$N_2$ 가스 Flow에 의한 LPCVD 방법으로 증착된 다결정 실리콘 박막의 산소농도 저하
(Reduction of Oxygen Concentration in the LPCVD Polysilicon Films Deposited by $N_2$ Gas-Flow Method)
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- 한국재료학회지
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- 제9권3호
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- pp.269-273
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- 1999