This paper is concerned with the surface hardness measurement of NiP-coated AA7050 using different loads from 10 to 100 g. The surface hardness was observed to increase from 180 to 600 Hv with increasing NiP layer thickness, depending on the load applied for indentation. When NiP coating thickness is thinner than 2 ㎛, the surface hardness of NiP-coated AA7050 was mainly determined by AA7050 substrate, while it was significantly increased by NiP coating layer when NiP coating thickness is thicker than 2 ㎛. Hardness of AA7050 substrate itself was not dependent on the applied load but the hardness of NiP-coated AA7050 was largely influenced by the load applied for indentation. The largest difference of hardness between 10 g and 100g of applied loads, was obtained at the NiP thickness of about 8 ㎛ above which the measured hardness at 10 g reached a maximum value of about 600 Hv. It was also observed that indentation-induced plastic deformation next to the indented zone occurs when NiP layer is 5.64 times thicker than the depth of impression formed by indentation.
Ni-ceria cermets have been extensively investigated as candidates for the anode in intermediate-temperature solid oxide fuel cells. We have used the citric method to synthesize nanocomposite powders consisting of NiO (Ni metal content: $40{\sim}60%$ by volume) highly dispersed in $Ce_{0.9}Gd_{0.1}O_{1.95}$ (CGO). The microstructure characteristics and sintering behaviors of the nanocomposites were investigated. No impurity phases were observed and the shrinkage of these substrates matched well with that of a CGO electrolyte with a specific surface area of $11\;m^2/g$. Densification of the CGO electrolyte layer to $<5\;{\mu}m$ thickness was achieved by co-firing the laminated electrolyte with the porous NiO-CGO substrate at $1400^{\circ}C$ for 6 h.
Orban, Radu L.;Lucaci, Mariana;Rosso, Mario;Grande, Marco Actis
한국분말야금학회:학술대회논문집
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한국분말야금학회 2006년도 Extended Abstracts of 2006 POWDER METALLURGY World Congress Part 1
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pp.692-693
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2006
Behavior of stoichiometric and near-stoichiometric NiAl at plasma spray deposition, without and with a bond coat, for coating layers realization on a low alloyed steel substrate, has been investigated. In all variants, NiAl particle melting and subsequent welding at the impact with substrate were observed, forming a relatively compact and adherent coating layer with the NiAl stability maintaining - all assuring the coating layer oxidation and corrosion resistance. Good results from these points of view, also validated through corrosion tests, were obtained for 45:55 Ni:Al composition without a bond coat but adopting an Ar protective surrounding of plasma jet.
We fabricated cube textured Ni substrate for YBCO coated conductor and evaluated the effects of processing parameters on microstructural evolution and texture formation. Ni-rods as an initial specimen were prepared by two different methods, i.e., powder metallurgy(PM) and plasma arc melting(PAM). Subsequently, the rods were cold rolled to 100 $\mu\textrm{m}$ thick substrate and annealed at temperatures of $700∼1200^{\circ}C$. The texture of the substrate was characterized by pole-figure. It was observed that the texture of substrate made by P/M did not significantly varied with annealing temperature of 600∼$l100^{\circ}C$ and the full-width at half-maximums (FWHM) of both in-plane and out-of-plane were 9$^{\circ}$∼$10^{\circ}$. On the other hand, the texture of substrate made by PAM was more dependent on the annealing temperature and the corresponding values were $9^{\circ}$ ∼$13^{\circ}$ at the temperature range. In addition, recrystallization twin texture, (221)<221>, was formed as the temperature increased further. OM profiles showed that the grain size of substrate made by P/M was smaller than that made by PAM and this difference was correlated to the microstructure of initial specimens.
In this study, Ni silicide on the SOI substrate doped B11 is proposed to improve thermal stability. The sheet resistance of Ni-silicide utilizing pure SOI substrate increased after the post-silicidation annealing at $600^{\circ}C$ for 30 min. However, using the proposed B11 implanted substrate, the sheet resistance showed stable characteristics after the post-silicidation annealing up to $700^{\circ}C$ for 30 min.
최근 웨어러블 장치에 적용하기 위한 유연성 기판에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다. 특히, 유연성 기판 중 의복에 웨어러블 장치를 적용하기 위한 전도성 섬유기판에 대한 연구가 진행되고 있다. 본 연구에서는, 면섬유 기판 표면에 CNT와 Pd복합 용액을 스프레이 법을 이용하여 형성하였고, 무전해 도금법을 이용하여 금속층을 도금하였다. 도금된 섬유기판의 형상을 분석하기 위하여 SEM 장비를 이용하였고, CNT를 증착한 섬유기판의 표면에 Ni 레이어가 형성된 것을 확인하였다. EDS 분석을 통하여 섬유기판의 표면에 형성된 물질이 Ni임을 알 수 있었다. 전기적 특성을 확인하기 위하여 4-point probe로 무전해 도금을 진행한 섬유기판의 표면저항 및 저항 분포를 확인하기 위한 맵핑을 진행하였다. 무전해 도금의 진행 시간이 길어질수록 전도성이 향상되었음을 확인할 수 있었고, 표면 위치 별 저항의 분포가 균일함을 알 수 있었다. 인장력, 굽힘, 뒤틀림 시험을 통하여 기계적 스트레스로 인한 저항변화를 측정하였다. 그 결과 도금 시간이 길어질수록 유연성 기판의 저항변화가 점점 사라지는 것을 확인하였다. UTM(Universal testing machine)을 이용하여 도금시간 변화에 대한 무전해 도금 기판의 기계적 특성 향상 여부에 대하여 분석하였다. 인장강도는 무전해 도금을 2 시간 동안 진행한 전도성 섬유기판의 경우, 면섬유 기판보다 약 16 MPa 증가하였다. 이러한 결과들을 토대로 Ni-CNT-Fabric 유연기판은 의류 일체형 전도성 기판으로 이용되기에 충분함을 확인하였고, 이러한 연구 결과는 유연기판, 웨어러블 디바이스뿐만 아니라 유연성이 필요한 배터리, 촉매, 태양전지 등에 적용되어 발전에 기여할 수 있을 것으로 기대한다.
