• 대한기계학회논문집B
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• 제37권7호
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• pp.709-716
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• 2013

팬 필터 유닛 (FFU)은 청정실 천정에 설치되어 정화된 공기를 공급하는 장치이다. FFU가 대형화되면서 출구면에서 속도가 불균일해지고 결과적으로 청정실에서 생산되는 제품의 품질 또는 생산성을 떨어뜨리게 된다. 이러한 문제를 해결하기 위해 가이드 베인이 설치되는데 가이드 베인은 속도를 균일하게 하지만 유동저항을 유발하여 동력이 일정하게 주어진 경우 공급되는 유량을 감소시킨다. 따라서 속도 균일성을 확보하면서 유량 감소를 최소화하는 최적설계가 요구된다. 본 연구에서는 FFU의 외벽과 중앙에 설치된 가이드 베인의 각도와 길이를 변경하면서 수치해석을 수행하여 가이드 베인의 성능 개선 방안을 도출하였다. 외벽에 설치된 가이드 베인의 경우, 형상을 변경하여 유량이 1.5% 감소하는 조건에서 속도 균일도를 3.7% 향상시킬 수 있었다. 중앙 가이드 베인의 경우 유량이 0.7% 감소하는 조건에서 속도 균일도를 2.9% 향상시킬 수 있었다.

• 공기청정기술
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• 제3권3호통권11호
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• pp.12-25
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• 1990

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2014년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.121-121
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• 2014

본 연구에서는 반도체 제조의 Diffusion 공정설비의 FFU (Fan Filter Unit) 진동에 의해 발생한 wafer 불량 현상을 규명 및 개선하였다. EFEM(Equipment Front End Module)의 Loading 부에 장착된 FOUP(Front Opening Unified Pod)에 들어 있는 Wafer 들이 설비 EFEM 하부로 떨어져 깨지거나 FOUP 내에서 겹침 현상이 발생하는 것을 확인하였다. 이에 생산현장의 모든 Diffusion 공정 설비를 조사하였으며, 그 결과 A 사(社)의 특정 설비에서만 발생되는 현상임을 확인하였다. 해당 A사(社)설비군에서만 월 평균 10 건의 Slot Mapping Error 가 발생하였으며, 이로 인해 Wafer가 재 제조된 매수가 월 평균 53 매로 확인되었다. 따라서 본 연구는 A 사(社)설비에서 발생하는 Mapping Error 의 원인 규명 및 개선을 위해 추진되었다. 총 12 개의 항목을 불량 발생 원인 후보 군으로 선정 후 예비 진단한 결과 FFU(Fan Filter Unit)에 의한 문제 발생 가능성이 가장 높을 것으로 추정되었다. 이에 따라 4 개의 서로 다른 물리적 환경/조건에서 진동을 측정하였으며, 최종 평가 결과 Motor 와 Blade 의 불균형에서 기인한 진동이 설비의 loader 부에 직접적으로 영향을 주는 것을 확인하였다. 진동 문제를 해결하기 위해 고 RPM blade 에서 저 RPM 및 유량 감소를 보완할 수 있는 신규모델로 교체하였다. 신규 Module(blade/motor) 장착 후 Load port 에서의 진동 측정 결과 개선 전 대비 91% 감소하였으며, 결과적으로 Slot mapping error 발생 건수가 50% 이상 감소되는 효과와 Wafer 재 제조 매수도 월 평균 약 43% 감소하는 효과를 얻을 수 있었다.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2002년도 춘계학술대회논문집
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• pp.778-784
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• 2002

FFU are used increasingly by the microeleceronics industry to provide clean recirculating air for the fabrication of integrated circuits and laminar flow air. There may be several hundred ffu in a large cleanroom, covering 100% of the ceiling area. Hence, there is of often knowledge in the inside and outside of the country the flu give rise to noise & vibration trouble to microelectronics industry. Noise ＆ Vibration control for satisfication about noise ＆ vibration criteria in TFT-LCD factory cleanroom be in need of exact noise & vibration data of accurence from utility & equipment that can be exert a bad influence upon cleanroom. In this pater, hence we found out noise and vibration properities of ffu by using experimental method. And, we performed noise ＆ vibration analysis about noise it vibration level in cleanroom using semiempirical method for quantative approach about noise ＆ vibration level in cleanroom.

