In this study, a monolithic MoSi2 matrix reinforced with 20 vol% SiC particles, a SiC/MoSi2 composite matrix reinforced with 20 vol% ZrO2 particles, and a ZrO2/MoSi2 composite were fabricated using hot press sintering at $1350^{\circ}C$ for 1 h under a pressure of 30 MPa. The Vickers hardness and sliding wear resistance of the monolithic MoSi2, ZrO2/MoSi2, and SiC/MoSi2 composite were investigated at room temperature. A wear behavior test was carried out using a disk-type wear tester with a silicon nitride ball. The ZrO2/MoSi2 composite showed an average Vickers hardness value and excellent wear resistance compared with the monolithic MoSi2 and SiC/MoSi2 composite at room temperature.
ln this paper, the fuction of molybdenum dialkyl dithiophosphate (MoDTP) as an oxidation inhibitor of mineral oils was investigated and compared with 2,6-Di-tert-Butyl-4-Methylphenol (DBMP). Oxidation tests were conducted using an oxygen absorption apparatus. MoDTP showed anti-oxidation property, and length of induction time prolonged by increasing MoDTP concentration. However the induction time of DBMP was longer than those of MoDTP. The anti-oxidation property of MoDTP was found to be inferior to that of DBMP The capability of hydroperoxide decomposition ability with MoDTP was much greater than that with DBMP. However the rate constant of radical scavenging with MoDTP was much better than that with DBMP. It was found that the performance of MoDTP is exellent with respect to hydroperoxide decomposition but it is susceptible to chemical decomposition. From the fact that formation of phenol was observed when MoDTP was added to hexane solution of cumene hydroperoxide (CHPO), it is indicated that the decomposition of hydroperoxide with MoDTP occurs by means of ionic mechanism.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2009.05a
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pp.205-207
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2009
아크이온플래이팅 기술과 스퍼터링 기술이 결합된 하이브리드 코팅 시스템을 이용하여 STS 304와 Si 기판에 4성분계 Cr-Al-Mo-N 코팅을 증착하였다. $N_2$/Ar 혼합가스 분위기하에 아크 타겟은 Cr을 사용하였고 스퍼터링 타겟은 Al과 Mo를 사용하였으며 합성된 Cr-Al-Mo-N 코팅은 주로 치환고용된 (Cr, Al, Mo)N으로 구성되었다. 최고 경도값은 Mo 함량이 24.2 at.%일 때 35 GPa을 나타냈으며 마찰계수는 Mo의 함량이 0에서 33.2 at.%로 증가함에 따라 0.9에서 0.48로 감소하였다. 이는 $MoO_3$가 코팅면과 스틸볼 계면에서 고체 윤활제로 작용한 것으로 사료된다. 그러나 Cr-Al-Mo-N 코팅은 MoN의 낮은 내산화온도로 인하여 Cr-Al-N에 비하여 더 낮은 온도에서 산화되었다.
Kim, Hyo-Jung;Kang, Sin-Bi;Na, Seok-In;Kim, Han-Ki
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.343-343
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2014
We reported on the electrical, optical, structural and morphological properties fabricated by co-sputtering for use as an anode for organic solar cells (OSCs). By adjusting RF and DC power of $MoO_3$ and IZO targets during co-sputtering, we fabricated the $MoO_3$-IZO electrode with graded content of the $MoO_3$ on the IZO films. At optimized $MoO_3$ thickness of 20 nm, the $MoO_3$ graded IZO electrode showed a higher mobility ($33cm^2/V-Sec$) than directly deposited $MoO_3$ on IZO film ($26cm^2/V-Sec$). At visible range (400nm~800nm), optical transmittance of the $MoO_3$ graded IZO electrode is higher than that of directly deposited $MoO_3$ on IZO film. High mobility of $MoO_3$ graded on IZO is attributed to less interface scattering between $MoO_3$ and IZO. To investigate the feasibility of $MoO_3$ graded IZO films, we fabricated conventional P3HT:PCBM based OSCs with $MoO_3$ graded IZO as a function of MoO3 thickness. The OSC fabricated on the $MoO_3$ graded IZO anode showed a fill factor of 66.53%, a short circuit current of $8.121mA/cm^2$, an open circuit voltage of 0.592 V, and a power conversion efficiency of 3.2% comparable to OSC fabricated on ITO anode and higher than directly deposited $MoO_3$ on IZO film. We suggested possible mechanism to explain the high performance of OSCs with a $MoO_3$ graded IZO.
