Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.19
no.4
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pp.650-656
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2018
The TFT-LCD industry is a kind of large-scale industrial Giant Microelectronics device industry and has a similar semiconductor process technology. Wet etching forms a relatively large proportion of the entire TFT process, but the number of published research papers on this topic is limited. The main reason for this is that the components of the etchant, in which the reaction takes place, are confidential and rarely publicized. Aluminum (Al) and copper (Cu), which have been used in recent years for the manufacture of large area LCDs, are very difficult materials to process using wet etching. Cu, a low-resistance material, can only be used in the wet etching process, and is used as a substitute for Al due to its high speed etching, low failure rate, and low power consumption. Further, the abnormal reaction of hydrogen peroxide ($H_2O_2$), which is used as an etching solution, requires additional piping and electrical safety devices. This paper proposes a method of minimizing the damage to the plant in the case of adverse reactions, though it cannot limit the adverse reaction of hydrogen peroxide. In recent years, there have been many cases in which aluminum etching equipment has been changed to copper. This paper presents a countermeasure against abnormal reactions by implementing safety PLC with a high safety grade.
According to the Montreal Protocol, CFC 113, one of the ozone-depleting substances, will be prohibited to use as a cleaning solvent essentially in the electronic industry. Therefore, the development of the alternative cleaning solvents to CFC 113 is being accelerated. A number of the alternative cleaning solvents are avialable on the market. The alternatives of Axarel 32(DuPont), Cleanthru 750H(KAO Chemical), and EC-Ultra(Petroferm) are chosen for the comparison of cleaning performance with CFC 113. The test methods for measuring the cleaning performance were composed of the measurement of the physical properties, the experiments on the material compatibility with cleaning solvents, the measurement of the evaporation rate, and finally the experiments of the removal efficiency. Normally the basic physical properties of the alternatives had higher boiling points, viscosity and surface tension, which were quite different to those of CFC 113. In terms of solubility of rosin-based flux, the solubilities of abietic acid (nonpolar organic) were similar, but those of the activator (polar organic) in the alternatives were better than CFC 113. The evaporation of the alternatives was very slow, compared to CFC 113, which had much lower boiling point. All the cleaning solvents showed the good material compatibility with FR4 and Cu-coated PCB. The better removal efficiencies of abietic acid were obtained when using the ultrasonic mechanical energy over the dipping method. The experiments also indicated the very slow-eavaporating solvent was not desirable with the dipping cleaning method, and the differences in the removal efficiency of the alternatives with the ultrasonic cleaning method were negligible. Among the alternatives, the overall cleaning performances were obsorved as almost similar. Before selecting the ultimate cleaning solvent, the application of cleaning machine, environmental issues, and economics are simultaneously considered with the cleaning performance.
Journal of the Korean Society of Marine Environment & Safety
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v.26
no.2
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pp.206-218
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2020
Located mostly inside the megacity of Busan, the Busan Southern Port is a multifunctional port with various nearby industry activities, including a joint fish market, ship repair facilities, and fishing boat facilities. If toxic chemicals generated by the industrial activities continue to flow into and accumulate in the sediment of the port, they can affect aquatic ecosystems and humans. Therefore, in this study, distribution levels and potential influent sources of organic pollutants, including polycyclic aromatic hydrocarbons (PAHs), polychlorinated biphenyls (PCBs), and butyltin compounds (BTs), in the sediment were investigated. The sediment samples were collected from eight sampling sites in November 2013 (first phase) and November 2014 (second phase). The mean concentrations of PAHs, PCBs, and BTs in the first and second sampling phages were 4174.0 ng/g-dry wt. and 1919.0 ng/g-dry wt., 166.3 ng/g-dry wt. and 21 ng/g-dry wt., and 50.9 ng/g-dry wt. and 30.8 ng/g-dry wt., respectively. The concentrations of the organic pollutants detected in the seabed sediments were lower in the second phase than in the first phase. In this study, the inflow sources of PAHs, PCBs, and BTs were found to be combustion, land, and municipal sewage or industrial wastewater, respectively.