• 설비공학논문집
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• 제15권9호
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• pp.751-761
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• 2003

We performed the numerical analysis on the airflow characteristics in the two type of cleanroom systems, which are the axial fan type (AFT) and the fan filter unit (FFU). A computational fluid dynamic model was applied to investigate and compare the nonuniformity, the deflection angle and the air ventilation effectiveness of the two designs of cleanrooms when dampers are adjusted and not adjusted. And the flow-resistance models of the various components were used in this simulation. We know that the airflow characteristics of the cleanrooms are largely affected by damper adjusting And we also find out that the FFU system is superior to the AFT system through the comparison of the cleanroom performance indices.

• 보존과학회지
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• 제36권1호
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• pp.28-36
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• 2020

The storage environment of a Japanese woodblock print collection was assessed for organic acids. The active air sampling method was used to collect organic acid emissions in the low microgram range from areas of a selected woodblock print with different pigments, following which an off-gassing mitigation strategy based on the fan filter unit(FFU) system was investigated. Research findings revealed that the off-gassing behavior of woodblock prints is significantly impacted by storage practices and to a lesser degree by the pigments. The FFU system can be used as a mitigation strategy, but the permanence of the results depends on the storage conditions.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2005년도 추계학술대회논문집
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• pp.231-235
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• 2005

Recently, some semiconductor and LCD manufacturers require equipment suppliers to serve the data of composite noise for clean room. In this study, we evaluate the composite noise of clean room by numerically and experimentally. The value of experimental result is more higher than calculated one as much as 1$\sim$2dB(A).

• 한국산학기술학회논문지
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• 제10권1호
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• pp.6-11
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• 2009

본 논문에서는, 청정지역내에서 다수의 유리 기판을 적재하여 반송하는 롤러 컨베이어 시스템에서, 롤러와 카세트 사이의 기계적 마찰로 인해 발생하는 오염입자에 의한 유리 기판의 오염여부를 판단하기 위해, 시스템 내부의 유동장을 전산유체역학 기법을 통해 해석하였다. 수치해석 결과 일정 속도로 이동하는 카세트 하부에 큰 와류가 생성되는 것을 확인하였다. 그러나 이 와류는 후면에서 유입되는 강한 기류와, 상부 FFU에서 공급되어 하부로 배기되는 기류로 인해, 카세트의 하부 영역에만 갇히게 되는 것으로 나타났다. 따라서 카세트와 롤러 사이의 기계적 마찰로 인해 오염입자가 발생하여도 상부로 이동할 수 없어 유리 기판의 오염 가능성은 낮았다. 또한 이동속도가 빨라짐에 따라 유리 평판 사이의 공기 유동의 방향이 평판의 점성 전단력에 의해 역방향으로 바뀌게 됨을 확인하였다.

• 대한설비공학회:학술대회논문집
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• 대한설비공학회 2009년도 하계학술발표대회 논문집
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• pp.1507-1512
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• 2009

Flow field in a roller conveyor system, induced from the movement of a cassette in which glasses for flat panel display are loaded, is numerically studied in this paper. Contamination on the glass surface by dust particles produced from mechanical friction between roller and cassette is predicted from the analysis results of flow fields. Results show that a large swirl flow is formed under the moving cassette with constant speed. This swirl flow is confined only under the cassette because two main streams from the backward and the fan filter unit on the top ceiling are sufficiently strong. Therefore, it can be said that possibility of the contamination by the particles originated from the friction is relatively low. It is also revealed that flow direction between glass plates is changed according to the speed of the cassette movement due to the shear force of glass plates.

• 한국입자에어로졸학회지
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• 제14권4호
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• pp.181-189
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• 2018

In this study, the risk rates of different contamination sources of the contaminant in a minienvironment were analyzed through Computational Fluid Dynamics (CFD) simulation. The airflow pattern characteristics can only predict the qualitative variation of contaminant concentration, but cannot evaluate the quantitative variations in the risk rate of sources. From the results, the ambient contamination sources mainly affect wafers in the Front Opening Unified Pod (FOUP), whereas the internal contamination sources mainly affect wafers laid on the robot arm in the minienvironment. And the purging plenum system is very useful in protecting the wafers in the FOUP from contaminants transferred from the Fan Filter Unit (FFU). However, this system is unable to protect the wafers on the robot arm from internal contaminants and the wafers in the FOUP from sources of the interface between the FOUP and the minienvironment.