• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제16권2호
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• pp.18-32
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• 1991

The purpose of this study was to observe characteristic properties of amalgam through the polarization curves and SEM images from 4 type amalgams (Amalcap, Shofu spherical. Dispersalloy and Tytin) with 3 different surface finish procedures (polishing, burnishing and carving) by using the potentiostats (EG & GPARC) and SEM (Jeol JSM-35). After each amalgam alloy and Hg was triturated as the direction of the manufacturer by means of mechanical amalgamator (Samki), the triturated mass was inserted into the cylndrical metal mold which was 12 mm in diameter and 10 mm in height and was pressed with $100kg/cm^2$. 4 specimens of each type amalgam were burnished with egg burnisher and another 4 specimens of each type amalgam were carved with Hollenback carver. Above 8 specimens and remaining untreated 4 specimens were stored at room temperature for about 7 days. Untreated 4 specimens of each type amalgam were polished with abrasive papers (Deer) from #400 to #1200 and finally on the polishing cloth with $0.5{\mu}m$ and $0.06{\mu}m$ $Al_2O_3 $ powder suspended water. Anodic polarization measurements was employed to compare the corrosion behaviours of the amalgams in 0.9% saline solution at $37^{\circ}C$. The open circuit potential was determined after 30 minutes immersion of specimen in electrolyte. The scan rate was 1 mV/sec and the surface area of amalgam exposed to the solution was $0.64cm^2$ for each specimen. All the potentials reported are with respect to a saturated calomel electrode (SCE). SEM images of each specimen were taken after + 800 mV (SCE) polarization. The results were as follows: 1. The corrosion potential of high copper amalgam was more anodic than that of low copper amalgam. 2. The polished amalgam were more resistant to corrosion than any other burnished and carved amalgam. 3. In the case of polishing, current density of high copper amalgam was lower than that of low copper amalgam.

• 조명전기설비학회논문지
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• 제16권1호
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• pp.13-19
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• 2002

새로운 방전 AND gate를 가지는 플라즈마 디스플레이 패널이 제안되었고 이를 검증하기 위한 구동 회로 시스템이 개발되었다. 그리고 방전 AND gate의 동작이 검증되었다. 방전 AND gate는 8$\mu\textrm{s}$의 동작속도와 20V의 동작마진을 가지고 동작하였으며 인근 주사라인의 방전을 정확히 제어할 수 있다는 것을 알았다. 이 방식은 직류 방전을 사용함으로 종래의 방전 AND gate에 비해 손쉽게 방전을 제어할 수가 있다. 더구나 AND gate의 입력방전과 출력방전이 분리되어 동작하기 때문에 디스플레이 방전이 AND gate를 통과하는 것을 방지할 수 있다. 그러므로 대화면 플라즈마 디스플레이에의 적용이 가능하고 주사방전이 화질에 영향을 주지 않으므로 명암비의 저하가 일어나지 않는다.

• Journal of Photoscience
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• 제7권3호
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• pp.115-121
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• 2000

Although there are high concentrations of zinc and taurine in ocular tissue, their exact role and correlation in the visual process are not clear. The purpose of present study was to clarity this point using electroretinogram (ERG) recording and spectrophotometer measurements before and after zinc and taurine treatment in bullfrog's eye. The optimal zinc concentration used in this study was 10$^{-2}$ M ZnCl$_2$120 ${mu}ell$/12$m\ell$ ringer solution while the optimal turine concentration was 10$^{-2}$ M taurine 12${mu}ell$/12$m\ell$ ringer solution. For the effects of zinc and taurine on the retinal function, the changes of ERG parameters (especially threshold and b-wave) and absorption spectra were observed before and after treatment. It is noteworthy that high concentrations of zinc and taurine present in the retinal pigment epithelium and the retina. Our results indicate that dark-adapted ERG threshold became elevated and the peak amplitude of b-wave was increased with zinc and taurine treatment. Furthermore there are some synergism effects between zinc and taurine as a result of co-treatment. In spectral scan, absorbance increment due to zinc and taurine treatment was shown over the whole range of spectral range (300-750 nm) with some differences in absorbance increment depending on the case of treatment. As the results of above we believe that zinc and taurine, which are abundant in the retinal pigment epithelium and the retina particularly, may be essential factors for visual process, have some synergism with each other and be required to improve the visual sensitivity during visual adaptation.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 1995년도 추계학술대회 논문집
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• pp.224-227
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• 1995

