• The Optical Journal
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• s.98
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• pp.60-66
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• 2005

프로젝터와 프로젝션 TV는 공통적으로 광학엔진내에 신호 처리된 영상 정보를 표시해주는 CRT(Cathode Ray Tube), LCD(Liquid Crystal Device), LCoS(Liquid Crystal on Silicon), 디지털 마이크로 미러 디바이스(Digital Micromirror Device;DMD)등의 디스플레이 소자가 사용된다. 최근 이러한 디스플레이 소자는 소형화·경량화 되어지는 추세에 있으며 무겁고 두꺼운 CRT보다는 LCD를 이용한 프로젝션 시스템들이 속속 출시되고 있다. LCoS 및 DMD를 이용한 시스템들도 출시 또는 개발되고 있는 실정이다. 특히, 현재까지는 LCD가 주류였지만, 고해상도 구현에 유리한 반면, 개발속도가 느린 LCoS에 비해 하이 콘트라스트(High Contrast) 구현에 탁월하고 개발 속도가 빠른 DMD를 이용한 프로젝션 시스템의 개발 및 출시가 주로 진행되고 있다.

• Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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• 2000.08a
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• pp.230-231
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• 2000

동전만한 작은 크기의 화면을 원하는 크기로 확대해서 보여주는 micro-display는 부피가 작고 가벼운 장점으로 인해 HMD(Head Mount Display)에 적용되었으나, 최근들어 TV나 monitor등에 확대 적용되고 있다. 이러한 micro-display중 LCOS는 최근 가장 활발히 연구되고 있는 micro-display이다$^{(1).(4)}$ . LCOS는 Liquid Crystal On Silicon의 약어로 반도체 제조에 사용되는 silicon wafer위에 액정소자를 얹어 제작하는 것이다. LCOS는 액정화면을 구동하기 위한 silicon back-plate의 반도체 기술, 화상을 표시하는 액정소자 기술, 표시된 화면을 사용자가 볼 수 있도록 투사하는 조명/투사광학 기술등이 집적화된 display이다. LCOS의 최적 특성을 위해서는 각 부분의 성능 최적화뿐만 아니라 각 기술들의 상호 연결 및 접목이 중요하다. (중략)

• Electrical & Electronic Materials
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• v.15 no.2
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• pp.28-35
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• 2002

• Broadcasting and Media Magazine
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• v.6 no.4
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• pp.44-56
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• 2001

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2002.08a
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• pp.541-544
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• 2002

The reflective liquid crystal(LC) imager in one panel Liquid Crystal on Silicon(LCoS) System must have the properties such as fast response time, high contrast ratio(C/R) and voltage holding ratio(VHR) which are more related to the lifetime of imager than the others. As the high-output light including a short wavelength from UHP lamp is exposed to LCoS imager, the indium metal impurities, which decrease the C/R and VHR, are diffused from ITO thin film on glass. To ensure the high reliable LCoS imager for HD projection TV, we have studied the effects of the plasma treatment on ITO film to reduce impurities in imager.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2003.07a
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• pp.295-298
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• 2003

Reflective mode liquid crystal on silicon (LCoS) microdisplay is the major technology that can produce extremely high-resolution displays. A very large number of pixels can be packed onto the CMOS circuit with integrated drivers that can be projected to any size screen. Large size direct-view thin film transistor (TFT) LCDs becomes very difficult to make and to drive as the information content increases. However, the existing LC alignment technology for the LCoS cell fabrication is still the mechanical rubbing method, which is prone to have minor defects that are not visible normally but can be detrimental if projected to a large screen. In this paper, application of photo-alignment to LCoS fabrication is presented. The alignment is done by three-step exposure process. A MTN $90^{\circ}$ mode is chose as to evaluate the performance of this technique. The comparison with rubbing mode shows the performance of photo-alignment is comparable and even better in some aspect, such as sharper RVC curve and higher contrast ratio.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.16 no.4
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• pp.322-329
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• 2003