[ $CeO_2$ ]has been widely used for single buffer layer of coated conductor because of superior chemical and structural compatibility with $ReBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$(Re=Y, Nd, Sm, Gd, Dy, Ho, etc.). But, the surface of $CeO_2$ layer showed cracks because of the large difference in thermal expansion coefficient between metal substrate and deposited $CeO_2$ layer, when thickness of $CeO_2$ layer exceeds 100 nm on the biaxially textured Ni-3%W substrate. The deposition rate has been limited to be less than 6 $\AA$/sec in order to get a good epitaxy. In this research, we deposited $CeO_2$ single buffer layers on biaxially textured Ni-3%W substrate with 2-step process such as thin nucleation layer(>10 nm) with low deposition rate(3 $\AA$/sec) and thick homo epitaxial layer(>240 nm) with high deposition rate(30 $\AA$/sec). Effect of deposition temperature on degree of texture development was tested. Thick homo epitaxial $CeO_2$ layer with good texture without crack was obtained at $600^{\circ}C$, which has ${\Delta}{\phi}$ value of $6.2^{\circ}$, ${\Delta}{\omega}$ value of $4.3^{\circ}$ and average surface roughness(Ra) of 7.2 nm within $10{\mu}m{\times}10{\mu}m$ area. This result shows the possibility of preparing advanced Ni substrate with simplified architecture of single $CeO_2$ layer for low cost coated conductor.
The influence of NiCrAlY bond coating on the adhesion properties of an Fe thermal coating sprayed on an Al substrate was investigated. By applying a bond coat, an adhesion strength of 21MPa was obtained, which was higher than the 15.5MPa strength of the coating without the bond coat. Formation of cracks at the interface of the bond coat and the Al substrate was suppressed by applying the bond coat. Microstructural analysis of the coating interface using EBSD and TEM indicated that the dominant bonding mechanism was mechanical interlocking. Mechanical interlocking without crack defects in the coating interface may improve the adhesion strength of the coating. In conclusion, the use of an NiCrAlY bond coat is an effective method of improving the adhesion properties of thermal sprayed Fe coatings on Al substrates.
We fabricated the Au/Ni template for YBCO coated conductors and evaluated texture formation and the microstructural evolution. The cube textured Ni substrate was fabricated by rolling and recrystallization annealing, and subsequently Au layer formed on the substrate by electroless-plating method. The texture was evaluated by pole-figure with x-ray goniometer with orientation distribution function (ODF) analysis. The surface roughness and grain boundary morphology of template were characterized by atomic force microscopy (AFM) We observed that Au layer deposited epitaxially on Ni substrate and formed a strong cube texture when plating time was optimized. The full-width at half-maximum (FWHM) was $8.4^{\circ}$ for out-of-plane and $9.98^{\circ}$ for in-plane texture for plating time of 30 min. Microstructural observation showed that the Au layer was homogeneous and dense without formation of crack/microcrack. In addition, we observed that root-mean-square (RMS) and depth of grain boundary were 14.6 nm and 160 $\AA$ for the Au layer, respectively, while those were 27.0 nm and 800 $\AA$ for the Ni substrate, indicating that the electoless-plated Au layer had relatively smooth surface and effectively mollified grain groove.
RF/DC 스퍼터된 $Co_{69.0}Ni_{18.5}Cr_{12.5}/Cr$ 이중박막의 미세구조와 자기적 성질과의 관계를 조사하였다. Cr 하지층과 CoNiCr 자성층의 두께는 각각 50-200 nm와 10-50 nm였으며, 기판 의 온도는 $100-200^{\circ}C$로 하였다. 기판의 온도, Cr 하지층 두께가 증가함에 따라 결정립은 미세해졌으며 보자력은 증가하였다. 기판의 온도가 $100^{\circ}C$에서 $200^{\circ}C$로 증가함에 따라 Cr(200), CoNiCr(1120) 결정방위가 강하게 나타났다. CoNiCr/Cr 이중박막의 보자력은 CoNiCr(1120) 결정방위 증가와 결정립의 미세 화에 따라 증가한다. 높은 보자력을 나타내는 박막에서 Cr 하지층위에 자성층의 epitaxial growth를 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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