• 제목/요약/키워드: PVD method

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PVD에 의한 연약점토지반의 압밀촉진효과에 대한 수치해석 (Numerical Analyses on Consolidation Promotion Effect of Soft Clay Ground by Prefabricated Vertical Drain)

  • 유승경
    • 한국지반신소재학회논문집
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    • 제8권1호
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    • pp.19-24
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    • 2009
  • 본 논문에서는 연약지반개량공법 중의 하나인 PVD공법에 의한 연약지반개량효과를 파악하기 위하여 일련의 수치해석을 실시하였다. 본 연구에서는 기존에 수행된 실내모형실험 결과와의 비교를 통하여 그 신뢰성이 검증된 탄점소성 3차원압밀 유한요소해석 방법을 사용하였다. 수치해석에서는 PVD의 폭과 상재하중의 크기를 다양하게 변화시키며 개량된 점토지반의 압밀거동을 재현하였으며 그 결과를 이용하여 개량된 연약점토지반의 압밀촉진효과에 미치는 PVD의 폭과 상재하중 크기의 영향에 대하여 고찰하였다.

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PVdF 나노섬유와 Graphene Oxide 하이브리드막에 관한 연구 (Study on the PVdF Nanofibers and Graphene Oxide Hybrid Membrane)

  • 정혜민;진유동;양우석;변홍식
    • 멤브레인
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    • 제23권3호
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    • pp.204-210
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    • 2013
  • 본 연구는 microfiltration (MF) 적용을 위한 PVdF/GO 하이브리드 나노섬유막(FG) 제조에 관한 것이다. 지지체인 PVdF (polyvinylidene difluoride) 나노섬유막은 N,N-Dimethylacetamide (DMAc)와 아세톤에 PVdF를 녹여 방사용액 제조 후 전기방사법을 이용하여 제조하였다. 본 연구에서 사용된 GO (grapheme oxide) sheets는 Hummer's 방법에 따라 제조되었으며, PVdF 나노섬유 지지체 위에 에탄올에 분산시킨 GO용액을 분사함으로써, 최종적으로 PVdF/GO 하이브리드 나노섬유막(FG)을 제조하였다. FG막은 SEM, Raman, 접촉각, 기공특성분석장치(Porometer), 만능인장시험기(UTM)를 사용하여 조사하였고, 수투과도 분석은 제작된 셀(Dead-End Cell)을 이용하여 측정하였다. 접촉각 측정 결과로부터 제조된 FG막의 표면이 친수성으로 개질되었음을 확인할 수 있었으며, 수투과도값은 PVdF막에 비해 약 2.5배 향상된 것을 확인할 수 있었다.

고용량 스테가노그래픽 방법 연구 (High Capacity Steganographic Method)

  • 김기종;정기현;유기영
    • 한국인터넷방송통신학회논문지
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    • 제9권5호
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    • pp.155-161
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    • 2009
  • 본 논문은 이미지 픽셀의 픽셀값 차이(Pixel-value Differencing: PVD)와 최하위 비트(Least Significant Bit: LSB) 교체 방법을 이용하여 원본 이미지의 픽셀값 성질에 맞게 적용하여 고용량의 데이터를 이미지에 숨길 수 있는 방법을 제시한다. 기존에 LSB와 PVD 방법에 근거하여 비밀 자료를 숨기고, 숨겨진 자료를 감지할 수 없도록 하기 위해 많은 자료 은닉 방법들이 연구되었다. 두 연속된 픽셀값 차이가 적을 경우에는 부드러운 영역(Smooth Area)에 속하게 되고, 두 픽셀값 차이가 클 경우에는 경계 영역(Edge Area)에 속한 픽셀로 구별되는데, 본 논문에서 제시하는 방법은 이미지의 부드러운 영역과 경계 영역을 감지하여 부드러운 영역에는 LSB 교체 방법을 적용하고, 경계 영역에는 픽셀값 차이를 이용한 방법을 적용하였다. 실험 결과에서는 본 논문에서 제시한 방법이 기존의 LSB교체 기법을 이용하거나 픽셀값 차이를 이용한 자료은닉 방법에 비해 숨길 수 있는 자료량과 스테고 이미지(Stego-image)의 품질 측면에서 우수함을 보이고 있다.

