Ultrasonic machining has been known as one of the conventional machining methods in the glass fabrication processes. In ultrasonic machining, typically, glass is removed by the impulse energy of the abrasive generated by the ultrasonic power. However, when the machining feature decrease under hundreds of micrometers, as conventional ultrasonic machining uses only the impulse energy of the abrasive, the speed of ultrasonic machining decreases significantly and the surface roughness becomes deteriorated. To overcome this size effect, the chemicals which can erode glasses, such as HF, XF, etc, are added to the slurry. The chemical-assisted ultrasonic machining method, so called, is another alternating effective way for micro machining of glasses. In previous work, we used the hydrofluoric acid (HF) as an additive chemical. But, as the HF solution is too poisonous to be used as a ultrasonic process additive, it is needed to be substituted by other safe chemicals. As results of the machinability comparison of several chemicals, the GST-500F was selected to replace the HF. The GST-500F (pH $4.0{\pm}1.0$) is non-volatile, odorless. During experimental works, it was shown that the machining rate increases 1.5 times faster than the conventional ultrasonic machining. The machining load also decreases. However, the enlargement of the hole diameter and significant tool wear are still the problems to be solved.
We report a simple route for synthesizing multi-dimensional structured silicon anode materials from commercially available bulk silicon powders via metal-assisted chemical etching process. In the first step, silver catalyst was deposited onto the surface of bulk silicon via a galvanic displacement reaction. Next, the silver-decorated silicon particles were chemically etched in a mixture of hydrofluoric acid and hydrogen peroxide to make multi-dimensional silicon consisting of one-dimensional silicon nanowires and micro-scale silicon cores. As-synthesized silicon particles were coated with a carbon via thermal decomposition of acetylene gas. The carbon-coated multi-dimensional silicon anodes exhibited excellent electrochemical properties, including a high specific capacity (1800 mAh/g), a stable cycling retention (cycling retention of 89% after 20 cycles), and a high rate capability (71% at 3 C rate, compared to 0.1 C rate). This process is a simple and mass-productive (yield of 40-50%), thus opens up an effective route to make a high-performance silicon anode materials for lithiumion batteries.
Journal of the Korean institute of surface engineering
/
v.28
no.3
/
pp.182-191
/
1995
A highly porous silicon layer was fabricated by anodizing single crystalline silicon in a dilute solution of hydrofluoric acid. The color of the porous silicon changed from red and blue to yellow gold during the anodizing process. The current-voltage (I-V) curve of the anodizing process showed a typical Schottky diode rectification form. The cell voltage decreased with the increase of HF concentration in the solution at high current range. However, the voltage was independent on HF concentration in the solution at low current range. The pore size was dependant on anodizing condition (HF concentration, current and anodizing time). The pore size and wall width of porous silicon layer were 4~6 and 1~3 nm, respectively. Surface of the porous silicon was covered with silicon compound ($SiH_x$etc.) according to IR spectrum analysis. The peak wavelength and width of photoluminescence (PL) spectrum of porous silicon were 650~850 nm (1.5~1.9 eV) and 250 nm, respectively. The photoluminescence intensity and peak wavelength, and porosity of porous silicon increased with increasing anodizing current and decreased with increasing HF concentration in the anodizing solution.