We have studied how surface pretilt angle affects generation of disclination line in liquid-crystal-on silicon cells for 45$^{\circ}$-twisted nematic (TN) and vertical alignment (VA) modes with pixel size of 15$\mu\textrm{m}$. Our studies show that when the pretilt angle is increased from 0$^{\circ}$to 3$^{\circ}$ in the 45$^{\circ}$-TN cell, the disclination line at left side of on-pixel becomes weak and is well suppressed with $\theta$$\_$p/=3$^{\circ}$ although the pixel size Is decreased. In the VA cell, when the pretilt angle is decreased from 89$^{\circ}$ to 86$^{\circ}$, the disclination line at right side of the on-pixel is suppressed well and even for a smaller pixel size, it does not exist when $\theta$$\_$p/=86$^{\circ}$. The results inform that the pretilt angle strongly affects the image quality of microdisplays.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2006.08a
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• pp.49-51
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• 2006

A new data line reduction driving method was developed for high pixel density LCoS microdisplays. Its pixel structures and its corresponding gate line waveform were proposed, too. This idea can fulfill the increasing demand for higher resolution LCoS. In this method, no additional AC power is dissipated, and no more horizontal line time is needed. So this method can be applied to the high resolution microdisplay devices. It prefers being applied to the reflective liquid crystal on silicon microdisplays because of the pixel structure asymmetry and PMOS transistor switches used.

• Proceedings of the Korean Society for Noise and Vibration Engineering Conference
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• 2006.05a
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• pp.656-659
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• 2006

MD (DLP, LCoS) Projection TV is appropriate for large screen display with high definition at a relatively low price and thus, has been popular in the digital TV market. In order to realize high resolutions in the DLP projection TV, we successfully developed the Pixel Enhancement Actuator. Furthermore, it is also required that the contrast ratio of projected video signals onto a large screen should be improved. Therefore, we propose a contrast enhancer which adjusts the amount of projected lights by a dynamic aperture and a attached position sensor.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.451-451
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• 2010

최근들어 80인치 이상의 대경 고화질 display 및 휴대용 projection display 제작이 가능한 LCoS (Liquid Crystal on Silicon) display에 대한 관심이 높아지고 있다. LCoS projection display는 높은 개구율, 빠른 응답속도, 고화질, 대형 디스플레이 임에도 불구하고 낮은 제조단가 등의 여러 가지 장점을 가지고 있다. LCoS projection display의 핵심 기술로는 높은 투과도와 낮은 반사율을 갖는 유리기판, 무기 배향막 증착 기술, Si back plane과의 접합기술 등이 있다. 이 중 LCoS projection display 제작을 위한 첫 단계인 유리기판은 가시광선 영역에서 96% 이상의 높은 투과도와 3% 미만의 반사도를 요구하는 기술을 필요로 한다. 본 연구에서는 indium이 doping된 tin oxide (ITO)를 투명 전도성막으로 사용하고, $SiO_2/MgF_2$ 이중 박막을 반사방지막으로 채택하여 고투과도 및 저반사율을 갖는 유리기판 제조에 응용하였다. 먼저 15nm 두께의 ITO 박막을 DC sputtering을 이용하여 8-inch 크기의 corning1737 유리기판 상에 증착한 후, 그 반대편에 e-beam evaporation 장비를 사용하여 120nm 두께의 반사 방지막을 증착하였다. 또한 유리기판 상에 증착된 투명 전도성막의 표면개질을 위하여 Ar plasma를 이용하여 treatment를 수행하였다. 이 때 sputtering 조건은 DC power, Ar 유량 및 압력을 조절함으로서 높은 투과도를 갖는 최적의 조건을 구현하였고, e-beam evaporation을 이용한 반사방지막 증착 조건은 $SiO_2$와 $MgF_2$의 계면에서 빛의 반사를 최소화할 수 있는 최적의 조건을 구현하였다. 제작된 유리기판은 가시광선 영역에서 97% 이상의 투과도를 보였으며, 최대 2.8%의 반사율을 보여, LCoS display 제작에 적합함을 확인할 수 있었다. 또한 Ar plasma 처리 후 ITO 박막의 면저항 값은 $100\;{\omega}/{\Box}$, 표면 거칠기는 rms 값 기준 0.095nm, 접촉각 $20.8^{\circ}$의 특성을 보여, 타 index matched transparent conducting oxide가 coating된 유리기판에 비해 우수한 특성을 보였다.