• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.341-341
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• 2016

The discovery of light emission in nanostructured silicon has opened up new avenues of research in nano-silicon based devices. One such pathway is the application of silicon quantum dots in advanced photovoltaic and light emitting devices. Recently, there is increasing interest on the silicon quantum dots (c-Si QDs) films embedded in amorphous hydrogenated silicon-nitride dielectric matrix (a-SiNx: H), which are familiar as c-Si/a-SiNx:H QDs thin films. However, due to the limitation of the requirement of a very high deposition temperature along with post annealing and a low growth rate, extensive research are being undertaken to elevate these issues, for the point of view of applications, using plasma assisted deposition methods by using different plasma concepts. This work addresses about rapid growth and single step development of c-Si/a-SiNx:H QDs thin films deposited by RF (13.56 MHz) and ultra-high frequency (UHF ~ 320 MHz) low-pressure plasma processing of a mixture of silane (SiH4) and ammonia (NH3) gases diluted in hydrogen (H2) at a low growth temperature ($230^{\circ}C$). In the films the c-Si QDs of varying size, with an overall crystallinity of 60-80 %, are embedded in an a-SiNx: H matrix. The important result includes the formation of the tunable QD size of ~ 5-20 nm, having a thermodynamically favorable <220> crystallographic orientation, along with distinct signatures of the growth of ${\alpha}$-Si3N4 and ${\beta}$-Si3N4 components. Also, the roles of different plasma characteristics on the film properties are investigated using various plasma diagnostics and film analysis tools.

• 디지털콘텐츠학회 논문지
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• 제5권1호
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• pp.48-53
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• 2004

블록 기반 DCT 코딩 이미지는 NxN 블록 단위로 코딩을 하기 때문에 블록화 현상이 발생하게 된다. 특히 저비트율 이미지에서는 이러한 현상이 더욱 두드러지게 나타난다. 본 논문에서는 이러한 이미지에서 인근 픽셀 정보를 이용하여 블록화 현상을 줄이는 방법을 제안한다. 제안된 기법은 이미지 재구성 기법과 결합하는 경우에도 화질을 개선하는데 사용될 수 있다. 제안된 기법의 성능은 실험을 통해 보인다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2008년도 추계학술대회 논문집
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• pp.507-508
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• 2008

• 한국공작기계학회:학술대회논문집
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• 한국공작기계학회 1996년도 추계학술대회 논문
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• pp.1-5
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• 1996

As the manufacturing system becomes more complicated and flexible there is a strong trend of having effective flexible manufacturing system in modern manufacturing. Furthermore it seems that competitiveness of an enterprise is dependent upon. to some extent the effectiveness of flexible manufacturing system.

• 화약ㆍ발파
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• 제38권1호
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• pp.30-37
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• 2020

본 연구에서는 암석의 인장강도를 측정하는 데 터진고리(split ring; SR) 형태의 시편(NX 코어)을 이용하는 굽힘시험법의 적용성을 검토하였다. SR 시험법은 반고리(half ring; HR) 형태의 시편을 이용하는 HR 시험법(Choi et al., 2019)과 개념적으로는 동일하지만 파괴면이 하중방향과 직교하는 특징이 있다. 이 직교성 때문에 SR 시험법은 HR 시험법보다 더 높은 정확성을 발휘할 수 있을 것으로 예상되었다. HR 시편과 마찬가지로 SR 시편은 균일단면을 가진 굽은 각봉이다. 이 특수한 각봉의 이론적 인장강도는 재료강도학의 굽힘이론으로부터 계산할 수 있다. 일련의 LS-DYNA 수치해석을 수행한 결과, 예상대로 인장형 및 압축형 SR 시험법의 강도오차는 1% 및 5%로서 HR 시험법의 오차(12%)에 비해 매우 낮게 나타났다. 두 SR 시험법의 성능을 확인하기 위하여 실내실험을 실시하였다. 비교를 위하여 HR 시험과 Brazilian 시험도 함께 수행하였다. 실험 결과, Brazilian 강도에 대한 인장형 및 압축형 SR 시험의 강도비는 각각 1.2~1.4 및 1.1~1.2로 나타났는데, 이는 통상적인 굽힘시험의 경험치에 비해 너무 작은 수치였다. 결과적으로 SR 시험은 NX 코어로 성형한 암석시편에 대해서는 실용성이 없는 것으로 판단하였다. 반면, HR 시험의 강도비는 선행연구와 본 연구를 통해 1.7~2.0의 범위에 속하여 높은 일관성을 보였다.

