Previously, crystallization of a-Si:H films on glass substrates were limited to anneal temperature below 600.deg. C, over 10 hours to avoid glass shrinkage. Our study indicates that the crystallization is strongly influenced by anneal temperature and weakly affected by anneal duration time. Because of the high temperature process and nonconducting substrate requirements for poly-Si TFTs, the employed substrates were limited to quartz, sapphire, and oxidized Si wafer. We report on poly-Si TFT's using high temperature anneal on a Si:H/Mo structures. The metal Mo substrate was stable enough to allow 1000.deg. C anneal. A novel TFT fabrication was achieved by using part of the Mo substrate as drain and source ohmic contact electrode. The as-grown a-Si:H TFT was compared to anneal treated poly-Si TFT'S. Defect induced trap states of TFT's were examined using the thermally stimulated current (TSC) method. In some case, the poly-Si grain boundaries were passivated by hydrogen. A-SI:H and poly-Si TFT characteristics were investigated using an inverted staggered type TFT. The poly -Si films were achieved by various anneal techniques; isothermal, RTA, and excimer laser anneal. The TFT on as grown a-Si:H exhibited a low field effect mobility, transconductance, and high gate threshold voltage. Some films were annealed at temperatures from 200 to >$1000^{\circ}C$ The TFT on poly-Si showed an improved $I_on$$I_off$ ratio of $10_6$, reduced gate threshold voltage, and increased field effect mobility by three orders. Inverter operation was examined to verify logic circuit application using the poly Si TFTs.
The thermal stability, magnetic and magnetocaloric properties of $Gd_{55}Co_{35}M_{10}$ (M = Si, Zr and Nb) melts-pun ribbons were studied. The relatively high reduced glass transition temperature ($T_{x1}/T_m$ > 0.60) and low melting point ($T_m$) resulted in excellent glass forming ability (GFA). The Curie temperatures ($T_C$) of melt-spun amorphous ribbons $Gd_{55}Co_{35}M_{10}$ for M = Si, Zr and Nb were 166, 148 and 173 K, respectively. For a magnetic field change of 2 T, the values of maximum magnetic entropy change $(-{\Delta}S_M)^{max}$ for $Gd_{55}Co_{35}Si_{10}$, $Gd_{55}Co_{35}Zr_{10}$ and $Gd_{55}Co_{35}Nb_{10}$ were found to be 2.86, 4.28 and $4.05J\;kg^{-1}K^{-1}$, while the refrigeration capacity (RC) values were 154, 274 and $174J\;kg^{-1}$, respectively. The $RC_{FWHM}$ values of amorphous alloys $Gd_{55}Co_{35}M_{10}$ (M = Si, Zr and Nb) are comparable to or larger than that of $LaFe_{11.6}Si_{1.4}$ crystalline alloy. Large values of $(-{\Delta}S_M)^{max}$ and RC along with good thermal stability make $Gd_{55}Co_{35}M_{10}$ (M = Si, Zr and Nb) amorphous alloys be potential materials for magnetic cooling operating in a wide temperature range from 150 to 175 K, e.g., as part of a gas liquefaction process.
The magnetic thin films can be prepared without vacuum process and under the low temperature (<100 $^{\circ}C$) by ferrite plating. We have performed ferrite plating of M $n_{x}$Z $n_{0.22}$F $e_{2.78-x}$$O_4$(x=0.00~0.08) films and N $i_{x}$Z $n_{0.22}$F $e_{*}$2.78-x/ $O_4$(x=0.00~0.15) films on cover glass at the substrate temperature 90 $^{\circ}C$. The crystal structure of the samples has been identified as a single phase of polycrystal spinel structure by x-ray diffraction technique. The lattice constant in the M $n_{x}$Z $n_{0.22}$F $e_{2.78-x}$$O_4$films increases but in the N $i_{x}$Z $n_{0.22}$F $e_{*}$2.78-x/ $O_4$films decrease with the composition parameter, x. The saturation magnetization in the M $n_{x}$Z $n_{0.22}$F $e_{2.78-x}$$O_4$films does not greatly change, in agreement with observations on bulk samples.k samples.k samples.
