• 제목/요약/키워드: Mask projection

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등고선 추출을 위한 적응적 길이 임계화 (Adaptive Segment-length Thresholding for Map Contour Extraction)

  • 박천주;오명관;전병민
    • 한국콘텐츠학회논문지
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    • 제3권4호
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    • pp.23-28
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    • 2003
  • 본 연구는 지형도 영상으로부터 등고선 성분을 추출하는데 있어 대상 영상에 적응하여 결정되는 길이 임계치를 이용한 적응적 길이 임계화 방법에 관한 것이다. 우선, 적응적 길이 임계치는 주요 기호의 인식 후, 뒤따르는 고도치 영역에 대한 투영 히스토그램의 에지 검출을 통해 계산된 두 에지간의 거리로 결정된다. 그런 후, 분기점 탐색과 주변 흑화소 제거에 의한 단선화가 수행되고, 길이 임계화를 통해 등고선 성분을 추출한다. 제안 방법을 실험에 적용한 결과, 최종 추출된 등고선 성분 내에 비등고선 성분이 약 2.41% 포함되었으며, 97.59%는 등고선 성분인 것으로 나타났다.

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마이크로 금형 제작을 위한 PET의 엑시머 레이저 어블레이션 - 퓨리에 광학을 이용한 가공 단면 형상의 제어 - (The excimer laser ablation of PET for micro-mold insert - The control of cross sectional shape using Fourier optics -)

  • 신동식;이제훈;서정;김도훈
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제6권3호
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    • pp.19-28
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    • 2003
  • The manufacturing process for the microfluidic device can include sequential steps such as master fabrication, electroforming, and injection molding. The laser ablation, using masks, has been applied to the fabrication of channels in microfluidic devices. In this research, an excimer laser was used to engrave microscopic channels on the surface of PET (polyethylene terephthalate), which shows a high absorption ratio for an excimer laser beam with a wavelength of 248 m. When 50-${\mu}{\textrm}{m}$-wide rectangular microscopic channels are ablated with a 500 ${\times}$ 500 ${\mu}{\textrm}{m}$ square mask at a magnification ratio of 1/10, ditch-shaped defects were found in both corners. The measurement of laser beam intensity showed that a coherent image in the PET target caused such defects. Analysis based on the Fourier diffraction theory enabled the prediction of the coherent shape at the image surface as well as the diffraction beam shape between the mask and the image surface. It also showed that the diameter of the aperture had a dominant effect. The application of aperture with a diameter of less than 3 mm helped to eliminate such defects in the ablated rectangular microscopic channels on PET without such ditch-shaped defects.

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엑시머 레이저를 사용한 LLO 시스템 설계 및 분석 (Design and Analysis of a Laser Lift-Off System using an Excimer Laser)

  • 김보영;김준하;변진아;이준호;서종현;이종무
    • 한국광학회지
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    • 제24권5호
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    • pp.224-230
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    • 2013
  • 레이저 리프트 오프(Laser Lift-Off: LLO)는 수직형 LED 제조를 위하여 GaN 또는 AlN 박막을 사파이어 웨어퍼로부터 레이저를 이용하여 제거하는 공정으로 광원, 레이저의 출력 파워를 조절해주는 감쇠기, 빔의 형태를 잡아주는 빔 성형 광학계, 원하는 빔 사이즈를 만들어 주고 빔을 균일하게 섞어주는 빔 균일 광학계, 기판에 투사 이전에 빔을 한번 잘라주는 조리개 부분과 마스크 단에서 잘린 빔을 기판에 투사해주는 투사렌즈 부분으로 구성되어 있다. 본 논문에서는 LLO 시스템을 구성하고 있는 광학계 중 감쇠기와 투사렌즈 부분의 설계 및 분석을 진행하였다. 투사렌즈의 $7{\times}7mm^2$ 빔 사이즈 구현을 위하여 광학 설계 프로그램인 지맥스를 통해 설계 및 초점심도를 분석하였으며, 조명 설계 프로그램인 라이트 툴을 사용하여 빔 사이즈 및 균일도를 분석하였다. 성능 분석 결과 사각형 빔의 크기 $6.97{\times}6.96mm^2$, 균일도 91.8%, 초점심도 ${\pm}30{\mu}m$를 확인하였다. 또한 고출력의 엑시머레이저의 빔 강도를 감쇠시키기 위한 장치인 감쇠기의 투과율을 높이기 위하여 에센설 맥클라우드 코팅 프로그램을 사용하여 유전체 코팅을 실시한 결과 총 23층의 박막과 s 편광의 입사각도 $45{\sim}60^{\circ}$에서 10-95%의 투과율을 확인 할 수 있었다.