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판상 연직배수재의 유효 등가경 결정 방법에 관한 연구 (Study on the Method of Determining Equivalent Circle of Band-shaped Prefabricated Vertical Drains)

  • 유승경;소전화광
    • 한국지반공학회논문집
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    • 제24권6호
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    • pp.95-100
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    • 2008
  • 판상의 연직배수재를 이용한 연약지반개량공법에 대한 설계를 보다 정확하게 수행하기 위해서는 판상 배수재의 유효 등가경 결정이 매우 중요한 요소이다. 본 연구에서는 연약지반의 압밀거동을 고려한 합리적인 판상 배수재의 유효 등가경 결정방법에 대한 고찰을 위하여 일련의 수치해석을 실시하였다. 본 연구에서 사용한 탄점소성 3차원압밀 유한요소해석 방법은 동일한 조건의 실내모형실험 결과와의 비교를 통하여 검증하였다. 또한, 수치해석 결과로부터 판상 연직배수재로 개량된 연약지반의 압밀거동을 재현하였으며, 이를 반영한 판상 연직배수재의 유효 등가경을 산정하였다.

PVD법을 이용한 전자파 차폐용 시트 제조 및 차폐효율 특성 (Preparation of EMI Shielding Sheet by PVD Method and Its Characteristic of EMI Shielding Efficiency)

  • 채성정;홍병표;이병수;변홍식
    • 공업화학
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    • 제21권5호
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    • pp.527-531
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    • 2010
  • Fe계 metal powder를 이용하여 최적화된 전자파차폐 시트를 제조한 후, 제조된 시트에 physical vapor deposition (PVD)법으로 여러 금속들을 증착시켜 최종 전자파차폐용 시트를 제조하였다. 또한 증착된 금속들의 전자파 효율 특성을 분석하기 위하여 polyvinylidene fluoride (PVdF) 나노섬유 막을 시트로 활용하였다. 전기적 특성을 알아보기 위해 4-point probe로 측정하였으며, energy dispersive spectroscopy (EDS)를 이용하여 제조된 sheet에 금속이 증착되었음을 확인하였다. 차폐효율은 전자파차폐효율측정기를 이용하여 측정하였다. 전기저항은 $1000\;{\AA}$일 때 Cu에서 $641.95{\Omega}{\cdot}cm$로 가장 낮은 저항 값을 나타내었다. 전자파 차폐효율은 증착된 금속의 두께의 증가에 따라 증가되었으며, Cu가 $1000\;{\AA}$으로 증착된 sheet가 최고 효율인 32.5 dB을 나타내었다.

PVD 공정을 이용한 Si 양자점 형성 전산모사 (The Simulation of Si quantum Dot Formation in PVD Process)

  • 김윤성;정용재
    • 한국세라믹학회지
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    • 제39권5호
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    • pp.517-522
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    • 2002
  • 본 연구에서는 PVD 공정으로 Si 양자점 형성시 증착조건의 변화가 증착된 양자점 크기와 분포에 미치는 영향을 Monte Carlo법을 응용한 전산모사를 통하여 정량적으로 분석하였다. 전산모사시 PVD 공정에서 일반적으로 제어가 가능한 기판온도, 증착시간, 가스압력과 타겟-기판거리를 공정변수로 선택하였다. 계산 겨로가 증착속도가 0.05 nm/sec이고 기판온도 490${\circ}$, 증착시간 7 sec, 가스압력 3 mTorr, 타겟-기판거리가 8 cm일때 증착 밀도가 $1{\times}10^{12}cm^{-2}$인 Si 양자점 형성이 가능할 것으로 예측되었다.

An Improved Steganography Method Based on Least-Significant-Bit Substitution and Pixel-Value Differencing

  • Liu, Hsing-Han;Su, Pin-Chang;Hsu, Meng-Hua
    • KSII Transactions on Internet and Information Systems (TIIS)
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    • 제14권11호
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    • pp.4537-4556
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    • 2020
  • This research was based on the study conducted by Khodaei et al. (2012), namely, the least-significant-bit (LSB) substitution combined with the pixel-value differencing (PVD) steganography, and presented an improved irreversible image steganography method. Such a method was developed through integrating the improved LSB substitution with the modulus function-based PVD steganography to increase steganographic capacity of the original technique while maintaining the quality of images. It partitions the cover image into non-overlapped blocks, each of which consists of 3 consecutive pixels. The 2nd pixel represents the base, in which secret data are embedded by using the 3-bit LSB substitution. Each of the other 2 pixels is paired with the base respectively for embedding secret data by using an improved modulus PVD method. The experiment results showed that the method can greatly increase steganographic capacity in comparison with other PVD-based techniques (by a maximum amount of 135%), on the premise that the quality of images is maintained. Last but not least, 2 security analyses, the pixel difference histogram (PDH) and the content-selective residual (CSR) steganalysis were performed. The results indicated that the method is capable of preventing the detection of the 2 common techniques.

