• Title/Summary/Keyword: Pauw Method

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승화법에 의한 $CdS_{0.67}Se_{0.33}$ 단결정 성장과 광전도 특성 (Growth of $CdS_{0.67}Se_{0.33}$ single crystal by sublimation method and their photoconductive characteristics)

  • 홍광준;이상열
    • 센서학회지
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    • 제7권2호
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    • pp.131-139
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    • 1998
  • $CdS_{0.67}Se_{0.33}$ 단결정을 승화법으로 성장시켜 Laue 배면 반사법 (back refection Laue method)으로 결정성과 면의 방향이 (0001)임을 알아보았고, EDS(Energy Dispersive X-ray Spectrometer)를 이용하여 소성비가 $CdS_{0.67}Se_{0.33}$ 임을 확인하였다. Van der Pauw 법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도(carrier density)와 이동도(mobility)의 온도의존성을 연구하였으며, 이동도는 30 K에서 150 K까지는 불순물에 의한 산란 (impurity scattering)에 기인하고 있으며, 150 K에서 293 K까지는 격자 산란 (lattice scattering)에 따라 감소하였다. 또한 운반자 농도의 In n 대 (1/T)에서 구한 활성화 에너지는 0.21 eV였다. 광전도 셀(cell)의 특성으로 spectral response, 최대 허용 소비전력(maximum allowable power dissipation: MAPD), 광전류와 암전류(photocurrent/darkcurrent: pc/dc) 및 응답시간을 측정하였다. Cu 증기분위기에서 열처리한 광전도 셀의 경우 ${\gamma}$ = 0.99, pc/dc = $1.84{\times}10^{7}$, MAPD : 323mW, rise time : 9.3ms, decay time : 9.7ms로 가장 좋은 특성을 얻었다.

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$Cd_{1-x}Zn_{x}S$ 박막의 성장과 광전도 특성 (Growth of Thin Film using Chemical Bath Deposition Method and Their Photoconductive Characterics)

  • 이상열;홍광준;유상하;신용진;이관교;서상석;김혜숙;윤은희;김승욱;박향숙;신영진;정태수;신현길;김태성;문종대;이충일;전승룡
    • 센서학회지
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    • 제4권3호
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    • pp.60-70
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    • 1995
  • Chemical bath deposition(C.B.D.)방법으로 다결정 $Cd_{1-x}Zn_{x}S$ 박막을 스라이드 유리(coming-2948) 기판위에 성장시켜 열처리하고 X-선 회절무늬를 측정하여 결정구조를 밝혔다. $550^{\circ}C$$N_{2}$ 속에서 열처리한 시료의 X-선 회절무늬로부터 외삽법으로 구한 격자상수는 CdS인 경우 $a_{0}\;=\;4.1364{\AA}$, $c_{0}\;=\;6.7129{\AA}$였으며 ZnS인 경우는 $a_{0}\;=\;3.8062{\AA}$, $c_{0}\;=\;6.2681{\AA}$였다. Van der Pauw 방법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도와 이동도의 온도 의존성을 연구하였다. 광전도 셀의 특성으로 스펙트럼응답 감도, 최대허용소비전력 및 응답시간을 측정하였다.

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$CdIn_{2}Te_{4}$ 단결정 성장과 전기적 특성 (Study on $CdIn_{2}Te_{4}$ single crystal growth and electrical characteristics)

  • 홍광준
    • 한국결정성장학회지
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    • 제6권1호
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    • pp.32-43
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    • 1996
  • $CdIn_{2}Te_{4}$ 단결정을 Bridgman방법으로 성장하였다. 성장된 $CdIn_{2}Te_{4}$ 단결정은 분말법으로 X-ray diffraction을 측정하여 tetragonal로 성장되었음을 알 수 있었고 격자상수는 Nelson-Riley 보정식을 이용하여 외삽법으로 구한 결과 $a_{0}$$6.215{\AA}$, $c_{0}$$12.390{\AA}$이었다. $CdIn_{2}Te_{4}$ 결정이 단결정임을 알아보기 위해 Laue 배면 반사법으로 측정하였는데 c축에 수평한면은 (110), c축에 수직한 면은 (001)으로 성장되었음을 알 수 있었다. 또한 van der Pauw방법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도와 이동도를 구하였으며, c축에 수직한 시료의 carrier density는 $8.75{\times}10^{23}electrons/m^{3},\;mobility는\;3.41{\times}10^{-2}m^{2}/V.s$였으며 c축에 평행한 시료의 carrier density는 $8.61{\times}10^{23}electrons/m^{3},\;mobility는\;2.42{\times}10^{-2}m^{2}/V.s$였다. 또한 Hall 계수가 양의 값이여서 $CdIn_{2}Te_{4}$ 단결정은 p형 반도체임을 알 수 있었다.

