A Study on the Analysis of Multi-beam Energy for High Resolution with Maskless Lithography System Using DMD (DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피 시스템의 고해상도 구현을 위한 다중 빔 에너지 분석에 관한 연구)
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- Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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- v.12 no.2
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- pp.829-834
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- 2011