Aluminum nitride (AlN) thin films were prepared by using nitrogen ion beam assisted reactive radio frequency (RF) magnetron sputtering on the glass substrates without intentional substrate heating. After deposition, the effect of nitrogen ion beam energy on the structural and optical properties of AlN films were investigated by x-ray diffraction (XRD), atomic force microscope (AFM) and UV-Vis. spectrophotometer, respectively. AlN films deposited with $N^+$ ion irradiation at 100 eV show the higher (002) peak intensity in XRD pattern than other films. It means that $N^+$ ion energy of 100 eV is the favorable condition for low temperature crystallization. AFM images also show that surface average roughness is increased from 1.5 to 9.6 nm with $N^+$ ion energy in this study. In an optical observation, AlN films which deposited by $N^+$ ion beam energy of 100 eV show the higher transmittance than that of the films prepared with the other $N^+$ ion beam conditions.
Lee, Jin Hyok;Bae, Jong Woo;Choi, Myoung Chan;Yoon, Yoo-Mi;Park, Sung Han;Jo, Nam-Ju
Elastomers and Composites
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v.53
no.4
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pp.213-219
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2018
The degradation mechanism and physical properties of an FKM O-ring were observed with thermal aging in this experiment. From X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) analysis, we could observe carbon (285 eV), fluoro (688 eV), and oxygen (531 eV) peaks. Before thermal aging, the concentration of fluoro atoms was 51.23%, which decreased to 8.29% after thermal aging. The concentration of oxygen atoms increased from 3.16% to 20.39%. Under thermal aging, the FKM O-ring exhibited debonding of the fluoro-bond by oxidation. Analysis of the C1s, O1s, and F1s peaks revealed that the degradation reaction usually occurred at the C-F, C-F2, and C-F3 bonds, and generated a carboxyl group (-COOH) by oxidation. Due to the debonding reaction and decreasing mobility, the glass transition temperature of the FKM O-ring increased from $-15.91^{\circ}C$ to $-13.79^{\circ}C$. From the intermittent CSR test, the initial sealing force was 2,149.6 N, which decreased to 1,156.2 N after thermal aging. Thus, under thermal aging, the sealing force decreased to 46.2%, compared with its initial state. This phenomenon was caused by the debonding reaction and decreasing mobility of the FKM O-ring. The S-S curve exhibited a 50% increase in modulus, with break at a low strain and stress state. This was also attributed to the decreasing mobility due to thermal aging degradation.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.335-335
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2011
Instability of a thin film attached to a compliant substrate often leads to emergence of exquisite wrinkle patterns with length scales that depend on the system geometry and applied stresses. However, the patterns that are created using the current techniques in polymer surface engineering, generally have low aspect ratio of undulation amplitude to wavelength, thus, limiting their application. Here, we present a novel and effective method that enables us to create wrinkles with a desired wavelength and high aspect ratio of amplitude over wavelength as large as to 2.5:1. First, we create buckle patterns with high aspect ratio of amplitude to wavelength by deposition of an amorphous carbon film on a surface of a soft polymer poly(dimethylsiloxane) (PDMS). Amorphous carbon films are used as a protective layer in structural systems and biomedical components, due to their low friction coefficient, strong wear resistance against, and high elastic modulus and hardness. The deposited carbon layer is generally under high residual compressive stresses (~1 GPa), making it susceptible to buckle delamination on a hard substrate (e.g. silicon or glass) and to wrinkle on a flexible or soft substrate. Then, we employ glancing angle deposition (GLAD) for deposition of a high aspect ratio patterns with amorphous carbon coating on a PDMS surface. Using this method, pattern amplitudes of several nm to submicron size can be achieved by varying the carbon deposition time, allowing us to harness patterned polymers substrates for variety of application. Specifically, we demonstrate a potential application of the high aspect wrinkles for changing the surface structures with low surface energy materials of amorphous carbon coatings, increasing the water wettability.