• 한국표면공학회지
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• 제34권5호
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• pp.409-413
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• 2001

In this study, high rate deposition of thick CrNx films was carried out by crossed field unbalanced magnetron sputtering for the special application such as piston ring employed in automobile engine. For the high rate deposition and thick CrNx films formation with thickness of 30$\mu\textrm{m}$, high power density of $35W/cm^2$ in each target was induced and the multi-layer films of Cr/CrN and $\alpha$-Cr/CrN were synthesized by control of $N_2$ flow rate. The dynamic deposition rate of Cr and $\alpha$-CrN film was reached to 0.17$\mu\textrm{m}$/min and 0.12$\mu\textrm{m}$/rnin and the thick CrN$_{x}$. film of 30$\mu\textrm{m}$ could be obtained less than 5 hours. The maximum hardness was obtained above 2200 kg/mm$^2$ and adhesion strength was measured in about 70N, in case of multi-layers films. And the friction coefficient was measured by 0.4, which was similar to the value of CrN single-layer film.m.

• 한국표면공학회지
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• 제48권5호
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• pp.245-252
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• 2015

In recent years, the cleaning and activation technology of surfaces using atmospheric plasma as well as the deposition technology for coating using atmospheric plasma have been demonstrated conclusively and drawn increasing industrial attention. Especially, due to the simplicity, the technology using atmospheric plasma enhanced chemical vapor deposition has been widely studied from many researchers. The plasma source type commonly used as the stabilization of diffuse glow discharges for atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapor deposition pressure is the dielectric barrier discharge. In this review paper, some kinds of modified dielectric barrier discharge type will be presented. And, the characteristics of silicon based compound such as SiOx and SiNx deposited using atmospheric plasma enhanced chemical vapor system will be discussed.

• 대한소아치과학회지
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• 제25권2호
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• pp.467-475
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• 1998

악안면 영역에 동통이 가하여지면 회피반사의 일종인 개구반사가 유발되며, 개구반사의 크기는 뇌간의 중추에 전달된 동통의 크기에 비례한다. 따라서 동통의 정도를 악이복근의 근전도를 이용하여 정량화 할 수 있고 동통의 지표로 이용할 수 있다. 본 실험은 악안면동통에 의하여 유발된 개구반사의 크기가 침점(족삼리) 전기자극으로 감소되는지와 이러한 전기침의 효과가 나타나는데 opioid 물질이 관여하는지에 대하여 연구하고자 하였다. 8주 이상, 150g이상의 Sprague-Dawley계 쥐 34 마리를 암수 구별없이 이용하여 실험하였다. 복강 내 Urethane용액(1.5g/kg)을 주입 전신마취하고 악이복근을 노출시켜 근전도 기록을 위한 한쌍의 선전극을 삽입하였다. 동통유발을 위하여 구강내 하악 이공주변에 0.1mm의 선전극을 한쌍 삽입하고 전기자극기에 연결하였다. 유해자극 조건은 duration $100{\mu}sec$, interval 5sec의 pulse로 정하고 자극의 크기는 개구반사를 일으키는 역치의 2배 크기로 하며 매 측정시마다 동일 자극을 10회식 가하여 평균하였다. 침점의 전기자극을 위하여 침점의 하나인 족삼리(Zusanli)에 표면전극(넓이 $0.4cm^2$ 정도)을 부착하고 자극부위가 약한 근수축을 일으키는 강도인 $100{\mu}sec$, 5V, 2Hz의 자극을 20분간 가하였다. 악이복근의 근전도는 교류증폭기 (Dam80, WPI, USA) 에서 1000배 증폭하여 유해자극이 가해진 순간 oscilloscope 에서 관찰하여 그 크기를 측정하였다. 침점의 전기자극으로 나타나는 진통효과가 opioid의 분비와 관련있는지 알아보기 위하여 opioid 의 길항제인 naloxone(0.2mg/kg)을 복강 내로 투여하였다. 실험군을 4군(group I - IV)으로 분류하였고 각 군에서 근전도를 측정한 단계는 다음과 같다. group I : control 침점에 전기자극 20 분간 가한후(EA), 20분후(EA20) group II : control 침점에 전기자극 20분간 가한후(EA), naloxone 투여 20분후(NX) group III : control naloxone 투여 5분후 침점에 전기자극 20분 가한후(NxEA20) group IV : control naloxone 투여 20분후(NX20) 구강내에 가해진 유해자극에 의하여 발생하는 악이복근 근전도는 족삼리 침점의 전기자극으로 그 크기가 감소하였고 이러한 침점자극의 효과는 naloxone의 투여로 인하여 억제되었다. 이와 같은 결과는 침점자극으로 진통작용이 나타나는데에 opioid 물질이 관여하고 있음을 시사한다.

