• 제목/요약/키워드: Microwave Plasma

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산소첨가가 나노결정 다이아몬드 박막의 구조적 물성 및 금속과의 접합특성에 미치는 영향 (Effects of oxygen additive on structural properties and metal/diamond junction characteristics of nano-crystalline diamond thin films)

  • 최성호;박재현;박창균;박진석
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2004년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1700-1702
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    • 2004
  • Diamond films including nanocrystallites are grown by microwave plasma chemical vapor deposition using $O_2$ additives and negative substrate bias at growth step. Effects of growth parameters on film properties are characterized by Raman spectra, SEM, and AFM images. It is found that the surface roughness and the microstructure of grown films can be controlled by changing $O_2$ gas ratio. The I-V characteristics are also investigated in terms of growth conditions of diamond films. The surface roughness and the $sp^2$ phase of the grown diamond films turn out to be crucial factors for reducing leakage currents at diamond/metal interfaces.

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마이크로파 진단법을 이용한 플라즈마 밀도분포재구성에 관한 연구 (A Study on the Reconstruction of Plasma Density Profiles using Microwave Diagnostics)

  • 장태준;노영수;곽희로;박하용;김두석
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2004년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1939-1941
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    • 2004
  • 밀도는 플라즈마의 기본적인 물리적 성질을 이해하는데 중요한 인자로 인식되고 있으며 많은 방법들이 밀도분포의 측정에 이용되었다. 이 중 마이크로파 진단법의 하나인 레플렉토메터리는 그 고유한 특성 때문에 현재 밀도분포측정법으로써 폭넓게 활용되고 있다. 그러나 레플렉토메터리 신호에 대한 처리 및 분석 방법은 다양하여 주어진 플라즈마에 가장 절적한 방법을 선택하는 것은 쉽지 않다. 본 논문에서는 레플렉토메터리의 신호로부터 밀도분포를 정확히 재구성하는 알고리즘을 개발하기 위한 기초 단계로써 모의된 레플렉토메터리 선호에 기존의 신호해석법들 중 우수한 해석법으로 알려진 CDM(complex demodulation method)과 웨이브레트(wavelet) 분석법을 적용하여 밀도분포재구성에 대한 양자의 성능을 비교한다. 그리고 플라즈마의 특성에 기초하여 모의된 신호에 실제 상황에서 존재할 수 있는 잡음신호를 첨가하여 이것이 밀도분포 재구성에 미치는 효과를 조사한다.

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CFD-ACE+를 이용한 Gas Flow Sputtering 공정 해석

  • 주정훈
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.182.2-182.2
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    • 2016
  • Hollow cathode discharge(중공 음극)는 음극 표면에서 발생되는 2차 전자를 이용하여 높은 밀도의 플라즈마를 만들 수 있는 장점이 있다. 전원으로 microwave, RF, DC, pulsed dc등을 사용할 수 있으며 박막의 증착, 식각 등에 응용 가능하다. 물리적 현상으로는 중공 음극 재료 표면 물질의 가열 및 이온 스퍼터링, 2차 전자의 가열, 자기장 인가 구조의 경우 전자 거동이 있다. PIC(particle-in-cell)방식의 모델링과 fluid model을 이용한 방법이 있는데 본 연구에서는 상용 fluid model software인 ESI사의 CFD-ACE+를 사용하여 모델링 하였다. 구동 주파수는 13.56 MHz의 상용 고주파 전원과 보다 낮은 1 MHz, 100 kHz의 수치 모델을 이용하여 HF, MF, LF 영역에서의 동작 특성을 해석하였다. 1차적으로는 가스 유동의 특성을 2D, 3D로 조사하였고 플라즈마 거동은 2차원을 주로 진행하였으며 계산 시간이 오래 거리는 3차원 모델을 하나 만들어 그 특성을 조사하였다.

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Selective Growth of the Carbon Nanofibers at the Groove Area of the MgO Substrate by the Iridium Catalyst

  • Kim, Sung-Hoon
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권12호
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    • pp.880-883
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    • 2004
  • Carbon nanofibers could be selectively formed at the groove area of the MgO substrate using microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition system. Iridium metal was used as a catalyst layer for the formation of the carbon nanofibers. The growth direction of the carbon nanofibers was vertical to the substrate surface. The selectively grown iridium-catalyzed carbon nanofibers show around $1.8V/{\mu}m$ turn-on voltage and $1.0\;mA/cm^2$ field emission current density at $2.65\;V/{\mu}m$ in the field emission measurement.

Nucleation of CVD Diamond on Various Substrate Materials

  • Fukunaga, O.;Qiao, Xin;Ma, Yuefei;Shinoda, N.;Yui, K.;Hirai, H.;Tsurumi, T.;Ohashi, N.
    • The Korean Journal of Ceramics
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    • 제2권4호
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    • pp.184-187
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    • 1996
  • Diamod nucleation by mw assisted CVD was examined various conditions namely, (1) diamond nucleation on variour substrate materials, such as Si, cubic BN, pyrolytic BN and AIN, (2) AST(Activated species transport) method which promote nucleation of diamond on single crystal and polycrystalline alumina substrate was developed. (3) Effect of bias enhancement of nucleation on single crystalline Si was examined, and finally (4) DST (Double step treatment) method was developed to enhance diamond nucleation on Ni. In this method, we separated carbon diffusing process into Ni, carbon precipitating process from the inside of Ni and diamond precipitation process.