Plasma are melting method was used in making Mo-1.17 Ti-0.18 Zr-0.06 C ingot having over 99% of the theoretical density. Oxygen content herewith, decreased from the origin of 830ppm to 40ppm. After cold rolling of Mo alloy by 50%, the recrystallization behaviors were studied in the temperature range from $800^{\circ}C$ to $2100^{\circ}C$ for 1 hr isochronical holding time and also at $1400^{\circ}C$, $1500^{\circ}C$, $1600^{\circ}C$ for varying isothermal holding time 0 to 108000sec. The complete recrystallization temperature of Mo was $1400^{\circ}C$ but that of Mo alloy was $1700^{\circ}C$. 50%-1 hr recrystallization temperature of Mo alloy sheet was about $1500^{\circ}C$ and when compared to Mo there was an increase of over $300^{\circ}C$. The activation energy of recrystallization of Mo alloy sheet was 508kJ/mol.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.7
no.4
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pp.665-672
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1997
We applied mechanical alloying process by ball milling to produce molybdenum silicides $MoSi_2$ and $Mo_5Si_3$ using a mixture of elemental molybdenum and silicon powders at room temperature. The intermetallic compound MoSi$_3$ have been obtained by ball milling of $Mo_{33}Si_{67}$ mixture powders for 100 h, which is transformed to single $MoSi_2$ phase by subsequent heat treatment up to $725^{\circ}C$. The grain size of the $MoSi_2$ powders thus obtained was 19 nm, being approximately four times smaller than that of the commercial alloy. The intermetallic compound $MoSi_2$ with grain size of 30 nm have been also obtained by ball milling of $Mo_{62}Si_{38}$ mixture powders for 500 h, which is transformed to single $MoSi_2$ phase by heating up to $1000^{\circ}C$. We believe that the retarded ball milling time for the formation of $MoSi_2$ phase is attributed to its complicated crystal structure and large unit cell. The finer grain size in the ball-milled molybdenum silicides powders is expected to improve room-temperature mechanical properties for high-temperature structural materials.
Catalytic activity in ammonia decomposition reaction was studied on Mo-Al nitride obtained through temperature programmed nitridation of calcined Mo-Al mixed oxide prepared by varying the MoO3 quantity in the range of 10-50 wt%. N2 sorption analysis, X-ray diffraction analysis (XRD), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and H2-temperature programmed reduction (H2-TPR), and transmission electron microscopy (TEM) to investigate the physicochemical properties of the prepared catalyst were performed. After calcination at 600 ℃, the XRD of Mo-Al oxide showed γ-Al2O3 and Al2(MoO4)3 phases, and the nitride after nitridation showed an amorphous form. The specific surface area after nitridation by topotactic transformation of MoO3 to nitride was increased due to the formation of Mo nitride, and the Mo nitride was observed to be supported on γ-Al2O3. As for the catalytic activity in the ammonia decomposition reaction, 40 wt% MoO3 showed the best activity, and as the nitridation time increases, the activity increased, and thus the activation energy decreased.