Critical Review of Current Trends in ASIC Writing and Layout Analysis

  • Vikram, Abhishek;Agarwal, Vineeta
    • JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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    • 제16권2호
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    • pp.236-250
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    • 2016
  • Electrical Designs for Application Specific Integrated Circuits (ASIC) has undergone a change recently with the advent of the sub-wavelength lithography. The optical projection with 193 nm wavelength has been further extended with the use of immersion and other techniques. The competing trends for printing smaller design features have been discussed in this paper with the discussion of the electrical layout analysis to find unfriendly design features. The early knowledge of the unfriendly design features allows remedial actions in time for better yield on the wafer. There are existing standard design qualification criteria being used in the design and fabrication community, but they seem to be insufficient to guarantee defect free designs. This paper proposes an integrated approach for screening the layout with multiple aspects: layout geometry based, graphical analysis and process model based verification. The results have been discussed with few example design features from the 28nm design layout.

레이저 직접묘화기법에 의한 광도파로 제작에 관한 연구 (A Study on Fabrication of Optical Waveguide using Laser Direct Writing Method)

  • 신보성;김정민;김재구;조성학;장원석;양성빈
    • 한국소성가공학회:학술대회논문집
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    • 한국소성가공학회 2003년도 추계학술대회논문집
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    • pp.391-394
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    • 2003
  • Laser direct writing process is developed 3rd harmonic Diode Pumped Solid State Laser with the near visible wavelength of 355 m sensitive polymer is irradiated by UV laser and developed using polymer solvent to obtain quasi-3D. It is important to reduce line width for image mode waveguides, so some investigations will be carried out in various conditions of process parameters such as laser power, writing speed, laser focus and optical properties of polymer. This process could be to fabricate a single mode waveguide without expensive mask projection method. Experimentally, the patterns of trapezoidal shape were manufactured into dimension of 8.4 mm width and 7.5 mm height. Propagation loss of straight waveguide measured 3 dB/cm at 1,550 nm.

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광열반응을 이용한 폴리머의 미세가공기술 (Micro machining of Polymers Using Photothermal Process)

  • 장원석;신보성;김재구;황경현
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.616-619
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    • 2003
  • Photochemical and photothermal effects have correlation with each other and depend on laser wavelength. Multi-scanning laser ablation process of polymer with DPSS(Diode Pumped Solid State) 3rd harmonic Nd:YVO$_4$ laser with wavelength of 355nm is applied to fabricate three-dimensional micro shape. The DPSSL photomachining system can rapidly and cheaply fabricate 2D pattern or 3D shape with high efficiency because we only use CAD/CAM software and precision stages instead of complex projection mask. Photomachinability of polymer is highly influenced by laser wavelength and its own chemical structure. So the optical characteristics of polymers for 355nm laser source is investigated by experimentally and theoretically.

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광경화성 폴리머를 이용한 레이저 미세패터닝의 기초연구 (A Study on Laser Micro-Patterning using UV Curable Polymer)

  • 김정민;신보성;김재구;장원석;양성빈
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2003년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.612-615
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    • 2003
  • Maskless laser patterning process is developed using 3rd harmonic Diode Pumped Solid State Laser with near visible wavelength of 355 nm. Photo-sensitive curable polymer is irradiated by UV laser and developed using polymer solvent to obtain quasi-3D patterns. We performed basic experiments for the various process conditions such as laser power, writing speed, laser focus, and polymer optical property to gain the optimal conditions. Experimentally, the patterns of trapezoidal shape were manufactured into dimension of 8${\mu}{\textrm}{m}$ width and 5.4${\mu}{\textrm}{m}$ height. This process could be applied to fabricate a single mode waveguide without expensive mask projection method.

