• Title/Summary/Keyword: MO-SiO$_2$

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RF MEMS 기법을 이용한 US PCS 대역 FBAR BPF 개발

  • 박희대
    • The Proceeding of the Korean Institute of Electromagnetic Engineering and Science
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    • v.14 no.3
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    • pp.15-19
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    • 2003
  • In This paper, we developed 1.96 GHz air gap type FBAR BPF using ZnO as piezoelectric sputtered by RF magnetron at room temperature. FBAR BPF was fabricated by sputtering bottom electrode (Al), ZnO as piezoelectric and top electrode (Mo) on Si wafer one by one with RF magnetron sputter, then Si was dry etched to make an air hole. XRD test result of fabricated FBAR BPF showed that ZnO crystal was well pre-oriented as (002) and sigma value of XRC was 1.018. IL(Insertion loss) showed excellent result as 1 dB.

Electrical properties of metal doped $V_2O_5$ nanowires (금속으로 도핑 된 $V_2O_5$ nanowires의 전기적 특성)

  • Ryu, Hye-Yeon;Yee, Seong-Min;Kang, Pil-Soo;Kim, Gyu-Tae;Zakharova, O.S.;Volkov, V.L.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2006.06a
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    • pp.101-102
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    • 2006
  • 금속을 도핑 함으로써 전기전도도가 향상될 것으로 생각되는 산화바나듐 나노선에 대하여 열처리 전후의 전기적 특성을 비교하였다. sol-gel 방법으로 만들어진 산화바나듐 xerogel($V_{1.66}Mo_{0.33}O_5{\cdot}nH_2O$)을 $Si_3N_4$ 절연막이 성장된 Si기판위에 분산시키고 Ti/Au으로 전극을 증착한 후 열처리 한 것과 하지 않은 두 시료의 전류-전압특성을 비교 분석하였다.

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Electrical and Chemical Stability of Mo Gate Electrode for PMOS (PMOS에 적합한 Mo 전극의 전기적 화학적 안정성)

  • 노영진;이충근;홍신남
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.41 no.4
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    • pp.23-28
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    • 2004
  • In this paper, the properties of Mo as PMOS gate electrodes were studied. The work-function of Mo extracted from C-V characteristic curves was appropriate for PMOS. To identify the electrical and chemical stability of Mo metal gate, the changes of work-function and EOT(Effective Oxide Thickness) values were investigated after 600, 700, 800 and 90$0^{\circ}C$ RTA(Rapid Thermal Annealing). Also it was found that Mo metal gate was stable up to 90$0^{\circ}C$ with underlying SiO$_2$through X-ray diffraction measurement. Sheet resistances of Mo metal gate obtained from 4-point probe were less than 10$\Omega$/$\square$ that was much lower than those of polysilicon.

Fabrication of $Sr_2FeMoO_6$ thin films by RF Sputtering (RF 스퍼터법에 의한 $Sr_2FeMoO_6$ 박막 제조)