The micro-patterning by a Bow energy FIB whish has been conventionally utilized far mask-repairing was investigated. Amorphous Se$\_$75/Gee$\_$25/ resist irradiated by 9[keV]-defocused Ga$\^$+/ ion beam(∼10$\^$15/[ions/$\textrm{cm}^2$]) resulted in increasing the optical absorption, which was also observed also in the film exposed by an optical dose of 4.5${\times}$10$\^$20/[photons/$\textrm{cm}^2$]. The ∼0.3[eV] edge shift for ion-irradiated film was about twice to that obtained for photo-exposed. These large shift could be estimated as due to an increase in disorder from the decrease in the sloop of the Urbach tail. For Ga$\^$+/ FIB irradiation with a relatively low energy, 30[keV] and above the amount of dose of 1.4${\times}$10$\^$16/[ions/$\textrm{cm}^2$], the irradiated region in a-Se$\_$75/Ge$\_$25/ resist was perfectly etched in acid solution for 10[sec], which is relatively a short development time. A contrast was about 2.5. In spite of the relatively low incident energy,∼0.225[$\mu\textrm{m}$] pattern was clearly obtained by the irradiation of a dose 6.5${\times}$10$\^$16/[ions/$\textrm{cm}^2$] and a scan diameter 0.2[$\mu\textrm{m}$], from which excellent results were expected fur incident energies above 50[keV] which was conventionally used in FIBL.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제17권8호
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• pp.875-881
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• 2004

Fundamental results obtained from an atomic force microscope (AFM) chemically-induced direct nano-lithography process are presented, which is regarded as a simple method for fabrication nm-scale devices such as superconducting flux flow transistors (SFFTs) and single electron tunneling transistors (SETs). Si cantilevers with Pt coating and with 30 nm thick TiO coating were used as conducting AFM tips in this study. We observed the surfaces of superconducting strip lines modified by AFM anodization' process. First, superconducting strip lines with scan size 2 ${\mu}{\textrm}{m}$${\times}$2 ${\mu}{\textrm}{m}$ have been anodized by AFM technology. The surface roughness was increased with the number of AFM scanning, The roughness variation was higher in case of the AFM tip with a positive voltage than with a negative voltage in respect of the strip surface. Second, we have patterned nm-scale oxide lines on ${YBa}-2{Cu}_3{O}_{7-x}$ superconducting microstrip surfaces by AFM conductive cantilever with a negative bias voltage. The ${YBa}-2{Cu}_3{O}_{7-x}$ oxide lines could be patterned by anodization technique. This research showed that the critical characteristics of superconducting thin films were be controlled by AFM anodization process technique. The AFM technique was expected to be used as a promising anodization technique for fabrication of an SFFT with nano-channel.

• 전자공학회논문지SC
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• 제38권4호
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• pp.45-53
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• 2001

본 논문에서는 HDTV급 이상의 고해상도 AC PDP를 구동할 수 있는 새로운 구동방식을 제안하였다. 제안한 구동방식은 유지방전 펄스의 상승부와 하강부를 어드레스 방전에 이용하여 0.85${\mu}s$의 데이터 펄스 및 스캔 펄스 쪽으로 어드레스 방전이 가능하고 위상차이가 있는 유지방전 펄스를 인가하여 어드레스 방전의 횟수를 증가시켜 고해상도의 AC PDP패널을 고휘도로 구동할 수 있다. 유지 방전 주파수가 125kHz이고 4개의 위상차이를 줄 경우 최대 2080 수평해상도의 패널을 구동 할 수 있다. 이를 확인하기 위해 $30{\times}58$ 해상도의 4인치 칼라 AC PDP를 제한한 구동방식으로 구동하였으며 전압이 140V이고 주파수가 125kHz인 유지방전 펄스로 화면 잡음 없이 850 $cd/m^2$의 고휘도를 구현하였다.