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CBD 방법에 의한 CdS 박막의 성장과 광전도 특성 (Growth of Thin Film Using Chemical Bath Deposition Method and Their Photoconductive Characteristics)

  • 홍광준;이상열;유상하;서상석;문종대;신영진;정태수;신현길;김택성;송정훈;유기수
    • 센서학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.3-10
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    • 1993
  • Chemical bath deposition 방법으로 다결정 CdS 박막을 세라믹 기판 위에 성장시킨 다음 온도를 변화시켜 열처리하고 X-선 회절무늬를 측정하여 결정구조를 밝혔다. $550^{\circ}C$로 열처리한 시료의 경우 X-선 회절무늬로부터 외삽법에 의해 $a_{o}$$c_{o}$는 각각 $4.1364{\AA}$$6.7129{\AA}$인 육방정계임을 알았다. 이 때 낱알크기는 약 $0.35{\mu}m$이었다. Van der Pauw 방법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도와 이동도의 온도의존성을 연구하였다. 이동도는 33 K에서 150 K까지는 압전산란에 의하여, 150 K에서 293 K 까지는 곽성광학산란에 의하여 감소하는 경향을 나타냈다. 광전도 셀의 특성으로 스펙트럼 응답, 감도(${\gamma}$), 최대허용소비전력 및 응답 시간을 측정하였다.

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Chemical Bath Deposition 방법으로 제작한 CdSe 박막의 특성 (Characterization of CdSe Thin Film Using Chemical Bath Deposition Method)

  • 홍광준;이상열;유상하;서상석;문종대;신영진;정태수;신현길;김택성;송정훈;유기수
    • 센서학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.81-86
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    • 1993
  • Chemical bath deposition 방법으로 다결정 CdSe 박막을 세라믹 기판 위에 성장시킨 다음 온도를 변화시켜 열처리하고 X-선 회절무늬를 측정하여 결정구조를 밝혔다. $450^{\circ}C$로 열처리한 시료가 X-선 회절무늬로 부터 외삽법에 의해 $a_{o}$$c_{o}$는 각각 $4.302{\AA}$$7.014{\AA}$인 육방정계임을 알았다. 이 때 낱알크기는 약 $0.3{\mu}m$이었다. Van der Pauw 방법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도와 이동도의 온도의존성을 연구하였다. 이동도는 33 K에서 200 K까지는 압전산란에 의하여, 200K에서 293 K까지는 극성광학산란에 의하여 감소하는 경향을 나타냈다. 광전도 셀의 특성으로 스텍트럼 응답, 감도(${\gamma}$), 최대허용소비전력 및 응답 시간을 측정하였다.

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Chemical Bath Deposition 방법으로 CdSe 박막 성장과 광센서 특성 (Photosensor of properties for CdSe thin film grown by Chemical Bath Deposition Method)

  • 홍광준
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 반도체 재료 센서 박막재료 전자세라믹스
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    • pp.1-4
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    • 2004
  • Polycrystalline CdSe thin films were grown on ceramic substrate using a chemical bath deposition(CBD)method. They were annealed at various temperature and X-ray diffraction patterns were measured by X-ray diffractometer in order to study CdSe polycrystal structure. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the CdSe samples annealed in $N_2$ gas at $450^{\circ}C$ it was found hexagonal structure whose lattice parameters $a_0$ and $c_0$ were $4.302{\AA}$ and 7.014 ${\AA}$, respectively. Its grain size was about 0.3 ${\mu}m$. Hall effect on this sample was measured by Van der Pauw method and studied on carrier density and movility depending on temperature. From Hall data, the mobility was likely to be decreased by piezo electric scattering at temperature range of 33K and 200K, and by polar optical scattering at temperature range of 200K and 293K. We measured also spectral response, sensitivity$(\gamma)$, maximum allowable power dissipation and response time on these samples.

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승화법에 의한 CdSe 성장과 특성 (Growth and characterites for CdSe single crystal grown by using sublimation method)

  • 홍광준;백승남;;김도선
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2006년도 하계학술대회 논문집 Vol.7
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    • pp.180-181
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    • 2006
  • CdSe single crystal was grown by sublimation method in the two-step vertical electric furnace. This CdSe single crustal had hexagonal structure whose lattice constants of $a_0$ and $c_0$ were measured $4.299\;{\AA}$ and $7.009\;{\AA}$ by extrapolation method, respectively. CdSe single crystal was n-type semiconductor values were measured from Hall data by Van der Pauw method in the room temperature. Mobility tends to increase in proportion to $T^{3/2}$ from 33K to 130K due to impurity scattering. but mobility tends to decrease in proprtion to $T^{-3/2}$ from 130K to 293K due to lattice scattering. CdSe thin film was made by electron beam evaporation technique had also hexagonal structure. The grain size of this thin film was grown to $1{\mu}m$ as a result of annealing in the vapor of Ar or Cd. Annealde CdSe thin film was n-type semiconductor whose carrier density had about $7{\times}10^{12}cm^{-3}$ and its mobility had about $1.6{\times}10^3cm^2/V$ sec at room temperature.