  • Ryu, Hee-Uk;Sun, Ho-Jun
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2010.06a
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    • pp.24-24
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    • 2010
  • 대형구조물의 구조안정성 진단, 로봇과 같은 지능기계의 제어, 환경오염을 감지하기 위한 센서의 중요성은 날로 증대되고 있다. 이러한 센서의 감도와 성능을 높이기 위해서 소형화, 다기능화, 집적화가 요구되고 있는데, 고성능 센서소자들의 집적화를 위해서 기존에 적용된 벌크형태의 재료들을 박막화하여 다층적층 및 소형화할 필요가 있다. 집적화 센서의 구현에 있어서 전극박막은 센서의 특성을 좌우하는 중요한 역할을 한다. 일반적으로 금속박막이 전극으로 사용되고 있으나 열적 불안정성 및 박리현상의 문제점을 지니고 있다. 따라서 이를 해결하기 위해 전도성산화막을 전극으로 적용하고자하는 연구가 요구되고 있다. 전도성산화막을 전극으로 적용하면 센서소자의 성능이 개선되는 경향이 있다. $Sr_2FeMoO_6$(SFMO) 산화물은 자기장을 인가했을 때 저항이 감소하는 CMR(colossal magnetoresistance) 물질이며 상온비저항이 낮은 것으로 알려져 있다. 이중 페롭스카이트 (double perovskite) 구조를 갖는 $Sr_2FeMoO_6$ 박막은 센서소자의 전극으로 적용 가능할 것으로 생각되어 박막을 제조하고자 하였으며 미세구조와 전기전도 특성을 조사하였다. 박막제조를 위해서는 RF 스퍼터법을 사용하였다. 스퍼터를 위한 타겟은 고상반응법으로 분말타겟을 제조하였다. Ar/$O_2$ 가스 유랑변화, 압력변화, 기판 온도변화가 박막의 상형성 등 박막특성에 미치는 영향을 조사하였다. 기판으로는 $SiO_2$(100nm)/Si 기판을 사용하였다. 증착직후에는 비정질막이 얻어졌으며 SFMO 상을 만들기 위해서는 후열처리가 필요하였는데, 환원성 가스 분위기 [$H_2$(5%)/Ar] 에서 열처리 조건을 최적화하여 이중 페롭스카이트 구조의 단일상 박막을 제조할 수 있었다. SFMO 단일상 박막은 증착시에나 후열처리 시 산소의 억제가 중요함을 알 수 있었다.

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Kinetic Study on the Epoxidation of Allyl Chloride by t-Butyl Hydroperoxide over Mo/SiO2 Catalyst (Mo/SiO2 촉매상에서 t-Butyl hydroperoxide에 의한 염화알릴의 에폭시화반응에 관한 속도론적 연구)

  • Kim, Sung-Woo;Park, Dae-Won;Chung, Jong-Shik;Park, Dae-Chul
    • Applied Chemistry for Engineering
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    • v.3 no.4
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    • pp.649-656
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    • 1992
  • The synthesis of epichlorohydrin was carried out by the epoxidation of allyl chloride with tert-butyl hydroperoxide(TBHP) over silica supported molybdenum catalyst. Kinetic study was performed at $60-80^{\circ}C$ and 10 atm with the molar ratio of TBHP/Allyl chloride between 0.01 and 0.1 in a batch reactor. The epoxidation of allyl chloride was inhibited by tert-butyl alcohol and kinetic data could be represented by Michaelis-Meten type rate equation. The reaction mechanism could be explained by the combination of reversible adsorption of TBHP and tert-butyl alcohol accompanied by reaction of allyl chloride with TBHP adsorbed on $Mo/SiO_2$ catalyst.

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Formation and conductivity of oriented $LaNiO_3$ thin films on Si and $Al_2O_3$ substrates (Si와 $Al_2O_3$ 기판에 대한 $LaNiO_3$ 박막의 배향성 형성과 도전도)

  • Kim, Dae-Young;Park, Min-Seok;Son, Se-Mo;Lee, Myoung-Kyo;Kim, Kang-Eun;Chung, Su-Tae
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2003.07b
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    • pp.799-802
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    • 2003
  • [ $LaNiO_3$ ](LNO) thin films were deposited on various substrates as Si and $Al_2O_3$ by sol-gel process using lanthanum nitrate and nickel acetate. The structure and orientation of the films were characterized by X-ray diffraction. The orientation factors of films on Si(100), Si(111), $SiO_2/Si(100)$ and $Al_2O_3$were 97%, 63%, 73%, and 24% respective. The conductivity was $7.6{\times}10^{-3}{\Omega}{\cdot}cm$ with 10 times coating at Si(100) substrate.