Kim, Young-Ran;Kim, Kyung-Ae;Lee, Seung-Jun;Park, Sung-Min
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.44
no.2
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pp.19-24
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2007
With recent advancement of high-speed, multi-gigabit data transmission capabilities, serial links have been more widely adopted in industry than parallel links. Since the parallel link design forces its transmitter to transmit both the data and the clock to the receiver at the same time, it leads to hardware's intricacy during high-speed data transmission, large power consumption, and high cost. Meanwhile, the serial links allows the transmitter to transmit data only with no synchronized clock information. For the purpose, clock and data recovery circuit becomes a very crucial key block. In this paper, a 5.4Gbps half-rate bang-bang CDR is designed for the applications of high-speed graphic DRAM interface. The CDR consists of a half-rate bang-bang phase detector, a current-mirror charge-pump, a 2nd-order loop filter, and a 4-stage differential ring-type VCO. The PD automatically retimes and demultiplexes the data, generating two 2.7Gb/s sequences. The proposed circuit is realized in 66㎚ CMOS process. With input pseudo-random bit sequences (PRBS) of $2^{13}-1$, the post-layout simulations show 10psRMS clock jitter and $40ps_{p-p}$ retimed data jitter characteristics, and also the power dissipation of 80mW from a single 1.8V supply.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.431-432
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2012
In the era of 20 nm scaled semiconductor volume manufacturing, Microelectronics Manufacturing Engineering Education is presented in this paper. The purpose of microelectronic engineering education is to educate engineers to work in the semiconductor industry; it is therefore should be considered even before than technology development. Three Microelectronics Manufacturing Engineering related courses are introduced, and how undergraduate students acquired hands-on experience on Microelectronics fabrication and manufacturing. Conventionally employed wire bonding was recognized as not only an additional parasitic source in high-frequency mobile applications due to the increased inductance caused from the wiring loop, but also a huddle for minimizing IC packaging footprint. To alleviate the concerns, chip bumping technologies such as flip chip bumping and pillar bumping have been suggested as promising chip assembly methods to provide high-density interconnects and lower signal propagation delay [1,2]. Aluminum as metal interconnecting material over the decades in integrated circuits (ICs) manufacturing has been rapidly replaced with copper in majority IC products. A single copper metal layer with various test patterns of lines and vias and $400{\mu}m$ by $400{\mu}m$ interconnected pads are formed. Mask M1 allows metal interconnection patterns on 4" wafers with AZ1512 positive tone photoresist, and Cu/TiN/Ti layers are wet etched in two steps. We employed WPR, a thick patternable negative photoresist, manufactured by JSR Corp., which is specifically developed as dielectric material for multi- chip packaging (MCP) and package-on-package (PoP). Spin-coating at 1,000 rpm, i-line UV exposure, and 1 hour curing at $110^{\circ}C$ allows about $25{\mu}m$ thick passivation layer before performing wafer level soldering. Conventional Si3N4 passivation between Cu and WPR layer using plasma CVD can be an optional. To practice the board level flip chip assembly, individual students draw their own fan-outs of 40 rectangle pads using Eagle CAD, a free PCB artwork EDA. Individuals then transfer the test circuitry on a blank CCFL board followed by Cu etching and solder mask processes. Negative dry film resist (DFR), Accimage$^{(R)}$, manufactured by Kolon Industries, Inc., was used for solder resist for ball grid array (BGA). We demonstrated how Microelectronics Manufacturing Engineering education has been performed by presenting brief intermediate by-product from undergraduate and graduate students. Microelectronics Manufacturing Engineering, once again, is to educating engineers to actively work in the area of semiconductor manufacturing. Through one semester senior level hands-on laboratory course, participating students will have clearer understanding on microelectronics manufacturing and realized the importance of manufacturing yield in practice.
Park, Jae-Chan;Park, Sung-Jun;Seo, Shang-Hoon;Joung, Jae-Woo
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.06a
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pp.154-154
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2006
Samsung Electro Mechanics ink jet has developed ultra high resolution alignment system. The alignment system has been developed for repeatable printing of conductive ink. The resolution of alignment system is 0.5um and the velocity of printing working plate is 1.5m/s. So far repeated printing results included sintering process have over 30um of drop mislocation data. In order to improve line thickness and conductivity of metal line, we need to develop the higher mechanical accurate align system. On the demand, this developed align system has under $1{\sim}2{\mu}m$ mispositioning performance and can measure of mechanical accuracy of inkjet printer, as well as the straightness of jetted drop from inkjet head. There is no kinds limit of substrate and ink to use SEM alignment system. By using this alignment system, we progress two experiment of reiterate printing drop and making conductive line on the glass and photo paper. Optical microscope and 3D profiler has been used for measurement of printed ink.
BACKGROUND: As improved LEDs (Light Emitting Diode) industry and decreased the price of LEDs in Korea, some farmers try to using the RED LEDs in green house and open field to increase the production of crop under bad weather condition. The aim of this study is to find out the effect of RED and FAR-RED LEDs lighting on the fruit quality of twelve-year old 'Hongro'/M.26 apple during night after sunset. METHODS AND RESULTS: FAR-RED (730nm, 2 and 4 hour) and RED (620nm, 2 and 4 hour) with 20 LED/PCB were treated in orchard for 16 weeks from June 10 to October 10 in 2009 and 2010 with control as an comparison. In our experiments, leaf weight was significantly higher in RED LEDs than control, tended to be decreased as times of FAR-RED lighting increased. Fruit weight was increased more in RED LEDs than control in 2009 and 2010, but decreased in FAR-RED lighting compared to control in 2010. Firmness and Hunter's a value of fruit were increased in FAR-RED lighting with 2 and 4 h than control. Soluble solid contents were higher in 2 h RED and 2, 4 h FAR-RED LEDs compared to control in 2009, there was no significant difference in 2010. Acid contents were no difference among the treatments. CONCLUSION(S): In our results, we found that RED LEDs was more helpful to increase the fruit weight and FAR-RED LEDs promote to be higher hunter a value of fruit skin. So, we thought that it is necessary to more study if mixed of RED and FAR-RED lighting is more helpful to promote fruit quality of 'Hongro' apple than single lighting of RED or FAR-RED LEDs respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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