• 제목/요약/키워드: Langmuir Probe

검색결과 216건 처리시간 0.035초

P018 Comparison between Cutoff Probe and Langmuir Probe: Focused on Measurement Technique Error

  • 권준혁;김대웅;유신재;신용현
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
    • /
    • pp.235.1-235.1
    • /
    • 2014
  • Precise measurement of plasma parameters including density and temperature is the most essential part for understanding plasma characteristics. To persue more accurate measurement, it is very important to understand the intrinsic error of the measurement method. In this paper, we performed the plasma measurement with different method; langmuire probe and cutoff probe. Both measurement technology are known to be exactly correlate with etch other. We conducted the four set of same experiments process by diffrent persons to observe the intrinsic error based on measurement tools. As a result, the cutoff probe is relatively reliable then the Langmuir probe. This difference is analyzed to be intrinsic since it cames from the inevitable error such as manufacturing of probe tip. From this study, we sure that it is good decision to choose cutoff probe as repeatable measurement independent with intrinsic human factor.

  • PDF

Ar 가스 압력에 따른 유도결합형 플라즈마의 전자 밀도 측정 (Electron Density Measurement of Inductively Coupled Plasma by Ar Gas Pressure)

  • 이영환;김광수;조주웅;박대희
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
    • /
    • 제52권11호
    • /
    • pp.508-511
    • /
    • 2003
  • In this paper, electrical characteristics of inductively coupled plasma in an electrodeless fluorescent lamp were investigated using a Langmuir probe with a variation of argon gas pressure. The RF output was applied in the range of 5 ∼ 50 (W) at 13.56 (MHz). The internal plasma voltage of the chamber and the probe current were measured while varying the supply voltage to the Langmuir probe in the range of -100 (V) ∼+100 (V). When the pressure of argon gas was increased, electric current was decreased. There was a significant electric current increase from l0W to 30 〔W〕. Also, when the RF power was increased, electron density was increase. This implies that this method can be used to find an optimal RF rower for efficient light illumination in an electrodeless fluorescent lamp.

오염된 LANGMUIR 탐침의 특성 (CHARACTERISTICS OF THE CONTAMINATED LANGMUIR PROBE)

  • 표유선;민경욱;최영완;이동훈;강광모;황순모;김병철;김준;이수진
    • Journal of Astronomy and Space Sciences
    • /
    • 제12권2호
    • /
    • pp.234-243
    • /
    • 1995
  • 1997년 10월에 발사 예정인 과학 로켓 3호는 고도 160km까지 도달할 것이 예상되므로 한반도 상공의 전리층 E 영역에 존재하는 플라즈마를 직접 측정할 수 있는 좋은 기회를 제공한다. 한펀 플라즈마 측정에 있어서 가장 기본이 되는 검출기인 Langmuir 탑침을 실험실에서 사용하는 방법 그대로 우주 실험에 적용하면 탐침의 오염으로 인해 정확한 플라즈마 실험이 불가능해 진다. 본 논문에서는 로켓용 탑침 제작에 앞서 실험실용 탐침을 제작하여 진공 용기에서 플라즈마 실험을 수행함으로써 탐침의 오염 문제를 연구하였다. 그 결과, 플라즈마의 밀도가 낮을수록 오염에 의한 효과는 적었으며 탐침에 제공되는 쓸기전압의 주파수가 증가할수록 오염에 의한 효과를 줄일 수 있었다. 이러한 연구 결과를 바탕으로 로켓 실험에 적당한 변형된 형태의 Langmuir 탐침을 제안하였다.

