Purpose: This study is about photocatalytic technology and plasma oxidation-reduction technology. To the main cause of exposure to odor pollution, two deodorization techniques were applied to develop a module with higher removal efficiency and ozone reduction effect. Research design, data and methodology: A composite module was constructed by arranging two types of dry deodorization equipment (catalyst, adsorbent) in one module. This method was designed to increase the responsiveness to the components of complex odors and the environment. standard, unity, two types of oxidizing photo-catalyst technology and plasma dry deodorization device installed in one module to increase the potential by reduction to 76% of ozone, 100%, and 82%. Results: The complex odor disposal efficiency was 92%. Ammonia was processed with 50% hydrogen sulfide and 100% hydrogen sulfide, and ozone was 0.01ppm, achieving a target value of 0.07ppm or less. The combined odor showed a disposal efficiency of 93%, ammonia was 82% and hydrogen sulfide was 100% processed, and ozone achieved a target value of 0.07 ppm or less. Conclusions: Ozone removal efficiency was 76% by increasing Oxidation-Reduction Reaction(ORR). The H2S removal efficiency of the deodorizer was higher than that of the biofilter system currently used in sewage disposal plants.
본 연구에서는 유전체장벽방전을 이용하여 휘발성 유기화합물의 일종인 벤젠의 분해 경향과 분해 생성물의 선택성에 대해서 연구하였다. 유전체장벽방전의 공정변수에 따른 벤젠의 분해율과 분해 생성물의 선택성을 높이기 위해서 반응기 내부에 촉매(H-ZSM-5, Na-Y)를 사용하였다. 실험은 대기압에서 수행하였으며, 방전전압, 체류시간, 농도 등의 공정변수에 따른 분해율을 조사하였다. 유전체 장벽방전만을 사용하는 방법과 비교하여 여기에 촉매를 동시에 사용하는 하이브리드 방전이 같은 전압과 체류시간조건에서 보다 효과적인 벤젠의 분해 방법임을 확인하였다.
본 연구에서는 에폭시(DGEBA)/폴리아미드/MPD/2E4MZ-CN 반응성 블렌드의 경화 촉진제 함량에 따른 블렌드계의 형태학적 특징 및 기계적 물성에 대해 고찰하였다. 본 블렌드계의 경화거동은 DSC, 기계적 강도는 UTM, 형태학적 특징 변화는 SEM을사용하여 관찰하였다. 이미다졸(2E4MZ-CN) 경화촉진제의 함량을 $0{\sim}3\;phr$까지 조절 하였으며, 경화 반응 온도는 $170^{\circ}C$에서 30분간 유지하였다. 경화 촉진제의 함량이 증가함에 따라 최대 발열 온도가 미세하게 감소하는 경향을 보였으며, 이는 에폭시와의 상용성이 우수한 폴리아미드에 의해 경화 반응이 거의 방해받지 않았음을 보여 준다. 폴리아미드 함량이 20 phr인 조건에서 에폭시 블렌드계는 co-continuous한 분산상을 보이며, 이 조건에서 경화 촉진제의 첨가에 의해 더욱 균일한 co-continuous한 분산상이 나타났다. 상압 플라즈마 표면처리에 의해 표면장력이 증가되어 집착력이 향상되었으며, 경화 촉진제의 함량이 2 phr에서 가장 우수한 집착력을 보여 20% 이상의 집착력 향상 효과가 있었다. 이것은 경화 촉진제에 의한 블렌드계의 형태학적 조절을 고려하면 구조용 접착제에서 보다 향상된 집착력과 연신율을 동시에 기대할 수 있음을 보여 준다.
배리어(dielectric-barrier discharge: DBD) 반응기에서 솔-젤 방법으로 제조한 $Pt/TiO_2$를 넣고 플라즈마 에너지를 사용하여 메탄전환반응 연구를 수행하였다. 제조된 촉매는 기존 금속산화물과는 다른 방법으로 환원을 하였으며, 플라즈마를 사용한 환원방법(plasma-assisted reduction: PAR)이라고 명명하였다. $Pt/TiO_2$ 촉매는 Pt 담지량 및 소성온도에 관계없이 20분 이내에 환원이 완료되었다. 3 wt% $Pt/TiO_2$ 촉매와 5 wt% $Pt/TiO_2$ 촉매를 $600^{\circ}C$에서 소성하여 PAR 방법으로 환원했을 때 메탄의 전환율은 40%로 가장 높았다. DBD 반응기에서 $Pt/TiO_2$ 촉매를 사용하였을 경우 촉매가 없을 때보다 $C_2H_6$, $C_3H_8$와 $C_4H_{10}$과 같은 알칸의 선택성의 매우 높게 나타났다.