• 핵의학기술
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• 제14권2호
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• pp.159-165
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• 2010

방사선 분야는 건강검진의 증가와 방사선 장치의 발달로 진단에서 치료까지 그 업무의 범위가 확대 및 급격히 증가하고 있으며 방사선 종사자의 방사선 피폭 관리가 중요하게 대두되고 있다. PET 검사에 이용되는 양전자 방출핵종은 511 keV의 감마선을 방출하기 때문에 종사자의 방사선 피폭의 증가로 피폭선량 저감을 위한 노력이 요구된다. 본 연구는 환자에게로부터 일정거리 외부선량률을 측정하고 거리에 따른 선량률 변화를 확인하고 차폐를 이용하여 외부선량률의 변화를 알아보았다. 2009년 12월부터 2010년 1월까지 PET/CT 검사를 위해 내원한 10명의 환자를 대상으로 하였다. Digital surveymeter를 이용하여 선량률을 측정하였다. 산란선에 대한 영향을 평가하기 위해서 이동식 방사선 차폐체를 설치하고 왼쪽, 중앙, 오른쪽 부분의 100 cm, 150 cm, 200 cm에서 총 12회 선량률을 측정하였다. 환자 선량률 측정은 $^{18}F$-FDG 5.18 MBq/kg을 주사하고 1시간이 지난 후에 선량이 안정되었을 때 즉시 1회를 측정하였다. 이동식 방사선 차폐체를 설치하기 전에 머리, 가슴, 복부, 무릎, 발끝 쪽의 위치에서 10 cm, 50 cm, 100 cm, 150 cm, 200 cm 위치로 총 80포인트에서 측정하였고 이동형 방사선 차폐체를 설치한 후 머리와 가슴, 복부 부분에서 100 cm, 150 cm, 200 cm 거리의 선량률을 측정하여 외부선량률을 확인하였다. 산란선 측정에 대해서는 위치별로 거리에 따라 분산분석을 시행하였다. 납 차폐를 하지 않았을 때와 차폐를 했을 때의 등선량곡선을 그렸으며 100 cm, 150 cm, 200 cm에 대하여 두 집단간에 상관분석을 시행하였다(SPSS ver. 12). 점 선원을 이용한 산란선 측정에서 100 cm, 150 cm, 200 cm에서는 p>0.05로 유의한 차이가 없었다. 거리가 멀어질수록 선량률이 낮아졌으며 머리 부분이 가장 높은 선량률이 나타났고 발 부분으로 갈수록 선량률이 떨어졌다. 또한 차폐를 하였을 경우 차폐를 하지 않았을 때보다 선량률이 낮아졌으며 100 cm에서 유의한 차이가 있었고(p<0.05) 150 cm, 200 cm에서는 유의한 차이가 없었다(p>0.05). 피폭을 줄이기 위해서는 방사선원에서 거리를 멀리하거나 적당한 차폐체를 이용하는 것이 피폭저감에 도움을 준다. 근무자의 동선을 파악하여 적당한 차폐체를 이용한다면 방사선 종사자의 방사선 피폭을 줄일 수 있을 것이다.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제50권5호
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• pp.933-937
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• 2012

본 연구에서는 환경오염을 발생시키는 주요한 중금속 물질의 하나인 구리를 상대적으로 쉽게 검출하기 위해, CNT 전극 및 벗김전압전류법을 이용하여 구리 금속의 감도 향상을 위한 최적조건 및 민감도를 평가하였다. 또한 구리의 벗김반응이 발생될 때의 반응 메카니즘에 대한 연구도 수행하였다. 이를 위해, 네모파 벗김전압전류법 및 선형주사 전압 전류법등의 전기화학적 분석법이 이용되었다. 평가 결과, 네모파 벗김전압전류법의 최적조건으로, 15 mV의 네모파증폭율, 60 Hz의 주파수, -1.0V vs. Ag/AgCl의 석출전위 및 200초의 석출시간이 결정되었다. 구리 금속의 민감도를 측정한 결과 $1.824{\mu}A/{\mu}M$의 민감도를 얻을 수 있었다. 선형주사 전압전류법을 이용하여 구리의 벗김반응에 영향을 끼치는 인자를 평가하였을 때, 확산반응 보다는 표면반응이 구리의 벗김반응 성능에 영향을 끼치는 것으로 측정되었다. 이러한 전기화학적 분석 결과가 다른 참고문헌들과 비교되어졌고, 구리금속의 민감도 측면에서 본 연구에서 제안한 CNT 전극의 우수함이 입증되었다.

