Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.354-354
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2012
In this study, we report the vertically aligned ZnO nanowires by using different type of Ga-doped ZnO (GZO) thin films as seed layers to investigate how the underlying GZO film micro structure affects the distribution of ZnO nanowires. Arrays of highly ordered ZnO nanowires have been synthesized on GZO thin film seed layer prepared on p-Si substrates ($7-13{\Omega}cm$) with utilize of a pulsed laser deposition (PLD). With the vapor-liquid-solid (VLS) growth process, the ZnO nanowire synthesis carries out no metal catalyst and is cost-effective; furthermore, The GZO seed layer facilitates the uniform growth of well-aligned ZnO nanowires. The influence of the growth temperature and various thickness of GZO seed layer have been analyzed. Crystallinity of grown seed layer was studied by X-Ray diffraction (XRD); diameter and morphology of ZnO nanowires on seed layer were investigated by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM). Our results suggest that the GZO seed layer with high c-axis orientation, good crystallinity, and less lattice mismatch is key parameters to optimize the growth of well-aligned ZnO nanowire arrays.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.49
no.1
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pp.20-25
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2016
Femtosecond laser ablation of ultrathin polymer films on quartz glass using laser pulses of 100 fs and centered at ${\lambda}=400nm$ wavelength has been investigated for nanometer precision thin film patterning. Single-shot ablation craters on films of various thicknesses have been examined by atomic force microscopy, and beam spot diameters and ablation threshold fluences have been determined by square diameter-regression technique. The ablation thresholds of polymer film are about 1.5 times smaller than that of quartz substrate, which results in patterning crater arrays without damaging the substrate. In particular, at a $1/e^2$ laser spot diameter of $0.86{\mu}m$, the smallest craters of 150-nm diameter are fabricated on 15-nm thick film. The ablation thresholds are not influenced by the film thickness, but diameters of the ablated crater are bigger on thicker films than on thinner films. The ablation efficiency is also influenced by the laser beam spot size, following a $w_{0q}{^{-0.45}}$ dependence.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2004.10a
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pp.832-835
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2004
In this paper, we implement a sensor which can perceive obstacles. We constructed it with a laser emitting a structured light and a small pc camera. It is cheap and can measure the precise sizes of the obstacles. Ultrasonic arrays and laser scanners are used generally to perceive obstacles in the autonomous mobile robot until now. However we knew that they can perceive big obstacles well, but cannot perceive small obstacles on the ground by experiments. We mounted this equipment to our robot and use it to perceive the obstacles of the front side. Our robot can recognize the obstacles of 10mm height. We expect that this equipment will be useful because it is cheap but work well.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.23
no.3
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pp.245-249
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2010
Two dimensional(2D) pair-photonic crystals (pair-PCs) have been fabricated by a multiple-exposure nanosphere lithography (MENSL) method using the self-assembled nanospheres as lens-mask patterns and the collimated laser beam as a multiple-exposing source. The arrays of the 2D pair-PCs exhibited variable lattice structures and shape the control of rotating angle (${\Theta}$), tilting angle (${\gamma}$) and the exposure conditions. In addition, the base period or filling factor of pair-PCs as well as their shapes could be changed by experimental conditions and nanosphere size. A 1.18-${\mu}m$-thick resist was spincoated on Si substrate and the multiple exposure was carried out at change of ${\gamma}$ and ${\Theta}$. Images of prepared 2D pair-PCs were observed by SEM. We believe that the MENSL method is a suitable useful tool to realize the pair-periodic arrays of large area.