  • PDF

단일탐침법을 사용한 평판형 광원의 제논 (Xe) 플라즈마 특성 연구 (Xe Plasma Property with Flat Lamp by Langmuir Probe)

  • 백광현;이종찬;황명근;최용성;박대희
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
    • /
    • 제55권1호
    • /
    • pp.50-54
    • /
    • 2006
  • The study on discharge of the flat lamp lighting source has been requested increasingly. To improve the brightness, life time and efficiency of flat lamp, the plasma diagnosis of flat lamp lighting source is very important. When a distance of discharge electrode is 5.5mm and width is 16.5mm, we measured electron temperature and electron density with single Langmuir probe in flat lamp. Pressure conditions to test the plasma discharge from 100 Torr to 300 Torr. The power supply was PDS-4000 with frequency 20kHz and duty ratio $20\%.$ Form these experimental results, electron temperature was decreased according to increase the gas pressure and the voltage while electron density was increased.

13.56MHz ICP에서 단일 탐침법에 의한 Ne 가스의 발광특성 연구 (A Study on Emission Characteristics of Ne Gas Using a Single Langmuir Probe Method in Radio-Frequency Inductively Coupled Plasma)

  • 조주웅;최용성;김용갑;박대희
    • 대한전기학회:학술대회논문집
    • /
    • 대한전기학회 2004년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
    • /
    • pp.150-152
    • /
    • 2004
  • In recent, there have been several developments in lamp technology that promise savings in electrical power consumption and improved quality of the lighting space. The electrodeless fluorescent lamp is intended as a high efficacy replacement for the incandescent reflector lamp in many applications. In this paper, electron temperature and electron density were measured in a radio-frequency inductively coupled plasma using a Langmuir probe method for emission characteristics. Measurement was conducted in an Ne discharge for pressure from 10 [mTorr] and input RF power 100 [W] to 150 [W]. As for the electron density, a electron temperature was more distinguished for a emission characteristic. The results of ideal may contribute to systematic understanding of a electrodeless fluorescent lamps of emission characteristics.

  • PDF

마이크로플라즈마 전류 스위치 및 응용

  • 채결여;김명민;문철희;이상연;이승준
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
    • /
    • pp.433-433
    • /
    • 2010
  • A microplasma current switch (MPCS) for a device operated in a current mode like organic light-emitting diodes (OLEDs), which features matrix addressability and current switching, is presented as well as its architecture and operational principle. The MPCS utilizes the intrinsic memory and conductivity of plasmas to achieve matrix addressability and current switching. We have fabricated a $100\;mm\;{\times}\;100\;mm$ MPCS panel in which its cell pitch is $1080\;{\mu}m\;{\times}\;1080\;{\mu}m$. The matrix addressability and current switching were verified. In addition, the current-voltage (I-V) characteristic of the unit cell was measured when plasmas were ignited. In principle, the scheme of the MPCS is equivalent to that of a double Langmuir probe diagnosing plasma parameters except for their relative dimensions to a plasma volume. Accordingly, the I-V characteristic was analyzed by a double Langmuir probe theory, and the plasma density and electron temperature were estimated from the I-V curve using a collisional double Langmuir probe theory.

  • PDF

Characteristics of Linear Microwave Plasma Using the Fluid Simulation and Langmuir Probe Diagnostics

  • 서권상;한문기;윤용수;김동현;이해준;이호준
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
    • /
    • pp.158.1-158.1
    • /
    • 2013
  • Microwave는 일반적으로 300 [MHz]~30 [GHz] 사이의 주파수를 가지는 전파로 1 [m] 이하의 파장을 가진다. Microwave를 이용한 플라즈마의 경우 낮은 이온 에너지, 효율적인 전자 가열, 넓은 동작압력 범위, 높은 밀도 등의 장점을 가지고 있어 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)에 적합한 플라즈마 소스라고 할 수 있다. 또한 Microwave는 파장의 길이가 증착이 이루어지는 진공 챔버의 길이보다 매우 작기 때문에 대면적 적용성이 용이하므로 현재 많은 연구가 이루어지고 있다. 본 연구에서는 Fluid Simulation을 통해 Maxwell's equation, continuity equation, electromagnetic wave equation 등을 이용하여 Microwave의 파워 및 압력에 따른 플라즈마 parameter를 계산하고, 자체 제작한 Linear microwave plasma 장치에서 정전 탐침(Langmuir Probe)을 이용하여 플라즈마 Parameter를 측정하였다. 또한 Simulation 결과와 실험결과를 비교 분석하였다.

