• 제목/요약/키워드: Pattern fidelity

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PDMS 쿠션을 갖는 Si 몰드에 의한 핫엠보싱 공정에서의 4 인치 웨이퍼 스케일 전사성 향상 (4 Inch Wafer-Scale Replicability Enhancement in Hot Embossing by using PDMS-Cushioned Si Mold)

  • 김흥규;고영배;강정진;허영무
    • 한국정밀공학회지
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    • 제23권8호
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    • pp.178-184
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    • 2006
  • Hot embossing is to fabricate desired pattern on the polymer substrate by pressing the patterned mold against the substrate which is heated above the glass transition temperature, and it is a high throughput fabrication method for bio chip, optical microstructure, etc. due to the simultaneous large area patterning. However, the bad pattern fidelity in large area patterning is one of the obstacles to applying the hot embossing technology for mass production. In the present study, PDMS pad was used as a cushion on the backside of the micro-patterned 4 inch Si mold to improve the pattern fidelity over the 4 inch PMMA sheet by increasing the conformal contact between the Si mold and the PMMA sheet. The pattern replicability improvement over 4 inch wafer scale was evaluated by comparing the replicated pattern height and depth for PDMS-cushioned Si mold against the rigid Si mold without PDMS cushion.

사출 도광판의 프리즘 패턴 전사성에 관한 실험적 연구 (A study on the prizm pattern replication in injection molding)

  • 김창완;유영은;김태훈;제태진;최두선
    • 대한기계학회:학술대회논문집
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    • 대한기계학회 2007년도 춘계학술대회A
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    • pp.1537-1541
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    • 2007
  • We injection molded a wedge type of plate with micro prizm patterns on its surface and investigated the fidelity of replication of the micro pattern depending on the process parameter such as mold temperature, melt temperature, injection rate or packing pressure. The size of the size of the $90^{\circ}$ prizm pattern is $50{\mu}m$ and the size of the plate is about 300㎜${\times}$200㎜. The thicknesses are 2.6㎜. and 0.7mm at each edge of the wedge type of plate. The fidelity of the replication turned out quite different according to the process parameters and location of the patterns on the plate. We measured the cavity pressure and temperature in real-time during the molding to analyze the effect of the local melt pressure and temperature on the micro pattern replication.

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Fabrication of Lateral and Stacked Color Patterns through Selective Wettability for Display Applications

  • Hong, Jong-Ho;Na, Jun-Hee;Li, Hongmei;Lee, Sin-Doo
    • Journal of Information Display
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    • 제11권4호
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    • pp.140-143
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    • 2010
  • A simple and versatile method of fabricating color patterns in two-dimension (2D) and three-dimension (3D) was developed using the selective-wettability approach. Red, green, and blue color elements are sequentially formed on a single substrate in a pattern-by-pattern and/or pattern-on-pattern fashion, through a simple coating process. Either 2D or 3D structures in an array format are produced by controlling the thickness of the hydrophobic layer (HL) coating a substrate within the framework of wetting transition. Moreover, it was demonstrated that the stacked geometry of two successive patterns can be easily tailored for various types of color arrays, with the pattern fidelity of a few tens of nanometers in terms of only a parameter of the HL thickness.

군 지연 및 충실도를 이용한 IR-UWB용 테이퍼 슬롯 안테나 방사패턴 분석 (Analysis of IR-UWB Tapered Slot Antenna Radiation Pattern using the Group delay and Fidelity)

  • 김근용;고영목;박경진;강은균;이대우;박종현;나극환
    • 전자공학회논문지
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    • 제50권8호
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    • pp.308-315
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    • 2013
  • 본 논문에서는 IR-UWB를 위한 테이퍼 슬롯 안테나를 Ansoft인 HFFS을 사용하여 설계 및 제작 하였고 안테나의 군 지연 및 충실도를 사용하여 광대역 안테나의 빔 폭에 대해 연구를 제안하였다. 이를 위해 Network Analyzer에서 획득한 데이터를 Chirp Z-transform을 사용하여 시간영역에서의 분석을 하였고 시뮬레이션은 CST microwave studio를 이용하여 이를 확인 하였다. 안테나의 방사패턴의 분석은 두 안테나를 0.5 미터 간격으로 이격시킨 후 송신 안테나를 고정 후 수신 안테나를 $10^{\circ}$ 간격으로 $360^{\circ}$ 회전하여 각각의 충실도를 획득하여 안테나의 성능 분석하였다. 분석한 결과 ${\pm}40^{\circ}$ 미만일 경우 90%이상의 양호한 충실도를 얻었고 ${\pm}40^{\circ}$ 이상은 90%이하의 낮은 결과를 얻었다. 이러한 충실도를 이용한 방사패턴을 사용함으로 광대역 안테나의 빔 폭을 보다 정확한 분석을 할 수 있다.