Effect of EB-PVD Coated Si/HA Film Thickness on Surface Characteristics of Ti-35Nb-10Zr Alloy

  • Jeong, Yong-Hoon;Eun, Sang-Won;Choe, Han-Cheol
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2012년도 춘계학술발표회 논문집
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    • pp.213-213
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    • 2012
  • In this study, effect of EB-PVD coated Si/HA film thickness on surface characteristics of Ti-35Nb-10Zr alloy was investigated. The Ti-35Nb-10Zr alloy was fabricated by arc melting method. The Si/HA layers were coated with 0.8 wt.% of Si in pure HA by EB-PVD method. The coating thickness was consisted with 100 - 300 nm for each group, the surface characteristics was analyzed by FE-SEM, EDS, XRD, XRF and corrosion test. The Si/HA coating layer was well deposited on the alloy surface by EB-PVD, the thickness was correlative factor with HA peaks and corrosion resistance value.

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EB-PVD법과 전기화학방법으로 형성된 Zn-Cr film의 구조와 부식특성 (Corrosion Behavior and Crystal Structure of Zn-Cr Coatings by EB-PVD and Electroplating)

  • 최한철
    • 한국표면공학회지
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    • 제36권6호
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    • pp.423-429
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    • 2003
  • It has been investigated corrosion resistance and crystal structure of Zn-Cr coatings fabricated by electroplating method and electron-beam physical vapor deposition method(EB-P VD). The electroplated Zn-Cr alloy consists mainly of η'-Zn phase for the lower Cr content than 7.9 wt% Cr and ${\gamma}$'-ZnCr phase for the higher Cr content. In the Zn-Cr alloy fabricated by EB-PVD the ${\gamma}$'-ZnCr phase appeared clearly at 3 wt% Cr and it became the sole phase at 50 wt%Cr. The amount of η'-Zn phase decreased obviously with increasing Cr content when it exceeded 15 wt% Cr. The electrochemical measurement of the electroplated Zn-Cr film has shown corrosion potential of about -1000 mV. The current density of active region and the amount of dissolved Zn and Cr decreased significantly with increasing Cr content. The electrochemical characteristics of Zn-Cr alloy fabricated by EB-PVD have shown that the alloy of 50 wt% Cr had the highest corrosion potential(-500 mV) and the lowest critical passive current density than that of the electroplated.

PVdF/GO 복합 나노섬유 평막의 제조 및 활성슬러지 내 투과특성 (Preparation of PVdF/GO Composite Nanofibrous Flat Membrane and its Permeation Characteristics in Activated Sludge)

  • 원인혜;장원기;정건용;변홍식
    • 멤브레인
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    • 제25권1호
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    • pp.67-74
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    • 2015
  • 본 연구에서는 dimethylformamide (DMF)와 acetone의 혼합용액에 산화그래핀(graphene oxide, GO)을 분산시키고 기질 고분자인 PVdF (polyvinylidene fluoride)를 도입하여 전기방사법으로 나노섬유를 제조하였다. 또한 PVdF/GO 복합 나노섬유를 평막 형태로 적층시켜 기공크기 $0.4{\mu}m$인 정밀여과막을 제조하였다. 그리고 GO의 고유한 항균 특성으로 생물학적 오염을 줄일 수 있는 PVdF/GO 복합막의 막오염을 평가하기 위하여 막간 압력차(transmembrane pressure, TMP)를 측정하였다. 유효 막면적이 $0.01m^2$인 PVdF/GO 평막과 상용화된 MBR용 CPVC (chlorinated polyvinyl chloride) 평막을 MLSS 4,500 mg/L인 활성슬러지 수용액 내에서 동시에 투과 실험하였다. 공기를 주입하지 않을 경우, 투과유속이 $10L/m^2{\cdot}h$일 때 PVdF/GO 막의 TMP는 CPVC 막의 최대 79%까지 감소하였다. 또한 운전/휴직 방식으로 운전할 경우, $10L/m^2{\cdot}h$일 때 PVdF/GO 막의 TMP는 CPVC 막의 최대 69%까지 감소함을 확인하였다.