Indium-tin oxides (ITO) films have been widely used as transparent electrodes for optoelectronic devices such as organic light emitting diodes (OLEDs), photovoltaics, touch screen devices, and flat-paneldisplay. In particular, to improve hole injection efficiency in OLEDs, transparent electrodes should have high work-function besides their transparency and low resistivity. Nevertheless, few studies have been made on engineering the work function of ITO for use as an efficient anode. In this study, the effects of a wide range of Nb or Zn doping rate on the changes in work functions of ITO anode were investigated. The Nb or Zn doped ITO films were fabricated on glass substrates using combinatorial sputtering system which yields a linear composition spread of Nb or Zn concentration in ITO films in a controlled manner by co-sputtering two targets of ITO and Nb2O5 or ITO and ZnO. We have also examined the resistivity, transmittance, and other structural properties of the Nb or Zn-doped ITO films. Furthermore, OLEDs employing Nb or Zn-doped ITO anodes were fabricated and the device performances were investigated concerned with the work function changes.
(Ba$\sub$0.6-x/Sr$\sub$0.4/Ca$\sub$x/)TiO$_3$(BSCT) (x=0.10, 0.15, 0.20) powder, prepared by the sol-Bel method, were mixed with organic binder and then BSCT thick films were fabricated by the screen printing techniques on alumina substrates using the BSCT paste. The structural and the dielectric Properties were investigated for various composition ratio and sintering temperature. The second phase appeared in BSCT(40/40/20) thick film sintered at 1450$^{\circ}C$. BSCT thick film thickness, obtained by four printings, was approximately 110∼120$\mu\textrm{m}$. The Curie temperature and dielectric constant at room temperature were decreased with increasing Ca content. The relative dielectric constant, dielectric loss and tunability of the BSCT(50/40/10) specimen, which was sintered at 1420$^{\circ}C$ and measured at 1MHz, were about 910, 0.46% and 9.28% at 5㎸/cm, respectively.
Kim, Byung-Woo;Chung, Hae-Geun;Min, Byoung-Koun;Kim, Hong-Gon;Kim, Woong
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제31권12호
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pp.3697-3702
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2010
We demonstrate that vertically aligned carbon nanotubes can be synthesized directly on tantalum substrate via water-assisted chemical vapor deposition and evaluate their properties as electrochemical capacitors. The mean diameter of the carbon nanotubes was $7.1{\pm}1.5\;nm$, and 70% of them had double walls. The intensity ratio of G-band to D-band in Raman spectra was as high as 5, indicating good quality of the carbon nanotubes. Owing to the alignment and low equivalent series resistance, the carbon nanotube based supercapacitors showed good rate performance. Rectangular shape of cyclic voltammogram was maintained even at the scan rate of > 1 V/s in 1 M sulfuric acid aqueous solution. Specific capacitance was well-retained (~94%) even when the discharging current density dramatically increased up to 145 A/g. Consequently, specific power as high as 60 kW/kg was obtained from as-grown carbon nanotubes in aqueous solution. Maximum specific energy of ~20 Wh/kg was obtained when carbon nanotubes were electrochemically oxidized and operated in organic solution. Demonstration of direct synthesis of carbon nanotubes on tantalum current collectors and their applications as supercapacitors could be an invaluable basis for fabrication of high performance carbon nanotube supercapacitors.
We have investigated the effect of the ambient gases on the characteristics of AZO thin films for the OLED (organic light emitting diodes) devices. These AZO thin films are deposited by rf-magnetron sputtering under different ambient gases (Ar, Ar+$O_2$, and Ar+$H_2$) at 300. In order to investigate the influences of the oxygen and hydrogen, the flow rate of oxygen and hydrogen in argon mixing gas has been changed from 0.2sccm to 1sccm and from 0.5sccm to 5sccm, respectively. The AZO thin films were preferred oriented to (002) direction regardless of ambient gases. The electrical resistivity of AZO film increased with increasing flow rate of $O_2$ under Ar+$O_2$ while under Ar+$H_2$ atmosphere the electrical resistivity showed minimum value near 1sccm of $H_2$. All the films showed the average transmittance over 80% in the visible range. The OLED device was fabricated with different AZO substrates made by configuration of AZO/$\acute{a}$-NPD/DPVB/$Alq_3$/LiF/Al to elucidate the performance of AZO substrate.
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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제5C권3호
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pp.115-118
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2005
Currently, molecular devices are reported utilizing active self-assembled monolayers (SAMs) containing the nitro group as the active component, which has active redox centers [1]. SAMs are ordered molecular structures formed by the adsorption of an active surfactant on a solid surface. The molecules will be spontaneously oriented toward the substrate surface and form an energetically favorable ordered layer. During this process, the surface-active head group of the molecule chemically reacts with and chemisorbs onto the substrate In this paper, the electrical properties of the 4'4- di(ethynylphenyl)-2'-nitro-1-benzenethiolate was confirmed. This material is well known as a conducting molecule having possible application to molecular level negative differential resistance (NDR) device. To deposit the self-assembly monolayers onto the gold electrode, the prefabricated Au(1 l l) substrates were immersed into 0.5[mM/l] self-assembly molecule in THF solution. Then, the electrical properties and surface morphologies of 4' 4-di(ethynylphenyl)-2' -nitro-1-benzenethiolate were measured by using the ultra-high vacuum scanning tunneling microscopy (UHV-STM).