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확산코팅기법에 의하여 Si 코팅된 TZM 합금의 산화시 코팅층의 확산거동

  • Kim, Min-Ho;Kim, Tae-Wan;Park, Jun-Sik;Kim, Jeong-Min;Lee, Seong
    • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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    • 2011.10a
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    • pp.40.1-40.1
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    • 2011
  • TZM합금은 융점이 높은 Mo 기지에 미세한 (Zr,Ti)C의 석출물이 분산되어 있어 고온에서 다양한 부품에 응용가능하다. 하지만, TZM합금이 대기중 고온에 노출될 경우, 초기 산화물이며 약 $600^{\circ}C$부터 기화가 시작되는 $MoO_3$상이 형성됨으로써 물성에 치명적인 영향을 미친다. 이러한 산화거동을 막기 위하여 표면보호 코팅을 필요로 한다. 본 연구에서는 복잡한 형상과 대량생산이 가능하며 표면 코팅층과 모재의 접합성이 가장 강하다고 알려진 확산코팅법을 이용하여 Si을 TZM 합금에 코팅하였으며, 코팅층의 형성 속도론을 이해하기 위하여 온도별 및 시간별로 코팅을 수행하여 시간과 온도에 따른 코팅층의 형성 기구를 고찰하고자 하였다. Si의 확산코팅결과, $MoSi_2$층은 $1350^{\circ}C$에서 산화시에 두께가 감소하였으며, $Mo_5Si_3$상은 두께가 성장하였다. 코팅층의 확산거동을 속도론적 분석을 통하여 규명하고 논의하고자 한다.

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A Study on Etching Characteristics of Molybdenum Thin Films by Magnetically Enhanced Reactive lon Etching System (자장 강화 반응성 이온 식각 장비를 이용한 몰리브덴 박막의 식각 특성 연구)

  • 김남훈;권광호;김창일;장의구
    • Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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    • v.13 no.1
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    • pp.6-12
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    • 2000
  • In this study, molybdenum thin films were etched with Cl\ulcorner/(Cl\ulcorner+SF\ulcorner) gas mixing ratio in an magneti-cally enhanced reactive ion etching(MERIE) by the etching parameters such as rf power of 250 watts, chamber pressure of 100 mTorr and B-field of 30 gauss. The etch rate was 150nm/min under Cl\ulcorner/(Cl\ulcorner+SF\ulcorner) gas mixing ratio of 0.25. At this time, the selectivity of Mo to SiO\ulcorner, photoresist were respectively 0.94, 0.05. The surface reaction of the etched Mo thin films was investigated with X-ray photoelectron spectroscopy(XPS). It was analyzed that Mo peaks was mainly observed in Mo-O bonds formed MoO\ulcorner compounds and F was detected in Mo-F and O-F bonds. Cl peaks were detected by the peak of Cl 2p\ulcorner in Cl-Mo bonds of MoCl\ulcorner or MoO\ulcornerCl\ulcorner formulas. Almost all of both Cl and S atoms had been com-bined with Mo, respectively.

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High Temperature Deformation Behaviour of Particulate Reinforced Aluminium Composites (입자분산강화 알루미늄 복합재료의 고온거동에 관한 연구)

  • Gwon, Hyeok-Cheon;Yun, Ui-Park
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.5 no.7
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    • pp.765-774
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    • 1995
  • The hot deformation behaviour of particulate reinforced aluminium 6061 Al composite were investigated by hot compression tests in the temperature range from 623K to 823K with strain rate of 10$^{-3}$ ~5.0 S$^{-1}$ . The effect of reinforced particulate volume fraction, mean diameter on the high temperature flow stress has also been studied. Experimental results showed that the increase in the volume fraction of reinforcement contributed to the rising of yield stress, but the stress above the yield point appeared to be steady state at all volume fractions. The apparent activation energy for deformation was 290KJ/mo1 for unreinforced 6061 Al, 327KJ/mo1 for 6061 Al-20vo1.% SiC composite and 531KJ/mo1 for 6061 Al-20vo1.%A1$_2$O$_3$composite. It appeared that $Al_2$O$_3$reinforced composites was more difficult to hot deform.

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