  • PDF

아르곤 압력에 따른 유도결합형 폴라즈마의 전기적 특성 (Electrical Properties of Inductively Coupled Plasma by Argon Pressurebstract)

  • 이영환;허인성;조주웅;김광수;이종찬;최용성;박대희
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 2003년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 방전 플라즈마연구회
    • /
    • pp.89-91
    • /
    • 2003
  • In this paper, using a Langmuir probe Ar gas characteristic of electrodeless fluorescent lamp which used an inductively coupled plasma were investigated. The RF output changed into 5-50W in 13.56MHz. At this time internal plasma voltage of the chamber and probe current were measured while changing in -70V - +70V with a supply voltage by Langmuir probe. If pressure of Ar gas was increased, the electric current tended to decrease. Also, an electric current was increased according to an increase of a RF output.

  • PDF

Ar gas를 이용한 평행 평판형 전극 DC 플라즈마 특성 진단

  • 손의정;김동현;이해준;이호준
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
    • /
    • pp.158.2-158.2
    • /
    • 2013
  • 저온 플라즈마는 물리적인 연구로부터 사용되는 DC glow 방전에서 반도체 공정장비에 이르기까지 많은 분야에 사용되고 있다. 이러한 플라즈마 연구 및 응용은 기본적인 플라즈마 진단에 바탕을 두고 있다. 특히 플라즈마의 전자밀도, 전자온도, 플라즈마 Potential 등은 공정에 중요한 변수이다. 이러한 플라즈마 변수들을 측정하기 위해서 일반적으로 Langmuir probe를 많이 사용하고 있다. 최근에는 Cutoff probe에 대한 연구도 많이 진행되고 있다. 본 연구에서는 두 가지 탐침측정방법을 통해 플라즈마변수를 진단한다. 그리고 각각의 진단방법에 대한 장단점을 실증적으로 비교하고 검증하며, 그 결과에 따라 탐침의 구조를 개선한다. 또한, 전자에너지 분포함수(EEDF)도 S/W, H/W적으로 분석을 하였다.

  • PDF

Cl$_2$/Ar 가스 플라즈마에 $O_2$ 첨가에 따른 Pt 식각 특성 연구 (The Study on the Etching Characteristics of Pt Thin Film by $O_2$ Addition to $_2$/Ar Gas Plasma)

  • 김창일;권광호
    • 전자공학회논문지D
    • /
    • 제36D권5호
    • /
    • pp.29-35
    • /
    • 1999
  • Pt박막의 ICP 식각을 위한 Cl\sub 2 \/Ar 가스 플라즈마에 O\sub 2\ 가스를 첨가하여 Pt 식각 메카니즘을 XPS와 QMS로 조사하였다. 또한 single Langmuir probe를 사용하여 이온전류밀도를 Ar/Cl\sub 2 \/O\sub 2\ 가스 플라즈마에서 측정하였다. O\sub 2\가스 첨가비가 증가할수록 Cl과 Ar species가 급격하게 감소하고 이온전류밀도 역시 감소함을 QMS와 single Langmuir probe로 확인하였다. Pt 식각율의 감소는 O\sub 2\가스 첨가비가 증가할수록 반응성 species와 이온전류밀도의 감소에 기인함을 의미한다. 150 nm/min의 치대 식각율과 2.5의 산화막식각 선택비가 50 sccm의 Ar/Cl\sub 2 \/O\sub 2\ 가수 유량, 600 W의 RF 전력, 125 V의 dc 바이어스 전압 및 10mTorr의 반응로 압력에서 얻었다.

  • PDF