Nguyen, Van Phuong;Park, Min-Sik;Yim, Chang Dong;You, Bong Sun;Moon, Sungmo
Journal of the Korean institute of surface engineering
/
v.49
no.3
/
pp.238-244
/
2016
Copper electrodeposition on AZ91 Mg alloy was studied in views of preferential deposition on ${\alpha}$- or ${\beta}$- phases and how to achieve uniform deposition over the entire surface on ${\alpha}$- and ${\beta}$-phases in a cyanide solution. The inhomogeneous microstructure of AZ91 Mg alloy, particularly ${\alpha}$- and ${\beta}$-phases, was found to result in non-uniform deposition of zincate layer, preferential deposition of zincate on ${\beta}$-phases, which leads to non-uniform growth of copper layer during the following electrodeposition process. The preferential depositions of zincate can be attributed to higher cathodic polarizations on the ${\beta}$-phases. Pin-hole defects in the copper electrodeposit were observed at the center of large size ${\beta}$-phase particles which is ascribed to gas bubbles formed at the ${\beta}$-phases. The activation of AZ91 Mg alloy in hydrofluoric acid solution was used to obtain uniform growth of zincate layer on both the ${\alpha}$- and ${\beta}$-phases. By choosing an optimum activation time, a uniform zincate layer was obtained on the AZ91 Mg alloy surface and thereby uniform growth of copper was obtained in a cyanide copper electroplating solution.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
/
2004.07a
/
pp.146-149
/
2004
Porous silicon(PS) as an excellent light diffuser can be used as an antireflection layer without other antireflection coating(ARC) materials. PS layers were obtained by electrochemical etching(ECE) anodization of silicon wafers in hydrofluoric acid/ethanol/de-ionized(DI) water solution($HF/EtOH/H_2O$). This technique is based on the selective removal of Si atoms from the sample surface forming a layer of PS with adjustable optical, electrical, and mechanical properties. A PS layer with optimal ARC characteristics was obtained in charge density (Q) of 5.2 $C/cm^2$. The weighted reflectance is reduced from 33 % to 4 % in the wavelength between 400 and 1000 nm. The weighted reflectance with optimized PS layers is much less than that obtained with a commercial SiNx ARC on a potassium hydroxide(KOH) pre-textured multi-crystalline silicon(mc-Si) surface.
This study investigates the effect of the surface microstructure on the tribological characteristics of glass substrates. Chemical etching using hydrofluoric acid and ammonium hydrogen fluoride was employed to create controlled asperity structures on glass surfaces. By varying the etching time from 10 to 50 min, different surface morphologies were obtained and characterized using optical microscopy, surface roughness measurements, and water contact angle analysis. Friction tests were performed using a stainless steel ball as the counter surface to evaluate the tribological behavior of the etched specimens. The results showed that the specimen etched for 20 min exhibited the lowest and most stable friction coefficient, which was attributed to the formation of a uniform and dense asperity structure that effectively reduced the stress concentration and wear at the contact interface. In contrast, specimens etched for shorter (10 min) or longer (30-50 min) durations displayed higher friction coefficients and accelerated wear owing to nonuniform asperity structures that led to local stress concentration. Optical microscopy of the wear tracks further confirmed the superior wear resistance of the 20-minute etched specimen. These findings highlight the importance of optimizing the etching process parameters to achieve the desired surface morphology for enhanced tribological performance, suggesting the potential of chemical etching as a surface modification technique for various materials in tribological applications.
We researched separation of mixed waste acids with HF, $CH_3COOH$, $HNO_3$ that were produced during a semiconductor wafer process to recycle these acids. At first, we manufactured the fluoride compound in form of $Na_2SiF_6$ by precipitating HF using $NaNO_3$ and Si powder. The concentration of HF was reduced from the initial concentration of 127 g/L to 0.5 g/L with an HF recovery ratio of 99.5%. After the manufacture of $Na_2SiF_6$, the concentration of $HNO_3$ and $CH_3COOH$ demonstrated 502 g/L and 117 g/L respectively. Following these findings we added NaOH in this $CH_3COOH/HNO_3$ mixed acid in order to obtain pH=4. Next we separated the $CH_3COOH$ and recoverd it through the use of vaccum evaporation at -440 mmHg, $95^{\circ}C$. The concentration of the recovered $CH_3COOH$ was approximately 15% and the recovery ratio of $CH_3COOH$ was over 85%. We precipitated the $NaNO_3$ by cooling the concentrated solution to $20^{\circ}C$ with a $HNO_3$ recovery ratio of over 93%. We confirmed that only $Na_2SiF_6$ and $NaNO_3$ were manufactured by XRD analysis after drying these precipitants at $90^{\circ}C$. The precipitants demonstrated a purity of approximately 97% and 98% respectively. Therefore, the purity of the precipitants proved to be similar to that of commercial products.