대면적 미세패턴 사출성형에서의 전사 특성 실험 (A study on the micro pattern replication properties of large area in injection molding)

  • 김태훈;유영은;제태진;김창완;박영우;최두선
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2007년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.205-208
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    • 2007
  • We injection molded a thin plate with micro prism patterns on its surface and investigated the fidelity of replication of the micro pattern depending on the process parameter such as mold temperature, injection rate or packing pressure. The size of the $90^{\circ}$ prism pattern is $50{\mu}m$ and the size of the plate is $400mm{\times}400mm$. The thickness is 1mm. The fidelity of the replication turned out quite different according to the process parameters and location of the patterns of the plate. We measured the cavity pressure and temperature in real-time during the molding to analyze the effect of the local melt pressure and temperature on the micro pattern replication.

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사출성형시 미세패턴 전사성 차이에 관한 연구 (A study on the micro pattern replication difference in injection molding)

  • 김태훈;유영은;제태진;박영우;노승환;최두선
    • Design & Manufacturing
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    • 제2권4호
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    • pp.48-53
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    • 2008
  • We injection molded a thin type of plate and wedge type of plate with micro prizm patterns on its surface and investigated the fidelity of replication of the micro pattern depending on the process parameter such as mold temperature, melt temperature, injection rate or packing pressure. The size of the $90^{\circ}$ prizm pattern is $50{\mu}m$ and the size of the plate is about $335mm{\times}213mm$ and $400mm{\times}400mm$. The thicknesses are 2.6mm and 0.7mm at each edge of the wedge type of plate and 1mm at each edge of the thin type of plate. The fidelity of the replication turned out quite different according to the process parameters and location of the patterns on the plate. We measured the cavity pressure and temperature in real-time during the molding to analyze the effect of the local melt pressure and temperature on the micro pattern replication.

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Enhancement of Pattern Fidelity for Metal Layer in Attenuated PSM Lithography by OPC

  • Lee Hoong Joo;Lee Jun Ha
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2004년도 학술대회지
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    • pp.784-786
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    • 2004
  • Overlap errors and side-lobes can be simultaneously solved by the rule-based correction using scattering bars with the rules extracted from test patterns. Process parameters affecting the attPSM lithography simulation have been determined by the fitting method to the process data. Overlap errors have been solved applying the correction rules to the metal patterns overlapped with contact/via. Moreover, the optimal insertion rule of the scattering bars has made it possible to suppress the side-lobes and to get additional pattern fidelity at the same time.

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펄스 충실도 개선을 위한 UWB 안테나 설계기법 연구 (A study on the UWB Antenna Design Techniques for Improving Pulse Fidelity)

  • 김종민;강은균
    • 전자공학회논문지
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    • 제50권8호
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    • pp.299-307
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    • 2013
  • 본 논문에서는 임펄스 방사를 위한 UWB 안테나를 펄스 충실도 및 왜곡율 수식을 유도하고 적용하여 펄스 충실도가 개선된 안테나를 설계하는 방법에 대해 연구하였다. UWB 대역에서 지향성 특성을 갖는 안테나는 낮은 방사손실과, 임펄스 방사왜곡이 최소이어야 한다. 이를 위하여 광대역 임피던스 변환기와 마이크로스트립 슬롯라인 천이부 구조를 갖는 안테나 급전부를 설계하였다. 설계 및 제작된 UWB 안테나는 전파 무반사실에서 방사패턴을 측정하였다. 제작된 UWB 안테나의 임펄스 방사에 의한 펄스충실도는 ${\pm}30^{\circ}$ 빔폭내에서 93%이상의 개선된 결과를 얻었다.

임펄스 신호 방사를 위한 IR-UWB용 테이퍼 슬롯 안테나 설계 및 성능평가 (Design and Performance Evaluation of IR-UWB Tapered Slot Antenna for Optimum Impulse Radio Radiation)

  • 김종민;고영목;나극환
    • 한국ITS학회 논문지
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    • 제11권5호
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    • pp.103-115
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    • 2012
  • 본 논문에서는 임펄스를 방사하기 위한 IR-UWB용 테이퍼 슬롯 안테나(Tapered Slot Antenna: TSA) 설계와 성능평가에 대해 연구하였다. UWB 대역에서 지향성 특성을 갖는 테이퍼 슬롯 안테나는 낮은 방사손실과, 임펄스 방사왜곡이 최소이어야 한다. 이를 위해 광대역 임피던스 변환기와 마이크로스트립-슬롯라인 천이부 구조를 갖는 테이퍼 슬롯 안테나 급전부를 설계하였다. 설계 및 제작된 테이퍼 슬롯 안테나는 전파 무반사실에서 방사패턴을 측정하였으며, 임펄스 방사에 따른 시간영역 특성을 평가하기 위해 펄스충실도 및 왜곡율 수식을 유도하였다. 제작된 테이퍼 슬롯 안테나의 임펄스 방사에 의한 펄스충실도는 ${\pm}30^{\circ}$ 빔폭 내에서 약 93% 이상의 양호한 결과를 얻었다.