• Title/Summary/Keyword: NM64

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Design and characteristics of 10Gbps$\times$64 ch. wavelength multiplexed optical signal amplification unit with 1530~1560 nm and 1570~1600 nm gain band (1530~1560nm와 1570~1600nm의 이득 대역을 갖는 10Gbps$\times$64채널 파장 다중화된 광신호 증폭 유니트의 설계 및 특성 측정)

  • 이정찬;정희상;주무정;김광준;이종현
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.12 no.3
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    • pp.200-204
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    • 2001
  • The structural design and the measured characteristics of optical signal amplification unit for 640 Gbps (10 Gbps$\times$64 ch.) WDM transmission systems are reported. The unit is composed of two sub gain block units for the amplification of C-band (1530-1560 nm) and L-band (1570-1600 nm), respectively. Programmable microprocessors monitor the states of operation and optimize the optical output conditions. Each sub gain block unit can maintain total optical output power of +21 dBm with gain flatness of < 1 dB and noise figure of <7.2 dB for the input power in the dynamic range from-5 to +1 dBm.+1 dBm.

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HRTEM Observations on the Modulated Structure in Pseudo-brookite-type Compound, $(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$ (HRTEM에 의한 pseudo-brookite 형 화합물$(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$에서의 변조구조 관찰)

  • Lee, Hwack-Joo;Park, Hyun-Min;Cho, Yang-Koo;Ryu, Hyun;Nahm, Sahn;Bando, Y.
    • Applied Microscopy
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    • v.29 no.1
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    • pp.95-103
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    • 1999
  • Microstructural observations on the pseudo-brookite $MgTi_2O_5$ and the similar type of $(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$ were carried out using a top-entry HRTEM working at 200 kV. The modulated structures were found in $(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$, however, not in $MgTi_2O_5$. The electron diffraction patterns of sublattice in $(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$ are quite similar to those of pseudo-brookite $MgTi_2O_5$. but the complicated superlattice reflections are present in the diffraction patterns. Four types of modulations have been found. The periodicities for the modulated structure are found to be 3.63 nm, 0.79 nm and 0.64 nm along [220] direction, and 0.81 nm along [420] direction. The phase transition from the modulated structure to the unmodulated one was also observed in situ due to the electron beam irradiation reversibly. Further damage by the electron beam made the crystal to be fragmented into many small crystals with the formation of the voids at the kinks in ledged structure of the surface. The anisotropic arrangements of In and O atoms in $(In_{0.36}Zn_{1.09})Ti_2O_{5.64}$ might cause the compound to be unstable under the electron beam.

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$In_{0.64}Al_{0.36}Sb$층의 성장온도 및 도핑에 따른 광학적 특성