Statement of problem : IPS Empress2 system was developed and used in prosthodontic treatment, but the cost of ingot is expensive for wide application. Purpose : This study was to investigate the possibility on recycling of IPS Empress 2 ceramic for wide application of IPS Empress 2 ceramic in prosthodontic treatment. Material and Method : 1st, 2nd and 3rd pressed disc-shaped($10{\times}1.5mm$) IPS Empress 2 specimens were made with IPS Empress ingot(200, Ivoclar, Liechtenstein) and pressing furnace(IPS Empress EP 500, Ivoclar, Liechtenstein). Vicker's surface hardness and fracture toughness, acid resistance, and pressing accuracy of IPS Empress 2 ceramic were measured and analyzed. Surface hardness was measured by microhardness tester(MTX 70. Matsuzawa, Japan), before and after surface treatment with 0.5% hydrofluoric acid and carbonic acid(Coca cola) for evaluation of acid resistance. Results : The surface hardness of 1st pressed specimen was the higher(5.11 GPa) than those of 2nd pressed(4.89 GPa) and 3rd pressed specimen(4.86 GPa), and the fracture toughness of 1st pressed ($1.58MPam^{1/2}$) and 2nd pressed specimen($1.51MPam^{1/2}$) were higher than that of 3rd pressed specimen($1.39MPam^{1/2}$). The changes of surface hardness of 1st, 2nd, and 3rd pressed specimens after treatment with fluoric acid were 0.17, 0.06, 0.05 (GPa) respectively, and those of 1st, 2nd, and 3rd pressed specimens after treatment with carbonic acid were 0.07, 0.00, 0.05(MPa) respectively. The pressing accuracy of 1st,2nd and 3rd specimen were 77.22%, 85.681%, and 75.05%. The pressing accuracy of 2nd pressed specimen was higher than that of the 3rd specimen. Conclusion : The changes of physical properties according to recycling of IPS Empress 2 from this study were insignificant. Therefore the possibility of recycling of IPS Empress 2 can be suggested from the results.
PURPOSE. To evaluate the effect of various surface treatments on the surface structure and shear bond strength (SBS) of different ceramics. MATERIALS AND METHODS. 288 specimens (lithium-disilicate, leucite-reinforced, and glass infiltrated zirconia) were first divided into two groups according to the resin cement used, and were later divided into four groups according to the given surface treatments: G1 (hydrofluoric acid (HF)+silane), G2 (silane alone-no heat-treatment), G3 (silane alone-then dried with $60^{\circ}C$ heat-treatment), and G4 (silane alonethen dried with $100^{\circ}C$ heat-treatment). Two different adhesive luting systems were applied onto the ceramic discs in all groups. SBS (in MPa) was calculated from the failure load per bonded area (in $N/mm^2$). Subsequently, one specimen from each group was prepared for SEM evaluation of the separated-resin-ceramic interface. RESULTS. SBS values of G1 were significantly higher than those of the other groups in the lithium disilicate ceramic and leucite reinforced ceramic, and the SBS values of G4 and G1 were significantly higher than those of G2 and G3 in glass infiltrated zirconia. The three-way ANOVA revealed that the SBS values were significantly affected by the type of resin cement (P<.001). FIN ceramics had the highest rate of cohesive failure on the ceramic surfaces than other ceramic groups. AFM images showed that the surface treatment groups exhibited similar topographies, except the group treated with HF. CONCLUSION. The heat treatment was not sufficient to achieve high SBS values as compared with HF acid etching. The surface topography of ceramics was affected by surface treatments.
The purpose of this research was to develop a flat panel display device's glass etchant which can replace hydrofluoric acid. The glass etchant was composed of 18~19% wt% of ammonium hydrogen fluoride, 24~25 wt% of sulfuric acid, 45~46 wt% of water, 4~5 wt% of sulfate and 7~8 wt% of fluoro-silicate. By replenishing the etchant which has the amount of 5% of initial solution's mass, it was possible to reuse the etchant continuously. The developed etchant showed $5{\mu}m/min$ of etching rate at $30^{\circ}C$. The reusable etchant, with replenishing 5% of initial etchant mass showed the stable etching rate, which has the deviation of less than $0.1{\mu}m/min$ etching rate. The glass surface of flat panel display device created from our etching process was in good condition with any defects such as pin hole and dimple.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.