Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.12
no.5
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pp.247-252
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2002
$(Pb_{1-x}La_x)TiO_3$ (x = 0.1) thin films were prepared on ITO-coated glass substrates by metal organic chemical vapor deposition using ultrasonic spraying. Effects of the post-annealing and the seeding layer on crystallization, microstructures and electrical properties of thin films were investigated. Dielectric constants of films increased due to the modification of crystallization and the changing of a surface morphology by applying the post-annealing. In addition, as the application of PT seed- ing layer offered nucleation sites to PLT thin films, electrical properties of films were enhanced by the increase of crys-tallinity and grain size. The dielectric constant of the films post-heated for 60 min and with a seeding layer was 213 at 1 kHz.
Thick inorganic-organic hybrid films were prepared on ITO-coated glass substrates by the electrophoretic sol-gel deposition of polyphenylsilsesquioxane particles. The morphology of the deposited films changed from the aggregate of the spherical particles to monolith by heat treatment at temperatures higher than $200^{\circ}C$. Transparency of the films was significantly improved accompanied by the morphological change of the particles. The degree of the morphological change was governed by two factors; maximum heat treatment temperature and heating rate. Transparent thick films of ca. 3$\mu\textrm{m}$ in thickness were obtained only by heat treatment at $400^{\circ}C$ for 2h with rapid heating from room temperature to $400^{\circ}C$. These films obtained were strongly adhered to the ITO-coated glass substrates and has a very smooth surface.
Kim, Kyoung-Duk;Ryu, Ki-Won;Bae, Seon-Gi;Lee, Young-Hie
Proceedings of the KIEE Conference
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1997.07d
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pp.1491-1493
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1997
In this study, Sol-Gel derived $Ba_{0.7}Sr_{0.3}TiO_3$ (BST(70/30)) thin films were investigated. The stock solution of BST were fabricated and spin-coated on the Pt/Ti/$SiO_2$/Si and ITO/glass substrates. The coated specimen were dried at $300^{\circ}C$ and finally annealed at $650{\sim}750^{\circ}C$. To analyse crystallization condition and microstructural morphology for different substrates, XRD, and SEM analysis were processed. In the BST(70/30) composition. dielectric constant and loss characteristics measured at 1kHz were 173, 0.01% for Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrates and 181, 0.019% for ITO/glass substrates, respectively.
Organic light emitting layer in OLED device was formed by gravure printing process in this work. Organic surface coated by gravure printing typically showed relatively bad uniformity. Thickness and roughness control was characterized by applying various mixed solvents in this work. Poly (N-vinyl carbazole) (PVK) and fact-tris(2-phenylpyridine)iridium($Ir(ppy)_3$) are host dopant system materials. PVK was used as a host and Ir(ppy)3 as green-emitting dopant. To luminance efficiency of the plasma treatment on etched ITO glass and then PEDOT:PSS spin coated. The device layer structure of OLED devices is as follow Glass/ITO/PEDOT:PSS/PVK+Ir(ppy)3-Active layer /LiF/Al. It was printed by gravure printing technology for polymer light emitting diode (PLED). To control the thickness multi-printing technique was applied. As the number of the printing was increased the thickness enhancement was increased. To control the roughness of organic layer film, thermal annealing process was applied. The annealing temperature was varied from room temperature, $40^{\circ}C$, $80^{\circ}C$, to $120^{\circ}C$.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.7
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pp.592-597
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2000
In this study (B $a_{0.5}$/S $r_{0.5}$)Ti $O_3$[BST(50/50)] ceramic thin films were prepared by the Sol-Gel method BST(50/50) stock solution was made and spin-coated on the Indium Tin Oxide(ITO)/glass substrate at 4000 rpm for 30 seconds. The coated films were dried at 35$0^{\circ}C$ for 10 minutes and annealed at 650~75$0^{\circ}C$ for 1 hour. The microstructural properties of the BST(50/50) thin film were studied by the XRD and AFM. The ferroelectric perovskite phase was formed at the annealing condition of 75$0^{\circ}C$ for 1 hour. Dielectric constant and loss of this thin were 370, 3.7% at room temperature respectively. The polarization switching voltage showed the good value of 3V. The leakage current density of the BST(50/50) thin film was 10$^{-7A}$c $m^2$with applied voltage of 1.5V. BST(50/50) thin film capacitors having good dielectric and electrical properties are expecting for the application to the dielectric material of DRAM.RAM.M.
