A Study on the Effect of P Concentrations of PSG Interlayers on the Yield Characteristics of the NMOS Devices (층간 절연막으로 쓰이는 PSG막의 P농도가 NMOS소자의 수율에 미치는 영향에관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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- v.26 no.11
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- pp.1637-1643
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- 1989