Effect of Partial Pressure of the Reactant Gas on the Kinetic Model and Mechanical Properties of the Chemical Vapor Deposited Silicon Carbide (화학증착된 실리콘 카바이드 박막의 속도론적 모델 및 기계적 성질에 미치는 반응가스 분압의 영향)
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- Journal of the Korean Ceramic Society
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- v.28 no.6
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- pp.429-436
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- 1991