We deposited diamond-like carbon (DLC) films using ion beam sputtering of a graphite target on flat substrates for use as a thin film field emitter. An n-type silicon wafer, titanium-coated silicon, and indium tin oxide (ITO) coated glass were used as a substrate. All films exhibited a sudden increase in the emission after a breakdown occurred at high voltage. The morphology of the films after the breakdown depended on the substrate. On ITO and Ti substrates, the DLC film peeled off upon breakdown, but on the Si substrate the surface melting due to breakdown resulted in the formation of various structures such as a sharp point, mound, and crater. By scanning the deformed surface with a tip anode, we found that the emission was concentrated at the deformed sites, indicating that the field enhancement due to the morphology change was responsible for the increased emission.
Cho, Young-Sang;Hong, Jeong-Jin;Kim, Young Kuk;Chung, Kook Chae;Choi, Chul Jin
Korean Journal of Metals and Materials
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v.48
no.9
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pp.831-841
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2010
Indium tin oxide (ITO) nanopowders were synthesized by coprecipitation and the sol-gel method to prepare a stable dispersion of ITO nano-colloid for antistatic coating of a display panel. The colloidal dispersions were prepared by attrition process with a vibratory milling apparatus using a suitable dispersant in organic solvent. The ITO coating solution was spin-coated on a glass panel followed by the deposition of partially hydrolyzed alkyl silicate as an over-coat layer. The double-layered coating films were characterized by measuring the sheet resistance and reflectance spectrum for antistatic and antireflective properties.
Mn doped {{{{ {Zn {Ga }_{2 }O }_{4 } }} thin film phosphors were prepared on Si(100) wafers and ITO coated glass substrates by rf magnetron sputtering technique and the effects of the substrates dopant and the sputtering paramet-ers were analyzed, Changes of the oreintation were observed after annealine tratment. The grain size of {{{{ {Zn {Ga }_{2 }O }_{4 } }} : Mn thin film deposited on Si wafer was smaller than that on ITO/glass substrate which resulted in higher PL intensity. The PL spectra of Mn doped {{{{ {Zn {Ga }_{2 }O }_{4 } }} thin films showed sharp green luminescence spec-trum. According to CL spectrum it could be concluded that Mn ions acted as an actuator for green emission by substituting Zn atom sites.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.19
no.5
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pp.256-261
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2009
Hydrophilic and transparent $TiO_2$ thin film was fabricated by sol-gel method and the properties of contact angle, surface morphology, and transmittance were measured. In addition, surfactant Tween 80 was used for increasing the hydrophilic property of thin film. When the contents of Tween 80 in $TiO_2$ solution was 0, 10, 30, 50wt%, the contact angles of $TiO_2$ thin film were $41.4^{\circ}$, $18.2^{\circ}$, $16.0^{\circ}$, $13.2^{\circ}$, respectively. Fabricated $TiO_2$ thin film showed the photocatalytic property that decomposed methylene blue and decreased the absorbance of solution after UV irradiation. $TiO_2$ thin films fabricated with the solution of 30 wt% Tween 80 were deposited on glass (bare), antimony tin oxide (ATO), fluorine tin oxide (FTO), indium tin oxide (ITO) coated glass substrates, and the contact angle and transmittance of thin film was measured. The contact angles of thin films deposited on four substrates were $16.2\sim27.1^{\circ}$ and was decreased to the range of $13.2\sim17.6^{\circ}$ after UV irradiation, Especially, the thin films coated on ATO and FTO glass substrate showed high transmittance of 74.6% in visible range, respectively, and low transmittance of 54.2% and 40.4% in infrared range, respectively.
Journal of the Korean Applied Science and Technology
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v.29
no.2
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pp.311-316
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2012
We are investigated to an electrochemical characteristic for Langmuir-Blodgett (LB) films by cyclic voltammetry method. The phospholipid compound was deposited by using the LB method on the Indium tin oxide(ITO) glass. We tried to measure the electrochemical by using cyclic voltammetry with three-electrode system(an Ag/AgCl reference electrode, a platinum wire counter electrode and LB film-coated ITO working electrode) in 0.5, 1.0, 1.5 and 2.0 N $NaClO_4$ solution. A measuring range was reduced from initial potential -1350 mV, continuously oxidized to 1650 mV. As a result, LB films of the phospholipid compounds are appeared irreversible process caused by only the oxidation current from the cyclic voltammogram. The diffusivity(D) effect of LB films decreased with increasing of phospholipid compound amount.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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