ALD를 이용한 극박막 $HfO_2 /SiON$ stack structure의 특성 평가
(Characterization of $HfO_2 /SiON$ stack structure for gate dielectrics)
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- 한국마이크로전자및패키징학회:학술대회논문집
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- 한국마이크로전자및패키징학회 2002년도 추계기술심포지움논문집
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- pp.115-121
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- 2002