  • O, Jae-Won;Kim, Hui-Yeon;Ryu, Mi-Lee;Im, Ju-Yeong;Sin, Sang-Hun;Kim, Su-Yeon;Song, Jin-Dong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.160-160
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    • 2010
  • 테라헤르츠 소스로 저온 InGaAs를 대체하기 위해 저온에서 성장한 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 성장 온도에 따른 광학적 photoluminescence (PL)과 time-resolved PL (TRPL) 측정을 이용하여 분석하였다. 또한 Be 도핑 농도에 따른 p형 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 PL과 TRPL 특성을 undoped $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$와 Si-doped $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ 결과와 비교 분석하였다. 본 연구에 사용한 시료는 분자선 엑피탁시 (molecular beam epitaxy)법으로 GaAs 기판 위에 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$을 다양한 성장온도에서 ${\sim}3.7\;{\mu}m$두께 성장하였다. $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 성장온도는 $400^{\circ}C$ 에서 $460^{\circ}C$까지 변화시키며 성장하였으며, Si과 Be 도핑한 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ 시료는 약 $420^{\circ}C$에서 성장하였다. 모든 시료의 PL 피크는 ~1450 nm 근처에서 나타나며 단파장 영역에 shoulder 피크가 나타났다. 그러나 가장 낮은 온도 $400^{\circ}C$에서 성장한 시료는 1400 nm에서 1600 nm에 걸쳐 매우 넓은 피크가 측정되었다. PL 세기는 $450^{\circ}C$ 에서 성장한 시료가 가장 강하게 나타났으며, $435^{\circ}C$에서 성장한 시료의 PL 세기가 가장 약하게 나타났다. 방출파장에 따른 PL 소멸곡선을 측정하였으며 double exponential function을 이용하여 운반자 수명시간을 계산하였다. 운반자 수명시간은 빠른 소멸성분 $\tau_1$과 느린 소멸성분 $\tau_2$가 존재하고 빠른 성분 $\tau_1$의 PL 진폭이 약 80%로 느린 성분 $\tau_2$보다 우세하게 나타났다. 각 PL 피크에서의 운반자 수명시간 $\tau_1$은 ~1 ns로 성장온도에 따른 변화는 관찰되지 않았다. 또한 방출파장이 1400 nm에서 1480 nm까지 PL 피크 근처에서 운반자 수명시간은 거의 일정하게 나타났다. Be-doped 시료의 PL 피크는 1236 nm에서 나타나며, Si-doped 시료는 1288 nm, undoped 시료는 1430 nm에서 PL 피크가 측정되었다. PL 피크에서 PL 소멸곡선은 Be-doped 시료가 가장 빨리 감소하였으며, Si-doped 시료가 가장 길게 나타났다. 이러한 결과로부터 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 광학적 특성은 성장 온도, dopant type, 도핑 농도에 따라 변화하는 것을 확인하였다.

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Size Dependence of FMR Linewidth in Iron Oxide Nanoparticles (산화철 나노입자의 크기에 따른 강자성 공명 신호의 선폭 특성)

  • Kim, Dong Young;Yoon, Seok Soo
    • Journal of the Korean Magnetics Society
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    • v.24 no.1
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    • pp.11-17
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    • 2014
  • We measured the ferromagnetic resonance (FMR) signal using the monodisperse iron oxide nanoparticles with size D=4.67 nm, 5.64 nm and 6.34 nm synthesized by using the thermal decomposition method, respectively. The measured ferromagnetic resonance signals were compared with the calculated ones for superparamagnetic nanoparticles with lognormal volume distribution. The FMR linewidth broadening was propositional to tanh($V^2$), where V was volume of nanoparticles. The narrow linewidth of small size nanoparticles was due to the surface spins, while the broad linewidth of large size nanoparticles was due to the bulk spins affected by the crystalline structure of iron oxide nanoparticles. The superposition of surface and bulk effect was confirmed at D=5.64 nm nanoparticles, which was near the critical size for linewidth transition from surface effect to bulk effect.

Silicon doping effects on the optical properties of $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ grown on GaAs substrates