• 지질공학
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• 제12권4호
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• pp.405-419
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• 2002

새롭게 개발된 레이저 콘포컬 현미경을 이용해 암석 불연속면의 거칠기를 측정하였다. 레이저의 파장은 488 nm이며, 현미경은 두 개의 galvano-meter scanner mirror를 이용한 광 편광법에 의해 제어된다. 레이저 반사를 통한 자동 초점기능은 관찰대상을 빠르고 정확하게 측정할 수 있다. 이 현미경은 기존의 다른 콘포컬 현미경에 비해 광축방향의 해상도를 크게 개선하였고, 특수 제작한 현미경 스테이지를 이용해 최대 $10{\;}{\times}{\;}10{\;}cm$ 까지 크기의 시료를 측정할 수 있다. 측정간격은 x와 y 방향으로 $2.5{\;}\mu\textrm{m}$씩이며, z방향의 최대 측정해상도는 $10{\;}\mu\textrm{m}$로서, 다른 방범에 비해 훨씬 정확하다. 조립질과 세립질의 입도가 다른 화강암을 대상으로 인장시험(Brazilian test)를 통해 인공절리를 생성시켰고, 생성된 좌우의 절리면에 각각 3개씩의 측선을 설정하였다. 각 측선을 따라 측정한 높이는 1차원은 물론 거칠기의 세밀한 양상을 보여주는 2차원과 3차원의 디지털 이미지로 표현된다. 조립질 화강암의 1차원 단면은 세립질보다 불연속면의 기복이 더 심함을 잘 보여준다. 거칠기를 정량적으로 특성화하고 거칠기를 구성하는 성분 중 가장 큰 영향을 미치는 성분을 파악하기 위해 고속퓨리에 변환 (FFT)를 이용한 스펙트럼 분석을 실시하였다. 스펙트럼 분석결과 저주파 성분이 큰 시효의 경우 거칠기의 기복변화가 심하고 긴 파장을 나타내는 경향이 있음을 구명하였다.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제10권7호
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• pp.1760-1765
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• 2009

의료기관 핵의학과에서는 진단과 치료를 목적으로 방사성동위원소를 사용하므로 누구나 방사선피폭에 노출 될 위험이 있다. 일반적으로 방사선 작업종사자에 대한 피폭관리는 비교적 철저히 이루어지고 있으나 환자보호자 및 일반인에 대한 피폭관리는 소홀한 경향이 있다. 특히 방사성의약품을 투여한 환자들은 잠재적 선원이 되어 작업종사자외에 환자보호자 및 일반인에 대해 방사선피폭을 초래하므로 이로 인한 방사선피폭을 최소한으로 감소시킬 수 있도록 관리되어야 한다. 따라서 핵의학과 방사선피폭에 대한 관리실태를 파악하기 위하여 전국에 있는 대학병원 중 7개소에 대해 조사한 결과 환자이송요원, 환경미화원 등 수시출입자에 대해서 2 개소의 의료기관에서는 피폭선량평가 및 관리와 안전교육이 없었다. 또한 환자와 동행하는 보호자에 대한 통제와 관리는 7 개소 모두 허술하였는데 대기실에서 검사직전 환자로부터 흡수될 수 있는 평균 방사선량률은 25.60 ${\mu}$Sv/h로서 일반인에 대해 연간 선량한도를 초과하지 아니하는 범위 내에서 허용되는 20 ${\mu}$Sv/h를 초과하였다. 따라서 비록 아주 적은 피폭선량이 예상된다고 하더라도 수시출입자에 대한 철저한 피폭선량의 관리와 교육이 요구되며, 환자보호자 등을 보호하기 위해 환자와 가까이 하는 것을 통제하거나 환자를 격리할 필요가 있었다.