$BCl_3,\;BCl_3/Ar,\;BCl_3/Ne$ 유도결합 플라즈마에 의한 InGaP 건식 식각 비교
(Comparison of InGaef etching $BCl_3,\;BCl_3/Ar\;and\;BCl_3/Ne$ inductively coupled plasmas)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.1
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- pp.361-365
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- 2003