Structural and electrical characterizations of $HfO_{2}/HfSi_{x}O_{y}$ as alternative gate dielectrics in MOS devices
(MOS 소자의 대체 게이트 산화막으로써 $HfO_{2}/HfSi_{x}O_{y}$ 의 구조 및 전기적 특성 분석)
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- Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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- 2001.07a
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- pp.45-49
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- 2001