• 제목/요약/키워드: Gas processing system

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$Si_{1-x}Ge_{x}$/Si 구조에서의 Hall 이동도 (Hall mobility in $Si_{1-x}Ge_{x}$/Si structure)

  • 강대석;신창호;박재우;송성해
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 1998년도 하계종합학술대회논문집
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    • pp.453-456
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    • 1998
  • The electrical properties of $Si_{1-x}Ge_{x}$ samples have been investigated. The sample structures were grown by MBE (molecular geam epitaxy) with Ge mole-fraction of x=0.0, x=0.05, x=0.1, and x=0.2. To examine the influence of the thermal processing, the $O_{2}$ and N$_{2}$ process were performed at 800[.deg. C] and 900[.deg. C], respectively. After this thermal process, hall measurements have been done over a wide range of the ambient temperature between 320[.deg. K] and 10[.deg. K] to find the temperature dependence using the comparessed-He gas system. The Ge-rich layer has been formed at the $SiO_{2}$/SiGe interface and it has an effect on the hall mobility. And it has been found that hall mobility was increased by the $N_{2}$ annealing process comparing with dry oxidation process at both 800[.deg.C] and900[.deg. C].

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평면형 PLASMA 시스템에서의 방전 전압에 관한 연구 (A STUDY OF DISCHARGE VOLTAGE IN PLANER PLASMA SYSTEM)

  • 김종식;강봉구;권오대
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1989년도 하계종합학술대회 논문집
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    • pp.426-428
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    • 1989
  • As a first phase of plasma study intended for semiconductor processing research, we have studied the discharge phenomena. In particular, we have obtained a specific formula for the breakdown voltage as a function of the neutral state pressure of reactive gases. Our experimental results with H2,O2,Ar,CF4 seem ro verify this formula. In addition we find the voltage levels for various gases in the descending order of CF4>O2=Ar>H2 in high pressure region, while H2>CF4>O2>Ar in low pressure region. When H2 and CF4 were mixed, we observe the overall voltage dominated by the gas with lower breakdown volotage.

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전자교반을 응용한 Al-7%Si 알루미늄 소재의 레올로지 성형공정에 관한 연구 (A Study on Rheology Forming Process of Al-7%Si Alloy with Electromagnetic Application)

  • 고재홍;서판기;강충길
    • 소성∙가공
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    • 제15권3호
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    • pp.195-205
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    • 2006
  • This paper focuses on a rheo-forming of am part fabricated by electromagnetic stirring system (EMS). This forming process take place under high pressure of high pressure die casting and thin walled casting is possible. Furthermore, the productivity is better than low pressure die casting because of shorter cycle time. The advantages of rheo-forming are performed in the semi solid state with laminar flow and the gas content is low, which makes welding possible. Therefore this research applies for arm part with EMS and has investigated the mechanical properties after T6 and T5 heat-treatment.

연속 대기압 플라즈마를 처리한 폴리에스테르 섬유의 표면 특성 (Surface-Properties of Poly(Ethylene Terephthalate) Fabric by In-line Atmospheric Plasma Treatments)

  • 권일준;박성민;구강;송병갑;김종원
    • 한국염색가공학회지
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    • 제19권4호
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    • pp.38-46
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    • 2007
  • Surface properties of the plasma treated fabric were changed while maintaining its bulk properties. Surface of plasma treated fabric take charge of enhanced adhesion by surface etching, surface activity. The water repellency coating Poly(Ethylene Terephthalate) fabric was treated with atmospheric pressure plasma using various parameters such as Argon gas, treatment time, processing power. Morphological changes by atmospheric pressure plasma treatment were observed using field emmission scanning electron microscopy(FE-SEM) and the zeta-potential measurement, contact angle measurement equipment. At the atmospheric pressure plasma treatment time of 150 sec, the power of 800W, the best wettability and peel strength were obtained. And we confirmed the possibility of industrial application by using atmospheric plasma system.

