textrm{m}$의 평균 입자 크기를 갖는 페놀릭/퍼퍼랄(phenolic/furfural, P/F) 겔 입자를 성공적으로 제조하였다. 이때 초임계 이산화탄소에 잘 녹는 폴리디메틸실록산(poly-(dimethylsiloxane), PDMS)은 초임계 이산화탄소내에서 P/F 용액을 분산시키는 효과적인 안정제로 사용되었다. 입자 크기와 입자 크기 분포에 미치는 영향을 알아보기 위하여 고형분과 안정제 함량비를 변화시켜 실험한 결과, P/F 입자의 평균 입자 크기는 고형분의 함량비가 증가함에 따라 증가했으나, 안정제의 함량비에 따른 변화는 크지 않았다. 또한 P/F 겔 입자의 구조 및 열 안정성은 IR 분석과 TGA를 통해 확인하였다.

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일정한 주름을 갖는 친수성 PDMS 제작 및 응용 (Fabrication of Hydrophilic Poly(dimethylsiloxane)with Periodic Wrinkling Surface and Its Application)

  • 이동국;오창규;양승호;한승진;정옥찬
    • 전기학회논문지
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    • 제63권5호
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    • pp.671-675
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    • 2014
  • This paper presents a fabrication of hydrophilic Poly(dimethylsiloxane) (PDMS) with periodic wrinkling surface. The proposed periodic wrinkling surface was fabricated using the sequential processes of typical curing process of PDMS, cutting process, platinum deposition process, and wrinkling transfer process. The surface morphology of the fabricated wrinkling surface was observed by using optical and dynamic atomic force microscopy and discussed. The measured period and amplitude of wrinkling was about $2.2{\mu}m$ and $0.31{\mu}m$, respectively. And, the contact angles of water droplets on the wrinkled surface were measured in order to understand effect of the wrinkling surface on surface modification of hydrophobic PDMS. Our new finding was that the proposed wrinkling surface was hydrophilic and the measured contact angle was about $62^{\circ}$. Moreover, it was found out from the simple cell culture test that the fabricated wrinkling surface was more effective for cell spreading and adhesion than the case of native PDMS substrate.

OLED광원이 집적화된 마이크로 플루이딕칩의 제작 및 특성 평가 (Fabrication and characteristic evaluation of microfluidics chip integrated OLED for the light sources)

  • 김영환;한진우;김종연;김병용;서대식
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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    • pp.377-377
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    • 2007
  • A simplified integration process including packaging is presented, which enables the realization of the portable fluorescence detection system. A fluorescence detection microchip system consisting of an integrated PIN photodiode, an organic light emitting diode (OLED) as the light source, an interference filter, and a microchannel was developed. The on-chip fluorescence detector fabricated by poly(dimethylsiloxane) (PDMS)-based packaging had thin-film structure. A silicon-based integrated PIN photo diode combined with an optical filter removed the background noise, which was produced by an excitation source, on the same substrate. The active area of the finger-type PIN photo diode was extended to obtain a higher detection sensitivity of fluorescence. The sensitivity and the limit of detection (LOD S/N = 3) of the system were $0.198\;nA/{\mu}M$ and $10\;{\mu}M$, respectively.

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PTMSP-PEI와 PDMS-PEI 복합막에 의한 수소/질소 혼합기체 분리 (Separation of $H_2$/$N_2$ Gas Mixture by PTMSP-PEI and PDMS-PEI Composite Membranes)