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니켈 전주도금을 위한 PET의 엑시머 레이저 어블레이션 (The excimer laser ablation of PET for nickel electroforming)

  • 신동식;이제훈;서정;김도훈
    • 한국레이저가공학회지
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    • 제6권2호
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    • pp.35-41
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    • 2003
  • In this study, manufacturing of polymer master and mold insert for micro injection molding was investigated. Ablation by excimer laser radiation could be used successfully to make 3-D microstructure of PET. The mechanism for ablative decomposition of PET with KrF excimer laser(λ: 248nm, pulse duration: 5ns) was explained by photochemical process. And this process showed PET to be adopted in polymer master for nickel mold insert. Nickel electroforming by using laser ablated PET master was preferable for replication method. Finally, it was shown that excimer laser ablation can substitute for X-ray lithography of LIGA process in microstructuring.

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Discriminatory Projection of Camouflaged Texture Through Line Masks

  • Bhajantri, Nagappa;Pradeep, Kumar R.;Nagabhushan, P.
    • Journal of Information Processing Systems
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    • 제9권4호
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    • pp.660-677
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    • 2013
  • The blending of defective texture with the ambience texture results in camouflage. The gray value or color distribution pattern of the camouflaged images fails to reflect considerable deviations between the camouflaged object and the sublimating background demands improved strategies for texture analysis. In this research, we propose the implementation of an initial enhancement of the image that employs line masks, which could result in a better discrimination of the camouflaged portion. Finally, the gray value distribution patterns are analyzed in the enhanced image, to fix the camouflaged portions.

SWI의 신경영상분야의 임상적 이용 (Clinical Applications of Neuroimaging with Susceptibility Weighted Imaging: Review Article)

  • 노근탁;강현구;김인중
    • Investigative Magnetic Resonance Imaging
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    • 제18권4호
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    • pp.290-302
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    • 2014
  • 목적: 자화율 강조 자기공명영상 (Susceptibility-weighted imaging)은 혈액분해산물, 석회화, 철 침착물을 발견하는데 있어 높은 민감도를 보이는 3D spoiled gradient-echo pulse sequence 이다. 본 임상화보는 자화율 강조 자기공명영상의 주된 임상적 적용에 대해 설명하고 논의하는 데에 그 목적이 있다. 대상과 방법: 자화율 강조 자기공명영상은 자기강도영상 (magnitude image)과 위상영상 (phase image)을 이용한 고해상도, 3D fully velocity-compensated gradient-echo sequence 에 기초를 두고 있다. 정맥 구조물의 가시성을 향상시키기 위해, 자기강도영상은 여과된 위상 데이터 (phase data) 로부터 발생된 위상 마스크 (phase mask)를 이용해 증폭되고, 이것은 최소강도투사 (Minimal intensive projection) 알고리즘을 이용한 3D dataset 후처리 과정을 거치게 된다. 3T 자기공명기기에서 SWI를 포함하는 자기공명영상 검사를 시행한 총 200명의 환자를 대상으로 연구하였다. 결과: 자화율 강조 자기공명영상은 다양한 뇌 질환의 발견에 매우 유용하였다. 200명의 환자 중 80명은 선천성 정맥 기형, 22명은 해면상 혈관종, 12명은 다양한 질환에서의 석회화, 21명은 혈관자화 징후 (susceptibility vessel sign) 또는 미세출혈을 동반하는 뇌혈관 질환, 52명은 뇌종양, 2명은 미만성 축삭 손상, 3명은 동정맥 기형, 5명은 뇌경막 동정맥루, 1명은 모야모야병, 그리고 2명은 파킨슨병이 관찰되었다. 결론: 자화율 강조 자기공명영상은 미세 저혈량 혈관성 병변, 석회화 그리고 미세출혈과 다양한 뇌병변의 진단에 유용하다.