• 제목/요약/키워드: Multi-Layered SAW Device

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SiO$_2$ 완충층이 ZnO 박막의 물성 및 IDT/ZnO/SiO$_2$/Si 다층막 구조 표면탄성파 소자의 특성에 미치는 영향 (Effects of SiO$_2$ Buffer Layer on Properties of ZnO thin films and Characteristics of SAW Devices with a Multilayered Configuration of IDT/ZnO/SiO$_2$/Si)

  • 이진복;이명호;박진석
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제51권9호
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    • pp.417-422
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    • 2002
  • ZnO thin films were deposited on various substrates, such as Si-(111), SiO$_2$(5000 $\AA$ by thermal CVD)/Si-(100), and SiO$_2$(2000 $\AA$ by RF sputtering)/Si-(100). The (002)-orientation, surface morphology and roughness, and electrical resistivity of deposited films were measured and compared in terms of substrate. Surface acoustic wave(SAW) filters with a multilayered configuration of IDT/ZnO/SiO$_2$/Si were also fabricated and the IDT was obtained using a lift-off method. From the frequency-response characteristics of fabricated devices, the insertion loss and side-lobe rejection were estimated. The experimental results showed that the (002)-oriented growth nature of ZnO films, which played a crucial role of determining the characteristic of SAW device, was strong1y dependent upon the SiO$_2$buffer.

Magnetron sputtering 법으로 제조된 Al-1%Cu/Tungsten Nitride 다층 박막 (Deposition process of Multi-layered Al-%Cu/Tungsten Nitride Thin Film)

  • 이기선;김장현;서수정;김남철
    • 한국재료학회지
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    • 제10권9호
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    • pp.624-628
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    • 2000
  • 표면 탄성과 디바이스의 전극재료로 사용되는 Al-%Cu(4000$\AA$)/tungsten nitride 박막을 magnetron sputtering 법으로 제조하고 전기저항을 평가한 비정질상의 tungsten nitride 박막을 제조할 수 있었고, 비정질 형성을 위해 질소비(R =$N_2$/(Ar+$N_2$)가 10~40% 정도 필요하다. Tungsten nitride 박막의 잔류응력은 비정질이 형성되면서 급격히 감소되었다. 이러한 비정질 박막위에 Al-1%Cu 합금막이 형성되었다. 다층막은 453K에서 4시간 동안 열처리함으로써 $3.6{\mu}{\Omega}-cm$의 저항을 나타냈는데, 이는 박막내 결정립 성장과 결함의 감소에 기인하였다.

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