  • 강태범;조성혜;이현경
    • 멤브레인
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    • 제13권4호
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    • pp.291-299
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    • 2003
  • PTMSP-PEI와 PDMS-PEI 복합막을 제조하고, 막의 특성을 FT-IR, $^1H-NMR,$ DSC, TGA, GPC, SEM을 사용하여 조사하였다. 제조된 PTMSP의 수평균분자량 (equation omitted)은 477,920 이었고, 중량평균분자량 (equation omitted)은 673,329이었고, 유리전이온도 ($T_g$)는 $224^{\circ}C$이었다. 제조된 고분자 복합막들에 의한 $H_2/N_2$ 혼합기체분리는 $25^{\circ}C$에서 압력의 변화에 따라 조사되었다. PTMSP-PEI와 PDMS-PEI 복합막들의 수소에 대한 분리인자 (${\alpha}, {\beta},$ equation omitted)값은 투과셀의 압력이 증가하면 증가하였다. PTMSP-PEI 복합막의 수소에 대한 (${\alpha}, {\beta},$ equation omitted 값은 ${\Delta}P$ 30psi 와 $25^{\circ}C$에서 2.28, 1.17, 1.96이었고, PDMS-PEI 복합막의 (${\alpha}, {\beta}$ equation omitted 값은 3.70, 1.53, 2.42 이었다.

양친성 그래프트 공중합체의 탄소나노튜브 분산제로의 이용 (Use of Amphiphilic Graft Copolymer as Dispersant for Carbon Nanotubes)

  • 전하림;안성훈;지원석;김종학
    • 폴리머
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    • 제35권6호
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    • pp.615-618
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    • 2011
  • 탄소나노튜브(CNT)는 뛰어난 전기적, 물리적인 특성으로 인해 차세대 소재로서 관심을 끌어 왔다. 그러나 탄소나노튜브들 사이에는 본질적으로 강한 소수성 상호작용이 내재하여 불규칙한 결합체를 생성하기 때문에 다양한 분야로의 응용이 어려웠다. 본 연구에서는 양친성 가지형 공중합체, poly(vinyl chloride)-graft-poly(oxyethylene methacrylate), PVC-g-POEM를 합성하였고 극성 용매에서 단일벽 탄소나노튜브를 분산시킬 수 있는 용이한 방법을 제시하였다. PVC-g-POEM는 원자전달 라디칼중합(ATRP)으로 중합되었고 gel permeation chromatography(GPC)와 $^1H$ NMR spectroscopy를 통해 성공적인 합성되었음을 확인하였다. 단일벽 탄소나노튜브는 분산제인 PVC-g-POEM와의 친화력으로 인해 극성 용매 dimethylsiloxane(DMSO)에서 균일하게 분산되었으며 transmission electron microscopy(TEM) 분석으로 단일벽 탄소나노튜브와 PVC-g-POEM의 상호작용으로 생성된 나노복합체의 분산 형태를 관찰하였다. 또한 용매증발 과정을 거쳐 우수한 균질성을 보이는 free-standing 나노복합체 막을 제조하였다.

알루미노규산염 나노입자를 이용한 Poly(dimethylsiloxane) 복합매질 분리막의 기체투과 특성 (Gas Permeability through Mixed Matrix Membrane of Poly(dimethylsiloxane) with Aluminosilicate Hollow Nanoparticles)

  • 방효질;정범석
    • 멤브레인
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    • 제29권1호
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    • pp.51-60
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    • 2019
  • 분리막 소재의 투과도와 선택도 사이의 trade-off 관계로 인해 여전히 많은 연구가 필요하다. 특히 고분자 분리막에 무기물 나노입자가 들어가 있을 때, 기체투과 거동의 학문적 이해는 여전히 부족하다. 따라서 본 연구에서는 분리막 소재로 가장 많이 사용되는 PDMS에 2~5 nm의 기공을 가지고 있으며 직경이 약 5 nm 크기의 aluminosilicate hollow nanoparticles인 allophane을 이용하여 복합매질 분리막을 제조하여 기체투과특성을 연구하였다. 대표적인 분리막 소재인 PDMS에 친수성 allophane, 그리고 나노입자에 undecylenic acid로 표면을 개질한 allophane을 막 내부에 고르게 분산시켜 함량 별로 복합매질 분리막을 제조하였다. 나노입자가 분산된 혼합매질 분리막 내에서 기체의 투과 특성을 파악하고, 이에 따른 기체투과 거동과 나노입자가 가지고 있는 기공의 역할을 평가하고자 하였다. 표면개질된 allophane을 첨가함에 따라 기체 투과도와 산소/질소 그리고 이산화탄소/메탄의 선택도가 동시에 점진적으로 향상되는 결과를 얻었다.