산업 제어 시스템 보안을 위한 패킷 분석 기반 비정상행위 탐지 시스템 구현 (Implementation of abnormal behavior detection system based packet analysis for industrial control system security)

  • 김현석;박동규
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제19권4호
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    • pp.47-56
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    • 2018
  • 가스, 전력, 수처리, 원자력, 교통 관제 시스템 등과 같은 국가적 규모의 산업 제어 시스템은 점차 발전하는 정보통신기술에 따라 점차 개방된 네트워크와 공개된 표준 프로토콜을 사용하고 있다. 개방된 네트워크와 공개된 표준 프로토콜을 사용하고 있기 때문에 사이버 공격에 대한 빈도는 점점 증가하고 있는 추세이지만 이에 관련한 후속조치는 매우 부족한 실정이다. 따라서 산업 제어 시스템을 위한 보안 솔루션의 적용은 매우 중요하다. 하지만 실제의 시스템에 보안 솔루션을 적용하는 것은 산업 제어 시스템의 특성 때문에 사실상 불가능하고 기존 시스템에 영향을 주지 않고 공격의 발생 유무를 탐지할 수 있는 보안 시스템이 필수적이다. 따라서 본 논문에서는 산업 제어 시스템에 영향을 주지 않고 비정상행위를 탐지하는 패킷 분석 기반의 침입 탐지 시스템을 제안하고 제안한 침입 탐지 시스템을 실제의 환경을 재현한 산업 제어 시스템 테스트 베드에 적용함으로써 신뢰성 있는 데이터를 기반으로 제안한 시스템의 효율성을 검증한다.

주성분분석(PCA) 기법에 기반한 CNG 충전소의 이상감지 모니터링 및 진단 시스템 연구 (A Study on Fault Detection Monitoring and Diagnosis System of CNG Stations based on Principal Component Analysis(PCA))

  • 이기준;이봉우;최동황;김태옥;신동일
    • 한국가스학회지
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    • 제18권3호
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    • pp.53-59
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    • 2014
  • 본 연구에서는 비정상상태 운전을 기본으로 하는 CNG 충전소를 대상으로 다변량 통계분석방법 중의 하나인 다차원의 대용량 데이터 처리에 적합한 주성분분석(PCA) 기법을 사용하여 실시간 이상감지 및 진단이 가능한 모니터링 시스템을 제안하였다. CNG 충전소로부터 매초 간격으로 수집되는 7개의 압력센서 데이터와 5개의 온도센서 데이터의 주요 경향을 나타내는 변수들의 조합으로 주성분이라 불리는 새로운 특성변수들을 산출하고, 분산의 분포를 통해 특성변수의 계산으로부터 모델을 구축하였다. 모니터링은 구축된 모델을 통해 운전 중의 실시간 데이터를 반영하여 진행된다. 시스템 검증 및 정확성을 개선하기 위해 모니터링 테스트를 수행한 결과, 정상상태의 모든 데이터를 정상으로 판단하였고, 이상 데이터의 성공적인 검출 시 관련 변수를 추적하여 비정상 원인을 찾아낼 수 있었다.

나일론 6 섬유의 발수성 향상을 위한 RF 플라스마 표면처리 (Plasma-Surface-Treatment of Nylon 6 Fiber for the Improvement of Water-Repellency by Low Pressure RF Plasma Discharge Processing)

  • 지영연;정탁;김상식
    • 폴리머
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    • 제31권1호
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    • pp.31-36
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    • 2007
  • 플라스마 표면처리는 전체적인 물성은 유지하고 표면의 특성만을 변화시킨다고 전해지고 있다. 이번 연구에서는 플라스마 처리에 의해 높은 발수성을 나타내는 나일론 6 섬유로의 개질을 시도하였다. 발수성을 나타내는 나일론 섬유는 가스 종류, 처리시간, 인가 파워를 변수로 하여 RF 진공 플라스마 시스템에서 처리되었다. 플라스마 처리된 섬유의 표면을 scanning electron microscopy(SEM)과 atomic force microscopy(AFM)으로 모폴로지 변화를 살펴보았으며, 기계적 특성과 고분자 고유의 특성을 인장강도와 Differential scanning calorimetry(DSC), thermo-gravimetric analysis (TGA)로 각각 분석하였다. 또한 나일론 섬유의 발수성 평가는 물방울 흡수시간으로 테스트를 실시하였다. 이러한 결과들은 플라스마 표면처리로 인해서 나일론 섬유의 발수성이 향상됨을 나타내었다.