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Patterning of CVD Diamond Films For MEMS Application

  • Wang, Xiaodong;Yang, Yirong;Ren, Congxin;Mao, Minyao;Wang, Weiyuan
    • 한국진공학회지
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    • 제7권s1호
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    • pp.167-170
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    • 1998
  • To apply diamond films in microelectromechanical systems(MEMS), it is necessary to develop the patterning technologies of diamond films in the micrometer scale. In this paper, three different kinds of technologies for patterning CVD diamond films carried out by us were demonstrated: selective growth by improved diamond nucleation in DC bias-enhanced microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) system, selective growth of seeding using diamond-particle-mixed photoresist, and selective etching of oxygen ion beam using Al as the mask. It was show that high selectivity and precise patterns had been achieved, and all the processes were compatible with IC process.

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마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이 용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착 (Deposition of Tungsten Thin Films on Silicon Substrate by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) and Low Pressure Chemical Vapor Deposition (LPCVD) Techniques)

  • 김성훈;송세안;김성근
    • 한국진공학회지
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    • 제1권2호
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    • pp.277-285
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    • 1992
  • 플라즈마 화학기상증착법과 저압 화학기상증착법을 사용하여 실리콘 기판 위에 텅 스텐 박막을 증착하였다. 반응기체로 WF6를 사용하였으며 환원기체로는 SiH4를 사용하였다. 플라즈마 증착법에 의한 텅스텐 박막의 성장은 환원기체의 유무에 상관없이 주로 기상 반응 에 의한 텅스텐 덩어리들의 증착에 의하여 이루어졌으며 비교적 균일도가 낮은 박막표면을 이루었다. 저압 화학증착법의 경우 환원기체를 사용하지 않았을 때에는 실리콘 기판에 의한 제한된 환원반응에 의해 텅스텐이 증착되었으나, 환원기체를 사용했을 때에는 초기의 실리 콘 기판에 의한 환원반응과 이어 일어나는 SiH4 기체와의 불균일계 환원반응의 두 단계반응 에 의하여 텅스텐 박막 증착이 이루어졌다. 저압 화학증착법의 경우 텅스텐 박막의 특성은 플라즈마 증착법에서 보다 우수하였으며 박막 성장은 island by island 양식을 따르는 것으 로 추정되었다. 박막은 $\alpha$-W의 체심입방 구조로 이루어졌으며 박막이 성장함에 따라 단결정 구조가 증가하였다.

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마이크로파 방전으로 여기 된 고출력 광원 플라즈마의 특성 고찰 (A Study on Excited Plasma Lamp of High Power by Microwave Discharge)

  • 김진중;고정태;원동호;김정영;홍성호;김정원;김경신
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2003년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.75-77
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    • 2003
  • 마이크로파 방전을 이용한 고효율 고출력광원으로 연구 개발되고 있는 2-분자 발광체의 고압증기 플라즈마는 그 특성이 충분히 이해되지 않고 있다. 본 논문은 특유한 물리적 성질을 보이는 2-원자 황분자 증기 플라즈마의 물리적 성질과 광학적 특성에 관하여 총체적인 고찰을 할 것이다. 특히 고압 발광 플라즈마의 마이크로파 흡수 메카니즘 플라즈마 전도율, 및 발광 특성에 관하여 논의 할 것이다.

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Determination of Toxic Elements in Blood by Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry

  • 박창준
    • 한국산업보건학회지
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    • 제3권1호
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    • pp.99-99
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    • 1993
  • 혈액 및 생체시료 중 필수원소 혹은 독극성 원소의 극미량상분 정밀측정과 동위원소비율측정에 널리 사용되는 유도결합플라즈마 질량분석기(ICP-MS)의 기본원리를 소개하고 ICP-SM를 이용한 혈액중 낮은 ppb수준의 Cd, Hg 그리고 Pb의 정밀분석법을 소개한다. 혈액은 많은 양의 유기물을 포함하고 있으므로 digestion bomb에 질산과 과산화수소를 넣어 microwave oven에서 고온고압 상태로 분해시켜 많은 용액을 얻어 이 용액을 플라즈마에 주입시켜 분석한다. 그리고 수온은 tin(II) chloride 용액을 환원제로하여 생성시킨 수은원소증기를 membrane liquid-gas separator를 이용하여 뽑아내어 플라즈마에 주입시켜 낮은 ppt 수준의 검출한계를 얻는다. 또한 높은 정밀도와 정확도와 극미량 원소 측정에 사용되는 동위원소 회석법율 소개하고 실제 혈액분석에의 응용방법을 제시한다.

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