마이크로 컨택 프린팅을 이용하여 유기기판 위에 패턴 형성하는 방법

  • 김명수;이다혁;김기보;이진균;오범환;이승걸;박세근
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.390-390
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    • 2014
  • Soft-lithography 기술 중의 하나인 Micro-Contact Printing (${\mu}$-CP) 기술은 패턴이 형성된 mold 위에 고분자 물질을 코팅하고 기판과 접촉시켜, 패턴 된 부분만 기판으로 전사시켜 패턴을 형성하는 방법이다. ${\mu}$-CP 기술은 Imprint 방식과 비교하여 잔여물을 제거하기 위한 ashing 공정이 필요 없으며, 상대적으로 패턴이 전사되기 위한 공정 온도와 압력이 낮은 장점이 있다. 한편, 기존의 Photolithography 기술로 유기기판에 패턴을 형성하는 것은 제한이 있으며, 자외선에 의해 유기기판의 특성이 변화될 수 있다. 또한 패턴 형성 후 고분자 패턴을 제거하는 용매가 기판이 손상 받게 된다. 본 실험에서는 poly (1H,1H,2H,2H-perfluorodecyl methacrylate) polymer (PFDMA) films을 패턴 된 poly (dimethylsiloxane) (PDMS) mold 위에 코팅하고 ${\mu}$-CP 기술을 통해 poly (methylmethacrylate) (PMMA), poly (vinyl pyrrolidone) (PVP)등과 같은 유기기판 위에 고분자 패턴 형성을 하였다. 이때 전사 가능한 온도는 상온이며, 압력은 코팅된 PFDMA films이 기판과 접촉될 수 있는 정도만 필요하다. PFDMA가 상온에서 전사 가능한 이유는 유리전이온도가 상온보다 낮기 때문이다. 또한 접촉각을 측정하여 접착력을 계산하면 PFDMA와 기판과의 접착력이 상대적으로 높기 때문이다. PFDMA는 플루오르계 용매에 제거되기 때문에 유기기판의 손상을 최소화 할 수 있다. ${\mu}$-CP 기술을 이용한 PFDMA의 패턴 형성 방법은 물질의 특성으로 flexible 및 organic device 제작에 응용 될 수 있다.

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Synthesis and characterization of silicone-containing polyamideimide and its gas separation

  • 이용범;심진기;이영무
    • 한국막학회:학술대회논문집
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    • 한국막학회 1997년도 추계 총회 및 학술발표회
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    • pp.83-84
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    • 1997
  • 1. INTRODUCTION : Polyimides containing siloxane moiety(poly(imide siloxane), or polysiloxaneimide) have been synthesized because of their some merits over polyimide itseft. Polyimides have excellent thermal and mechanical properties but their poor solubility and processibility in their fullly imidized form give disadvantages in applications. Incorporation of siloxane units make it possible to increase solubility and processibility, and also impart impact resistance, low moisture uptake, low dielectric constant, thermo-oxidative resistance, good adhesion properties to substrate and etc.. Incorporation methods of siloxane groups into the polyimide was mainly copolymerization or terpolymerization between oligomeric dimethylsiloxane and aromatic dianhydride. A few methods of introducing siloxane units in functional groups of polyimide was reported. In our laboratory poly(amideimide siloxane) and poly(imide siloxane) were prepared and the study about their thermal kinetics was performed. In separation membrane area, polysiloxaneimides was utilized in pervaporation and gas separation. Polyimides in gas separation show high selectivity and very low permeability, and introduction of siloxane segments increase permeability with low decrease in selectivity. We aimed to introduce silicone segments into poly(amic acid) state and synthesize polymer partially imidized, and also show the gas separation characteristics of the synthesized polymer.

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