The study of the thickness dependence of the electron energy structure of Fe, Ni, Ti and Zr sublayers in Ni/Ti and Fe/Zr multilayers by using the experimental and computer simulated optical spectroscopy has been performed. A series of Ni/Ti and Fe/Ze multiayered films (MLF) with a bilayer period of 0.5 - 30 nm and constant (Ni/Ti) / different (Fe/Zr) sublayer thickness ratios were prepared by using computer-controlled double-pair target face-to-face sputtering onto a glass substrate at room temperature (RT) Computer simulation of the resulting optical properties of these MLF was carried out by solving of multireflection problem with a matrix method assuming either "sharp" interfaces resulting in rectangular depth profiles of the components or "mixed" (alloy-like) interfaces of variable thickness between pure-metal sublayers. Optical constants of pure bulk metals as well as equiatomic alloy interfaces were employed in these simulations. It was shown that the difference between experimental and simulated optical properties of the investigated MLF increases with decrease in sublayer thickness. This result allows to conclude that the electronic structures of sublayers below 4-5 nm thickness in mlf differ from the corresponding bulk metals.ponding bulk metals.
목적: 이 논문은 다양한 두께에 따른 니켈박막에 대한 광투과율을 연구한 논문이다. 방법: 다양한 두께를 가진 니켈박막을 통과하는 광투과율을 측정하였다. 결과: 열증착법으로 만든 니켈박막을 통과하는 광투과율의 두께의존성을 연구하였다. 니켈박막의 두께가 70 nm 이하인 경우에 니켈의 박막두께가 증가할수록 광투과율이 급격히 감소하는 경향을 보였고, 70 nm 이상의 경우에는 박막의 두께가 증가할수록 선형적으로 조금씩 감소하는 모습을 보여주었다. 광분산에 대한 실험에서는 빛의 입사하는 방향으로 대부분의 빛이 투과되었다. 이 결과로부터 니켈박막에서는 빛의 분산현상이 거의 없다는 것을 확인할 수가 있었다. 결론: 니켈박막두께가 증가할수록 광투과율이 급격히 감소하였다.
Shariffudin, S.S.;Salina, M.;Herman, S.H.;Rusop, M.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제13권2호
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pp.102-105
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2012
The structural, electrical, and optical properties of layer-by-layer ZnO nanoparticles deposited using sol-gel spin coating technique were studied and now presented. Thicknesses of the thin films were varied by increasing the number of deposited layers. As part of our characterization process, XRD and FE-SEM were used to characterize the structural properties, current-voltage measurements for the electrical properties, and UV-Vis spectra and photoluminescence spectra for the optical properties of the ZnO thin films. ZnO thin films with thicknesses ranging from 14.2 nm to 62.7 nm were used in this work. Film with thickness of 42.7 nm gave the lowest resistivity among all, $1.39{\times}10^{-2}{\Omega}{\cdot}cm$. Photoluminescence spectra showed two peaks which were in the UV emission centered at 380 nm, and visible emission centered at 590 nm. Optical transmittance spectra of the samples indicated that all films were transparent (>88%) in the visible-NIR range. The optical band gap energy was estimated to be 3.21~3.26 eV, with band gap increased with the thin film thickness.
The present study is devoted to investigate numerically the optical characteristics of multi-layer thin film structures such as $Si/SiO_2\;and\;Ge/Si/SiO_2$ by using the characteristics transmission matrix method. The reflectivity and the absorptivity rate for thin film structures are estimated for different incident angles of rays and various film thicknesses. In addition, the influence of wavelength on optical characteristics related to complex refractive index is examined. It is found that such wave-like characteristics are observed in predicting reflectivities and depends mainly on film thickness. Moreover, the present study predicts the film thickness for ignoring wave interference effects, and it also discusses the fundamental physics behind optical and energy absorption characteristics appearing in multi-layer thin film structures.
표면 플라즈몬 공명이 일어나는 공명각과 최적 두께를 여러 금속 박막에 대해 어드미턴스 다이어그램을 이용하여 계산하였으며, 표면 플라즈몬 공명에서 측정한 반사율과 이론치를 곡선 맞춤하여 은박막과 알루미늄 박막의 광학 상수와 두께를 결정하였다. 한 파장에 대해 두 개의 해가 존재하므로 알곤 레이저의 두 파장에서 같은 두께를 갖는 해를 광학 상수의 유일 해로 선택하였으며, 금속 박막을 공기 중에 노출시킬 경우, 박막의 표면 변화에 의해 이동된 표면 플라즈몬 공명으로부터 변화된 금속 박막의 광학 상수를 결정하였다.
