$CF_4/O_2$ gas chemistry에 의한 Ru 박막의 식각 특성
(Etching characteristics of Ru thin films with $CF_4/O_2$ gas chemistry)
-
- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
- /
- 한국전기전자재료학회 2002년도 춘계학술대회 논문집 센서 박막재료 반도체재료 기술교육
- /
- pp.74-77
- /
- 2002