The purpose of this thesis is thermal performance simulation about various type that can apply in the high-rise residential building to estimate condensation performance of window that is consisted of frame and glazing in curtain wall. The result of this thesis are summarized as follows. First, condensation occurrence point when relative humidity is $30{\cdot}40{\cdot}50\%$ is shortest Low-e double glass. Difference by type of gas and spacer was a little by $2{\~}6$ cm, among it, the case that apply krypton in gas and the case that apply double seal in spacer were less condensation occurrence distribution. Second, when analyzed improved proposal of window and existing plan through simulation, improved proposal is superior from general side of the interior and exterior temperature, thermal break surrounding temperature and temperature of frame end, condensation occurrence point etc. Therefore, if it was used improved proposal with effect that improve in curtain wall of high-rise residential building, it may improve window condensation performance of curtain wall.
Polycrystalline CdTe thin films for solar cell continues to be a promising material for the development of cost effective and reliable photovoltaic processes. The two key advantages of this material are its high optical absorption coefficient and its near ideal band gap for photovoltaic conversion efficiency of 1.4-1.5 eV. In this study we made the CdTe thin films for solar cell application which was deposited on the glass substrates using a modified chemical spray method at low temperature. This process does not require the sophisticated and expensive vacuum systems. The prepared CdTe films were characterized with the aid of scanning electron microscope (SEM), UV-visible spectrophotometer, and X-ray diffraction spectrometer (XRD). Following are results of a study on the "Human Resource Development Center for Economic Region Leading Industry" Project, supported by the Ministry of Education, Science & Tehnology(MEST) and the National Research Foundation of Korea(NRF).
We synthesized three novel poly(norbornene bisimide)s by ring opening metathesis polymerization (ROMP) and subsequent hydrogenation. Their thermal, mechanical and optical properties were investigated with TGA, DMA, UV-Vis spectrometer, and optical reflectometer. The new polymers showed high glass transition temperatures over $260^{\circ}C$ and good thermal stability with 5% wt-loss temperature higher than $390^{\circ}C$. When solvent casted, they yielded optically transparent and dimensionally stable films with a relatively low coefficient of thermal expansion of about 50 ppm $K^{-1}$. Therefore, the bisimide moieties substantially enhanced thermal and dimensional stabilities, as compared with normal ROMP-prepared polynorbornene films. Though the water uptake was increased to 0.6 wt-%, this water uptake is still considerably lower than that for polyethersulfones (1.4 wt-%) or polyimides (2.0 wt-%). Hence, the new poly(norbornene bisimide)s may become attractive candidates for flexible substrates of optoelectronic devices such as displays and photovoltaic solar cells.
Typically, high lime fly ash (Class C) has been characterized as a fly ash, which at lower replacement levels is not as effective as the low lime (Class F) fly ash, in mitigating alkali-silica reaction (ASR) in portland cement concrete. The influence of fineness of Class C, obtained by grinding virgin fly ash into finer particles, on its pozzolanic reactivity and ASR mitigation performance was investigated in this study. In order to assess the pozzolanic reactivity of mortar mixtures containing virgin or ground fly ashes, the strength activity index (SAI) test and thermo-gravimetric analysis (TGA) were conducted on the mortar cubes and paste samples, respectively, containing virgin fly ash or two ground fly ashes. In addition, to evaluate any improvement in the ASR mitigation of ground fly ashes compared to that of the virgin fly ash, the accelerated mortar bar test (AMBT) was conducted on the mortar mixtures containing different dosages of either virgin or ground fly ashes. In all tests crushed glass aggregate was used as a highly reactive aggregate. Results from this study showed that the finest fly ash (i.e., with an average particle size of 3.1 microns) could increase the flow ability along with the pozzolanic reactivity of the mortar mixture. However, results from this study suggested that the fineness of high lime fly ash does not seem to have any significant effect on ASR mitigation.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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