Various organic acid were used in order to prepare new metalorganic deposition solution for high quality $REBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ (RE=Y, Eu, Gd) films. Prepared fluorine free MO precursor solution was coated on single crystal (001) $LaAlO_3$ (LAO) by dip coating method. Processing parameters such as oxygen partial pressure, water vapor, ramping rate and pyrolysis temperature etc havebeen controlled in order to make high $J_c$ films with a good epitaxial relationship with substrate. 0.5 micron-thick film was obtained by single coating and no crack appeared after calcination. Oxygen partial pressure was varied in the range of $100{\sim}1,000 ppm$ and conversion heat treatment was carried out at the temperature of $725{\sim}765^{\circ}C$. A critical transition temperature $(T_{c0})$ of 90K and a critical transport current density $(J_c)$ of $>0.5MA/cm^2$ (77K and self-field) were demonstrated for the YBCO film on (001) oriented LAO substrates with a thickness of 0.5 micron. $I_c$ was determined by utilizing a transport measurement. SEM and XRD investigations confirmed that films were grown epitaxially onto the LAO single crystal substrate. It is thought that fluorine free new MOD solutionis promising for high quality REBCO films.
The germanium films were deposited by metal organic chemical vapor deposition using $Ge(allyl)_4$ precursors on TiAlN substrates. Deposition of germanium films was only possible with a presence of $Sb(iPr)_3$, which means that $Sb(iPr)_3$ takes a catalytic role by a thermal decomposition of $Sb(iPr)_3$ for Ge film deposition. Also, as Sb bubbler temperature increases, deposition rate of the Ge films increases at a substrate temperature of $370^{\circ}C$. The GeTe thin films were fabricated by MOCVD with $Te(tBu)_2$ on Ge thin film. The GeTe films were grown by the tellurium deposition at $230-250^{\circ}C$ on Ge films deposited on TiAlN electrode in the presence of Sb at $370^{\circ}C$. The GeTe film growth on Ge films depends on the both the tellurium deposition temperature and deposition time. Also, using $Sb(iPr)_3$ precursor, GeSbTe films with hexagonal structures were fabricated on GeTe thin films. GeSbTe films were deposited in trench structure with 200 nm*120 nm small size.
$Bi_{3.25}Eu_{0.75}Ti_3O_{12}$ (BET) thin films were deposited on the $LaNiO_3$ (LNO (100))/Si and Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrates by the metal-organic decomposition method. Structural and dielectric properties of BLT thin films for the applications in nonvolatile ferroelectric random access memories were investigated. Both the structure and morphology of the films were analyzed by x-ray diffraction (XRD) and atomic force microscope (AFM). Even at low temperatures $650^{\circ}C$, the BET thinfilms were successfully deposited on LNO bottom electrode and exhibited (001) and (117) orientation. Compared with the Pt electrode films, the BET thin films on the LNO electrode annealed at $650^{\circ}C$ showed better dielectric constantsand remanent polarization. The BET thin films on the LNO electrode for the annealing temperature of $650^{\circ}C$, the remanent polarization Pr and coercive field were $45.6\;C/cm^2$ and 171 kV/cm, respectively.
Kim, Kyoung-Rean;Fujie, Koichi;Fujisawa, Toshiharu
Environmental Engineering Research
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제13권3호
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pp.112-118
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2008
Residual solid in excess sludge treated by hydrothermal reaction was investigated as raw material for its recycling. Treated excess sludge and residual solid were also focused on their content change during hydrothermal reaction. Two kinds of excess sludge, obtained from a local food factory and a municipal wastewater treatment process, were tested under various conditions. Following hydrothermal reaction, depending on the reaction conditions, biodegradable substrates in treated excess sludge appeared to increase. The separated residual solid was a composite composed of organic and inorganic materials. The proportion of carbon varied from 34.0 to 41.6% depending on reaction conditions. Although 1.89% of hazardous materials were detected, SiO2 (Quartz) was a predominant constituent of the residual solid. X-ray diffraction (XRD) experiments revealed that the residual solid was of a partially amorphous state, suggesting that the residual solids could be easily converted to stable and non harmful substances through a stabilization process. Thus, this technology could be successfully used to control excess sludge and its reuse.
A chromium-free Ce-based conversion coating formed by immersion in a solution containing cerium chloride and nitric acid on AZ31 magnesium alloy has been studied. The effects of acid pickling on the morphology and the corrosion resistance of the cerium conversion coating were investigated. The corrosion resistance of the conversion coating prepared on AZ31 Mg alloy after organic acid pickling was better than that of inorganic acid pickling. The morphology of the conversion-coated layer was observed using optical microscope and SEM. Results show that the conversion coatings are relatively uniform and continuous, with thickness 1.0 to $1.1{\mu}m$. The main elements of the conversion coating of AZ31 Mg alloy are Mg, O, Al, Ce and Zn by EDS analysis. The electrochemical polarization results showed that the Ce-based conversion coating could reduce the corrosion activity of the AZ31 Mg alloy substrates in the presence of chloride ions.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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