A specific and sensitive gas chromatographic (GC) procedure with the flame photometric detector (FPD) was developed for determination of barbiturates such as barbital, allobarbital, secobarbital, phenobarbital and thiopental in plasma. In order to evaluate the performance of the FPD, the results were campared with those of the flame ionization detector (FID). After extraction of barbiturates from plasma, the barbiturates were quantitatively N, N-dimethylthiometyl (MTM)-derivatized with methylthiomethyl chloride in 1, 8-diazabicyclo [5, 4, 0] undec-7-ene catalyst. The data indicate that the FPD is about 4 times more sensitive than the FID for barbiturates, although it is less reproducible. The FPD also produced chromatogram with less back ground for extracted plasma sample. The FPD also produced chromatogram with less background for extracted plasma sample. The minimum detectable amount of MTM-thiopental on 3% OV-225 column was 4, 4fmol and that of other MTM-barbiturate was about 10.0fmol.
Carbon nanotube (CNT) properties, produced using a magnetic null discharge (MND) plasma production technology, were investigated. We firstly deposited the Fe layer 200 nm in thickness on Si substrate by the magnetic null discharge sputter method at the substrate temperature of $300도C$, and then prepared CNTs on the catalyst layer by using the magnetic null discharge (MND) based CVD method. CNTs were deposited in a gas mixture of CH4 and N2 at a total pressure of 1 Torr by the MND-CVD method. The substrate temperature and the RF power were $650^{\circ}C$ and 600W, respectively. The characterization data indicated that the proposed source could synthesize CNTs even under relatively severe conditions for the magnetic null discharge formation.
한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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pp.845-848
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2003
We investigated a field emission property of CNTs grown on pre-treated substrates by $H_{2}$ plasma etching method in vacuum chamber (<${10^{-7}}$ Torr). To improve the emission characteristics, various catalysts and buffer layers were used. The morphology and density of catalyst layer was controlled by the different plasma pre-treatment conditions, resulting in the control of the growth characteristics of CNTs.
Carbon nanofibers could be selectively formed at the groove area of the MgO substrate using microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition system. Iridium metal was used as a catalyst layer for the formation of the carbon nanofibers. The growth direction of the carbon nanofibers was vertical to the substrate surface. The selectively grown iridium-catalyzed carbon nanofibers show around $1.8V/{\mu}m$ turn-on voltage and $1.0\;mA/cm^2$ field emission current density at $2.65\;V/{\mu}m$ in the field emission measurement.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제9권2호
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pp.62-66
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2008
We report on the growth mechanism of vertically aligned carbon nanotubes (VACNTs) using ultra thin Ni catalysts and direct current plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system. The CNTs were grown with -600 V bias to substrate electrode and catalyst thickness variation of 0.07 nm to 3 nm. The CNT density was reduced with catalyst thickness reduction and increased growth time. Cone like CNTs were grown with ultra thin Ni thickness, and it results from an etch of carbon network by reactive etchant species and continuous carbon precipitation on CNT walls. Vertically aligned sparse CNTs can be grown with ultra thin Ni catalyst.
A combined process of non-thermal plasma and catalytic techniques has been investigated to treat toxic gas compounds in air. The treated gas in the present study is $CH_3$CN that has been known to be a simulant of toxic chemical agent. A planar type dielectric barrier discharge(DBD) reactor has been used to generate non-thermal plasma that produces various chemically active species, O, N, OH, $O_3$, ion, electrons, etc. Several different types of adsorbents and catalysts, which are MS 5A, MS 13X, Pt/alumina, are packed into the plasma reactor, and have been tested to save power consumption and to treat by-products. Various aspects of the present techniques, which are decomposition efficiencies along with the power consumption, by-product analysis, reaction pathways modified by the adsorbents and catalysts, have been discussed in the present study.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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