• 천문학회보
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• 제37권1호
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• pp.67.2-67.2
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• 2012

경희대학교와 UC Berkeley, Imperial College London은 우주관측을 위한 초소형 인공위성인 TRIO-CINEMA(TRIO-CINEMA) Project를 수행하고 있다. TRIO-CINEMA는 총 3기의 인공위성으로 경희대학교에서 2기의 위성을, UC Berkeley에서 1기의 위성을, Imperial College에서 3개의 자력계를 제작하고 있다. CINEMA는 Cubesat의 3U 규격으로 크기는 $100mm{\times}100mm{\times}340.5mm$이고 무게는 약 3 kg, 소비전력은 약 3 W이며, 지구 주변의 ENA측정을 위한 주 탑재체인 STEIN(SupraThermal Electrons, Ions, and Neutrals)과 자기장 측정을 위한 부 탑재체인 MAGIC(MAGnetometer from Imperial College)이 탑재되어 약 1년간 800 km 태양동주기 궤도에서 임무를 수행할 예정이다. 위성의 발사는 별도의 POD(Picosatellite Orbital Deployer)라는 Adaptor를 사용해 발사체에 탑재되는데, 발사환경에서 위성이 받을 모든 현상에 관하여 NX Nastran을 사용해 계산을 진행하였다. 계산 결과의 검증을 위해 위성의 Structure Model을 가지고 Random Vibration test를 수행해 위성의 고유 진동수를 측정하였다. 또한 위성이 궤도에서 운용 중 다양하게 받게 되는 열원에 따른 위성의 각 부분의 온도변화를 NX TMG program을 사용하여 계산하였다. 계산 결과의 검증을 위해 3월 Thermal Cycle test 및 Thermal Balance test를 수행할 예정이다. UC Berkeley에서 제작한 위성 1기는 제작완료 후 발사를 위해 발사장으로 배송을 완료하였고, 경희대학교에서 제작 중인 CINEMA 위성 2기는 2012년 후반기 러시아에서 Dnepr 로켓을 사용해 발사 예정이다.

• 한국표면공학회지
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• 제29권5호
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• pp.545-548
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• 1996

$CrN_x$ films were deposited on SKD61 and S45C by cathodic arc ion plating process. In this study, the microstructure, microhardness, a hesion, wear and corrosion properties of the CrNx films were studied for various nitrogen partial pressures and the results were compared with those from the electroplated hard Cr. The crystal structure of the films was characterized by X-ray diffraction. Wear tests were performed under no lubricant condition at atmosphere by ball-on-disc type tribotester. Corrosion resistance of the films were studied by electrochemical corrosion test, measuring current demsity-potential curves. The results indicated that the $CrN_x$ films formed using ion plation method showed higer hardness and lower current density, friction coefficient than electroplated hard Cr. Consequently, the application of the CrNx coationgs by ion plating which is free of environmental pollution, is expected to improve lifetime of components in industrial practice.