진공조의 잔류산소가 입방정질화붕소 박막 합성에 미치는 영향 (Effect of Residual Oxygen in a Vacuum Chamber on the Deposition of Cubic Boron Nitride Thin Film)

  • 오승근;김영만
    • 한국표면공학회지
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    • 제46권4호
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    • pp.139-144
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    • 2013
  • c-BN(cubic boron nitride) is known to have extremely high hardness next to diamond, as well as very high thermal and chemical stability. The c-BN in the form of film is useful for wear resistant coatings where the application of diamond film is restricted. However, there is less practical application because of difficult control of processing variables for synthesis of c-BN film as well as unclear mechanism on formation of c-BN. Therefore, in the present study, the structural characterization of c-BN thin film were investigated using $B_4C$ target in r.f. magnetron sputtering system as a function of processing variables. c-BN films were coated on Si(100) substrate using $B_4C$ (99.5% purity). The mixture of nitrogen and argon was used for carrier gas. The deposition processing conditions were changed with substrate bias voltage, substrate temperature and base pressure. Fourier transform infrared microscopy (FT-IR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) were used to analyze crystal structures and chemical binding energy of the films. In the case of the BN film deposited at room temperature, c-BN was formed in the substrate bias voltage range of -400 V~ -600 V. Less c-BN fraction was observed as deposition temperature increased and more c-BN fraction was observed as base pressure increased.

Synthesis of $LiCoO_{2}$ Nanoparticles From Leach Liquor of Lithium Ion Battery Wastes by Flame Spray Pyrolysis

  • Lee Churl Kyoung;Chang Hankwon;Jang Hee Dong;Sohn Jeong-Soo
    • 자원리싸이클링
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    • 제14권6호
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    • pp.37-43
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    • 2005
  • 페리튬이온전지로부터 회수된 코발트와 리튬 침출액으로부터 화염분부열분해법에 의하여 $LiCoO_{2}$ 나노분말을 제조하였다. 리튬 및 코발트 성분을 함유하는 전극물질은 열처리 및 기계적 처리에 의해 그 농도를 증가 시켰다. 리튬이온전지 양극물질을 질산으로 용해한 다음 침출액중 Li과 Co의 당량비가 1.0 되도록 $LiNO_{3}$로 조절하여 화염분무열분해용 전구체를 제조하었다. 화염분무열분해법에 의해 제조된 $LiCoO_{2}$ 분말의 평균입자크기는 전구체의 몰 농도가 증가하면서 증가되었으며, 화염온도 역시 입자의 크기를 증가시켰다. 변수실험 결과 $11{\~}35nm$ 크기의 결정형 $LiCoO_{2}$ 나노분말을 제조할 수 있었다 또한 나노 $LiCoO_{2}$의 전극재료로서의 가능성을 확인하기 위하여 충방전 특성 평가와 같은 전기화학적 분석을 수행하였다.

원자력 발전용 냉각수 파이프 내부 보호막 코팅기술의 개발에 관한 기초연구 (A Study on the Pipe Inner Coating by Plasma Processing)

  • 성열문;박희갑;김규섭;신중홍;조정수;박정후
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1995년도 하계학술대회 논문집 C
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    • pp.1290-1292
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    • 1995
  • A cylindrical-post magnetron sputtering system was designed for pipe inner coating. The discharge condition was depended on the gas pressure, magnetic field and pipe diameter. At given discharge current, discharge voltage increased a little with pipe diameter. The electron temperature and floating potential increased with magnetic field. The impact ion energy on the pipe increased with bias voltage. The TiN thin-film of $2{\mu}m$ thickness was formed by cylindrical-post magnetron sputtering system under the conditions of the pressure of 5mTorr, the applied voltage of 700V, the discharge current of 500mA, the magnetic field of 300G, and the bias voltage of -100V.

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