Using a cantilever type nanoprobe having a 100㎚m aperture at the apex of the pyramidal tip of a near-field scanning optical microscope (NSOM), nanopatterning of polymer films are conducted. Two different types of polymer, namely a positive photoresist (DPR-i5500) and an azopolymer (Poly disperse orange-3), spincoated on a silicon wafer are used as the substrate. A He-Cd laser with a wavelength of 442㎚ is employed as the illumination source. The optical near-field produced at the tip of the nanoprobe induces a photochemical reaction on the irradiated region, leading to the fabrication of nanostructures below the diffraction limit of the laser light. By controlling the process parameters properly, nanopatterns as small as 100㎚ are produced on both the photoresist and azopolymer samples. The shape and size variations of the nanopatterns are examined with respect to the key process parameters such as laser beam power, irradiation time or scanning speed of the probe, operation modes of the NSOM (DC and AC modes), etc. The characteristic features during the fabrication of ordered structures such as dot or line arrays using NSOM lithography are investigated. Not only the direct writing of nano array structures on the polymer films but also the fabrication of NSOM-written patterns on the silicon substrate were investigated by introducing a passivation layer over the silicon surface. Possible application of thereby developed NSOM lithography technology to the fabrication of data storage is discussed.
Fine pitch microprobe arrays are microneedle-like probes for inspecting the pixel of LCD panel. They are usually made of multilayers of metallic, nonmetallic, or combination of the two. In this study, the microprobe arrays were fabricated using the process applied for MEMS fabrication technology and they consist of BeCu, BeNi, or Si. Their contacting probing force and deflection were measured using the laser equipment. The design requirement are 5gf of a minimum contact force and $150{\mu}m$ of a maximum deflection. A lot of microprobe shape are possible satisfying the requirement. A double cantilever-type microprobe having needles on both ends were applied for this study. Several candidate were chosen using the topology and shape optimization technique subjected to the design requirements. Finite element results and experimental results were compared and both gave good correlation.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.62-62
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2010
Photonic quasi-crystals(PQCs) have been fabricated by a multiple-exposure nanosphere lithography (MENSL) method using the self-assembled nanospheres as lens-mask patterns. The multiple-exposing source is collimated laser beam and rotation, tilting system. The arrays of the PQCs exhibited variable lattice structures and shape the control of ratating angle ($\theta$), tilting angle ($\gamma$) and the exposure conditions. The used nanosphere size is upto the $1\;{\mu}m$. Images of prepared 2D PQCs were observed by SEM. We believe that the MENSL method is a suitable useful tool to realize the PQCs arrays of large area.
New S-shaped aeroelastic mesoflaps are utilized to control normal shock/boundary-layer interactions. New generation of the mesoflaps is designed f3r a better rigidness and a good flow uniformity across the ulteractions. ,Major advantages of the mesoflap system can be a better total pressure recovery downstream of the interactions due to the lambda shock structure over the flap system, and a rehabilitation of the thickened boundary layer due to bleeding through a cavity underneath the flap system. Skin friction has been measured downstream of the interactions, using the laser interferometer skin friction (LISF) meter, which optically detects the rate of thinning of an oil film applied to the test surface. Various flap-thicknesses of the S-shaped mesoflap arrays are tested, and the results are compared to the solid-wall reference case. Overall, not much difference in the level of skin friction is noticed for the S-shaped flap arrays of various thicknesses, and its level is lower than the skin friction downstream of the solid-wall interaction
Recently, Ball Grid Arrays(BGAs) are getting used more frequently for a package type. The connectors on a BGA consist of a large number of small solder balls in a grid shape on its bottom side. However, since balls of BGAs mounted on PCBs are not visible, inspection before mounting them is indispensable. High speed non-contact 3D measurement technologies are necessary far real-time measurement of ball height, the most important inspection item. In this paper, an accurate 3D data acquisition system for BGAs is proposed that can acquire 3D profile at high speed using a 3D smart camera and laser slit ray projection. Some clipping and morphological filtering operations are employed to remove spiky error data, which occur due to reflections from some ball area to camera direction.
A 780 nm monolithic individually addressable 8-beam diode laser with 10mW optical power was developed for use in a laser scanning unit. Beam to beam spacing is $30\;{\mu}m$ and an air bridge interconnection process was developed for individual operations. From electrical and optical characteristic measurements, the developed device is a suitable optical source for a high speed laser scanning unit in multi-function printing systems and laser beam printers.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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