The process of reusing the treated water generated during this process and that of recovery of molybdenum from the excessive water were studied. The results were as follows. Molybdenum recollection 1. Reusing processing water generated after dissolving process on FL/20 type, the following were the remaining Mo.'s weights after the 1st, 2nd, 3rd, 4th, 5th, & 6th dissolutions respectively. 1) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 1st solving water) generated after the 1st dissolving Mo. process was $369g/\ell$ 2) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 2nd solving water) generated after the 1st dissolving Mo. process reusing the 1st solving water was $627.3g/\ell$ 3) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 3rd solving water) generated after the dissolving Mo. process reusing the 2nd solving water was $808.11g/\ell$ 4) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 4th solving water) generated after the dissolving Mo. process reusing the 3rd solving water was $934.68g/\ell$ 5) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 5th solving water) generated after the dissolving Mo. process reusing the 4th solving water was $1023.27g/\ell$ 6) The result of measuring the quantity of Mo. in processing water(the 6th solving water) generated after the dissolving Mo. process reusing the 5th solving water was $1085.29g/\ell$ 2. The followings were the results of recollectings Mo. in processing water respectively generated after dissolving Mo. to produce complete goods df FL/20 type filament. 1) the percentage of recollecting Mo. in the 1st solving water was $93.0\%$ 2) the percentage of recollecting Mo. in the 2nd solving water was $94.5\%$ 3) the percentage of recollecting Mo. in the 3rd solving water was $95.5\%$ 4) the percentage of recollecting Mo. in the 4th solving water was $96.0\%$ 5) the percentage of recollecting Mo. in the 5th solving water was $96.2\%$ 6) the percentage of recollecting Mo. in the 6th solving water was $96.4\%$ 3. The followings were the results of analyzing, with ICP, holding quantities of Mo. in the 6 processing waters to produce FL/20 type filament after passing a 3 staged solid-liquid separator through, dehydrating and drying for more than 3 hours in a dryer to recollect solving Mo. in them 1) the Mo. holding percentage in the 1st solving water was $76.6\%$ 2) the Mo. holding percentage in the 2nd solving water was $76.6\%$ 3) the Mo. holding percentage in the 3rd solving water was $76.6\%$ 4) the Mo. holding percentage in the 4th solving water was $76.6\%$ 5) the Mo. holding percentage in the 5th solving water was $76.6\%$ 6) the Mo. holding percentage in the 6th solving water was $76.6\%$ It was noted that with the number of times the recollecting Mo. percentage become higher, and in spite of much recollecting, without any large effect on the goods the solving water could be reused as the processing water. Because the collected Mo. holding percentages were more than $76\%$, it is considered they are very good one than Chinese Mo. ores with $50\%$ degrees of purity, worthy of recollecting Mo.
Mo-based thin films are frequently used as back electrode materials because of their low resistivity and high crystallinity in CIGS chalcopyrite solar cells. Mo:Na/Mo bilayer thin films with $1{\mu}m$ thickness were deposited on soda lime glass by varying the thickness of each layer using dc-magnetron sputtering. The effects of the Mo:Na layer on morphology and electrical property in terms of resistivity were systematically investigated. The resistivity increased from $159{\mu}{\Omega}cm$ to $944{\mu}{\Omega}cm$; this seemed to be caused by increased surface defects and low crystallinity as the thickness of Mo:Na layer increased from 100 nm to 500 nm. The surface morphologies of the Mo thin films changed from a somewhat coarse fibrous structures to irregular and fine celled structures with increased surface cracks along the cell boundaries as the thickness of Mo:Na layer increased. Na contents varied drastically from 0.03 % to 0.52 % according to the variation of Mo:Na layer thickness. The change in Na content may be ascribed to changes in surface morphology and crystallinity of the thin films.
Sin, Yong-Hui;Na, Seok-In;Kim, Jang-Ju;Kim, Han-Gi
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.535-536
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2013
본 연구에서는 DC/RF co-sputtering공법을 통해 제작한 In-Mo-O 투명 Mo doping 농도 및 열처리 온도에 따른 전기적, 광학적, 구조적 특성을 분석하고, 최적화된 In-Mo-O 투명전극을 유기태양전지(OPVs)와 유기발광다이오드(OLED)에 적용하여 그 가능성을 평가하였다. Mo doping 농도는 co-sputtering 공정 중 MoO3에 인가되는 radio-frequency (RF) power를 변화시켜 조절되었으며, 투명전극의 광학적 특성 및 전기적 특성 향상을 위해 성막 공정 후 급속 열처리 공정을 온도 별로 진행하였다. In-Mo-O 투명 전극은 Mo 도핑 농도에 영향을 받음을 확인할 수 있었고, 최적화된 Mo doping 파워에서 성막한 In-Mo-O 박막은 급속 열처리 공정 후 면저항 24.57 Ohm/square, 투과도 81.57% (400~1,200 nm wavelength)를 나타내었다. Bulk hetero-junction 기반의 고효율 유기태양전지와 유기발광다이오드 적용하기 위해 본 연구에서 제작된 IMO 투명전극의 구조적 특성, 결정성 및 표면특성은 x-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy(AFM), field effect scanning electron microscopy (FE-SEM), High-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) 분석을 통해 진행하였다. In-Mo-O 투명 전극상에 제작된 OLEDs와 OPV는 reference ITO 전극에 제작된 OLEDs/OPV와 비교할 때 유사하거나 향상된 특성을 나타내었으며 이는 In-Mo-O 박막이 OLED/OPV용 투명 전극으로 적용이 가능함을 말해준다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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