Transparent, conductive electrode films, showing the particular characteristics of good conductivity and high transparency, are of considerable research interest because of their potential for use in opto-electronic applications, such as smart window, photovoltaic cells and flat panel displays. Multilayer transparent electrodes, having a much lower electrical resistance than widely-used transparent conducting oxide electrodes, were prepared by using RF/DC magnetron sputtering system. The multilayer structure consisted of three layers, [NiInZnO(NIZO)/Ag/NIZO]. The optical and electrical properties of the multilayered NIZO/Ag/NIZO structure were investigated in relation to the thickness of each layer. The optical and electrical characteristics of multilayer structures have been investigated as a function of the Ag and NIZO film thickness. High-quality transparent conductive films have been obtained, with sheet resistance of $9.8{\Omega}/sq$ for Ag film thickness of 8 nm. Also the multilayer films of inserted Ag 8 nm thickness showed a high optical transmittance above 93% in the visible range. The electrical and optical properties of the new multilayer films were mainly dependent on the thickness of Ag insertion layer.
To provide the clear images from the direct light on electrical board and display devices, anti glare treatment of display cover glass is needed. In this study, the effects of surface treatment temperature, concentration, and etching solution coating thickness of the gel phase on optical elements control such as gloss, haze of reflected light and transmittance, were investigated. Cover glasses were treated at different coating thickness and additive concentration. The optical properties were examined using spectrophotometer, gloss and haze meter. The surface morphology and roughness were measured by the optical microscope and Ra measuring instrument. The etching rate and surface morphologies were dramatically affected by the concentration of acid additive in the viscous gel because of re-crystallization of components in the etching solution, hydrogel formation and coagulant after coating on glass substrate. In our experimental range, cover glass which is surface-treated with various optical properties as well as the morphology uniformity was obtained; in particular, optical properties could be controlled by etching solution coating thickness of the gel phase and the concentration of additive. The gloss was depended on the surface roughness and it showed the linear relationship between optical transmittance and haze of reflected light, respectively.
Optical absorption properties of an orphous Se film due to interband electronic transitions are observed in the visible range by varying the folm thickness. Amorphous Se films were prepared by evaporation method. As the experimental results, it is found that optical energy gap is around 2.07(e V), and the optical constants depend on the film thickness, evaporation-deposition conditions, and incident photon energy.
본 연구에서는 직사각형 밀폐공간내에서 자연대류와 복사의 상호 영향에 대해 서 P-1 근사를 이용하여 수치적으로 해석하였다.밀폐공간내에서의 온도분포, 속도 분포 및 열전달계수를 구하였으며 열경계층내에서의 전도와 복사의 상호 영향에 대하 여 고찰하였다. 표면 복사만이 존재하는 경우에 대해서도 고찰함으로써 P-1 근사의 적용한계를 규명하였다. 벽면을 산광 방사 및 반사체(diffuse emitter and reflec- tor)로, 기체는 회색체(gray body)로 가정하였다. 이는 복사 물성치의 파장에 따른 변화를 고려할 때의 대단히 복잡한 계산 과정을 피할 수 있고, 현재의 이론적 수준에 비추어 복사 열전달의 열향을 정성적으로 규명하는데 타당한 가정이다.
Multi layered thin films with ZnS/$Na_3AlF_6$/ZnS were deposited on glass substrate by thermal evaporator precess and simulated by using EMP(Essential Macleod Program). EMP is a comprehensive software package to design and analyse the optical characteristics of multi-layered thin film. ZnS and $Na_3AlF_6$ were selected as a high refractive index and low refractive index material respectively. Additionally Cu was chosen as mid reflective material. Optical properties including color effect were systematically studied. in terms of different optical thickness of low refractive index material. The optical thickness of $Na_3AlF_6$ was changed as 0.25, 0.5, 0.75 and $1.0\lambda$. The film with 0.25, 0.5, 0.75 and $1.0\lambda$. of optical thickness showed mixed color range between bluish green and red purple, yellowish green and bluish green, purple and mixed color range of green and purple respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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