  • Kim, Hui-Yeon;Ryu, Mi-Lee;Im, Ju-Yeong;Sin, Sang-Hun;Kim, Su-Yeon;Song, Jin-Dong
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.159-159
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    • 2010
  • 본 논문은 테라헤르츠 소스로 저온 InGaAs를 대체하기 위한 저온 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 실리콘(Si) 도핑 농도에 따른 광학적 특성 변화를 photoluminescence (PL)과 time-resolved PL (TRPL) 측정을 이용하여 분석하였다. $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ 시료는 분자선 엑피탁시 (molecular beam epitaxy)법으로 GaAs 기판 위에 약 $420^{\circ}C$에서 $3.7\;{\mu}m$ 두께 성장하였다. Si은 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ 시료에서 도핑 농도가 낮을 때는 어셉터(acceptor)로 작용하다가 도핑 농도가 증가함에 따라 도너(donor)로 작용하였다. 본 연구에 사용한 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$ 시료의 Si 도핑 농도는 $4.5{\times}10^{16}\;cm^{-3}$ (n형), $4{\times}10^{16}\;cm^{-3}$ (n형), $8{\times}10^{15}\;cm^{-3}$ (n형), $1{\times}10^{15}\;cm^{-3}$ (p형), $4{\times}10^{14}\;cm^{-3}$ (p형)인 다섯 개의 시료를 사용하였다. Si 도핑한 시료의 PL 피크는 undoped 시료보다 약 100-200 nm 단파장에서 나타나고 PL 세기도 크게 증가하였다. 그러나 Si 도핑 농도가 가장 낮은 n형과 p형 시료의 PL 피크가 가장 짧은 파장 (높은 에너지)에 나타나고 도핑 농도가 증가함에 따라 장파장으로 이동함을 보였다. n형 시료의 도핑 농도가 $8{\times}10^{15}\;cm^{-3}$에서 $4.5{\times}10^{16}\;cm^{-3}$로 증가하였을 때 PL 피크는 1232 nm에서 1288 nm까지 장파장쪽으로 이동하였으며, p형 시료는 도핑 농도가 $4{\times}10^{14}\;cm^{-3}$에서 $1{\times}10^{15}\;cm^{-3}$로 증가하였을 때 PL 피크가 1248 nm에서 1314 nm로 이동함을 보였다. 또한 시료 온도에 따른 PL 결과는 온도가 증가함에 따라 PL 피크는 장파장으로 이동하면서 PL 세기는 급격하게 감소하고 약 100 - 150 K에서 소멸하였다. 그러나 ~1500 nm 이상 장파장 영역에 매우 넓은 새로운 피크가 나타났으며 온도가 증가함에 따라 PL 세기가 증가함을 확인하였다. Si 도핑 농도에 따른 운반자 수명시간 변화를 TRPL을 이용하여 측정하였다. 운반자 수명시간은 double exponential function을 이용하여 얻었다. Si 도핑 시료의 운반자 수명시간이 undoped 시료에 비해 매우 길게 나타났으며, Si 도핑 시료에서는 p형 시료들보다 n형 시료들의 운반자 수명시간이 길게 나타났다. PL 방출파장에 따른 운반자 수명시간은 Si 도핑 농도에 따라 다르게 나타났다. 이러한 PL과 TRPL 결과로부터 $In_{0.64}Al_{0.36}Sb$의 발광 특성 및 운반자 동역학은 Si 도핑에 크게 영향을 받는다는 것을 확인하였다.

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The Purfication and Characterization of Macrolide-Phosphotransferase K of Escherichia coli 209K Highly Resistant to Erythromycin (에리스로마이신 고도내성 대장균 209K 유래 마크로라이드-포스포트란스페라제 K의 정제 및 특성)

  • Kim, Sook-Kyung;Oh, Tae-Gwon;Baek, Moon-Chang;Hong, Jong-Soo;Kim, Byong-Kak;Choi, Eung-Chil
    • YAKHAK HOEJI
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    • v.41 no.3
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    • pp.359-364
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    • 1997
  • Resistance gene mphK was cloned from Escherichia coli 209K strain which is highly resistant to erythromycin (EM). By using the cloned plasmid pGE64, E. coli NM522 was transformed. The comparison of macrolide-phosphotransferase K [MPH(K)] activity between E. coli 209K and E. coli NM522(pGE64) showed that the total enzyme activity of MN522(pGE64) was fifty-fole higher than that of 209K. To identify characteristics of MPH(K) more precisely. MPH(K) was isolated and purified from the NM522 (pGE64). The final purification f MPH(K) through several stages of purification process was 89 fole and the overall recovery was 11%. This enzyme was monomer with the molecular weight of 34 kDa and its isoelectric point (pI) was 5.0. The optimal pH and temperature for activity were 8.0 and $40^{\circ}C$, respectively.