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HWE에 의한 $CdGa_2Se_4$ 박막 성장과 광전도 특성 (Growth of $CdGa_2Se_4$ epilayer using hot wall epitaxy method and their photoconductive characteristics)

  • 홍광준;이관교;이상열;유상하;신용진;서상석;정준우;정경아;신영진
    • 한국결정성장학회지
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    • 제7권3호
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    • pp.366-376
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    • 1997
  • 수평 전기로에서 $CdGa_2Se_4$ 다결정을 합성하여 HEW 방법으로 $CdGa_2Se_4$ 박막을 성장하였다. $CdGa_2Se_4$ 박막 성장은 증발원과 기판의 온도를 각각 $580^{\circ}C$, $420^{\circ}C$로 성장하였을 때 이중 요동곡선(DCRC)의 반폭치(FWHM)값이 162 arcsec로 가장 작아 최적 성장조건이었으며, 성장된 박막의 두께는 3 $\mu \textrm{m}$ 였다. Van der Pauw 방법으로 Hall 쵸과를 측정하여 운반자 농도와 이동도의 온도의존성을 연구하였으며, 이동도는 30 K에서 200 K까지는 piezoelectric 산란에 기인하고, 200 K에서 293 K까지는 polaroptical 산란에 의하여 감소하였다. 광전도 셀의 특성으로 spectral response, 최대 허용 소비전력(MAPD), 광전류와 암전류(pc/dc) 및 응답시간을 측정하였다. Se 분위기에서 열처리한 광전도 셀의 경우 $\gamma$=0.98, pc/dc=$9.62{\times}10^6$ MAPD : 321 ㎽, rise time : 9 ㎳, decay time : 9.5 ㎳로 가장 좋은 특성을 얻었다.

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HWE 방법에 의한 CdS 박막의 성장과 광전도 특성 (Growth of CdS thin film using hot wall epitaxy method and their photoconductive characteristics)

  • 홍광준
    • 한국결정성장학회지
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    • 제6권3호
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    • pp.341-350
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    • 1996
  • HWE 방법으로 CdS 박막을 quartz plate 위에 성장하였다. CdS 박막을 성장할 때 증발원과 기판의 온도를 각각 $590^{\circ}C$, $400^{\circ}C$로 하였고 성장된 두께는 $2.5\;\mu\textrm{m}$였다. 성장된 CdS 박막의 X-선 회절 무늬로부터 외삽법에 의해 구한 a와 c는 각각 $4.137\;{\AA}$$6.713\;{\AA}$인 육방정계임을 알았다. Van der Pauw 방법으로 Hall 효과를 측정하여 운반자 농도와 이동도의 온도 의존성을 연구하였다. 이동도는 30 K에서 200 K까지는 piezoelectric 산란에 기인하고, 200 K에서 293 K까지는 polar optical 산란에 의하여 감소하였다. 광전도 셀의 특성으로 spectral response, 최대 허용 소비전력 (MAPD), 광전류와 암전류비 (pc/dc), 및 응답시간을 측정하였다. Cu 증기 분위기에서 열처리한 광전도 셀의 경우 ${\gamma}=0.99,\;pc/dc=9.42{\times}10^{6}$, MAPD : 318 mW, rise time 10 ms, decay time 9 ms로 가장 좋은 광전도 특성을 얻었다.

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Properites of transparent conductive ZnO:Al film prepared by co-sputtering

  • Ma, Hong-Chan;Lee, Hee-Young
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2009년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.106-106
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    • 2009
  • Al-doped ZnO (AZO) thin films were grown on glass substrates by co-sputtering at room temperature. We made ZnO and Al target and ZnO:Al film is deposited with sputter which has two RF gun source. The Al content was controlled by varying Al RF power and effect of Al contents on the properties of ZnO:Al film was investigated. Crystallinity and orientation of the ZnO:Al films were investigated by X-ray diffraction (XRD), surface morphology of the ZnO:Al films was observed by atomic force microscope. Electrical properties of the ZnO:Al films were measured at room temperature by van der Pauw method and hall measurement. Optrical properties of ZnO:Al films were measured by UV-vis-NIR spectrometer.

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