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A study on the Nano Wire Grid Polarizer Film by Magnetic Soft Mold (Magnetic soft mold를 이용한 나노 와이어 그리드 편광 필름 연구)

  • Jo, Sang-Uk;Chang, Sunghwan;Choi, Doo-Sun;Huh, Seok-Hwan;Jeong, Myung Yung
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.21 no.2
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    • pp.85-89
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    • 2014
  • We propose the new fabrication method of a 70 nm half-pitch wire grid polarizer with high performance using magnetic soft mold. The device is a form of aluminium gratings on a PET(Polyethylene phthalate) substrate whose size of $3cm{\times}3cm$ is compatible with a TFT_LCD(Tin Flat Transistor Liquid Crystal Display) panel. A magnetic soft mold with a pitch of 70 nm is fabricated using two-step replication method. As a result, we get a NWGP pattern which has 70.39 nm line width, 64.76 nm depth, 140.78 nm pitch, on substrate. The maximum and minimum transmittances of the NWGP at 800 nm are 75% and 10%, respectively. This work demonstrates a unique cost-effective solution for nanopatterning requirements in consumer electronics components.

Fabrication and Characterization of Macro/Mesoporous SiC Ceramics from SiO2 Templates (실리카 주형을 이용한 메크로/메조다공성 탄화규소 세라믹의 제조와 비교특성)

  • ;Hao Wang
    • Journal of the Korean Ceramic Society
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    • v.41 no.7
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    • pp.528-533
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    • 2004
  • Macroporous SiC with pore size 84∼658 nm and mesoporous SiC with pore size 15∼65 nm were respectively prepared by infiltrating low viscosity preceramic polymer solutions into the various sacrificial templates obtained by natural sedimentation or centrifuge of 20∼700 nm silica sol, which were subsequently etched off with HF after pyrolysis at 1000∼140$0^{\circ}C$ in an argon atmosphere. Three-dimensionally long range ordered macroporous SiC ceramics derived from polymethylsilane (PMS) showed surface area 584.64$m^2$g$^{-1}$ when prepared with 112nm silica sol and at 140$0^{\circ}C$, whereas mesoporous SiC from polycarbosilane (PCS) exhibited the highest surface area 619.4 $m^2$g$^{-1}$ with random pore array when prepared with 20-30 nm silica sol and at 100$0^{\circ}C$. Finally, tile pore characteristics of porous SiC on the types of silica sol, polymers and pyrolytic conditions were interpreted with the analytical results of SEM, TEM, and BET instruments.

Optimization of I layer bandgap for efficient triple junction solarcell by ASA simulation (삼중접합 태양전지에서 Intrinsic Layer 밴드갭 가변을 통한 태양전지 고효율화 시뮬레이션)

  • Kang, Minho;Jang, Juyeon;Baek, Seungsin;Yi, Junsin
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 2011.11a
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    • pp.64.1-64.1
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    • 2011
  • 다중접합 태양전지는 흡수대역이 다른 juntion으로 구성되어, 각각의 태양전지 간의 전류정합(current matching)이 효율 향상에 중요하다. 본 실험에서는 Top cell에 i-a-Si:H(Thinckness:100nm), Middle cell에는 i-a-SiGe:H(Thickness:800nm)을 적용하였고, bottom cell에는 i-${\mu}c$-Si:H(Thickness:1800nm), 수광부의 p-layer에 에 SiOx을 이용하여 triple juntion amorphous silicon solar cell(삼중접합태양전지)을 구현하였다. 이를 최적화 시키기 위해 ASA simulation을 이용하여 각 Cell의 intrinsic layer의 밴드갭을 가변하였다. 가변 결과 i-a-Si:H : 1.85 eV, i-a-SiGe:H: 1.6 eV, i-${\mu}c$-Si:H: 1.4 eV에서 태양전지 효율 14.5 %을 기록 하였다. 본 연구를 통해 Triple juntion cell에서의 intrinsic layer의 밴드갭 최적화를 구현해 볼 수 있었다.

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