With the continuous development of deep learning, human behavior recognition algorithms have achieved good results. However, in a multi-person recognition environment, the complex behavior environment poses a great challenge to the efficiency of recognition. To this end, this paper proposes a multi-person pose estimation model. First of all, the human detectors in the top-down framework mostly use the two-stage target detection model, which runs slow down. The single-stage YOLOv3 target detection model is used to effectively improve the running speed and the generalization of the model. Depth separable convolution, which further improves the speed of target detection and improves the model's ability to extract target proposed regions; Secondly, based on the feature pyramid network combined with context semantic information in the pose estimation model, the OHEM algorithm is used to solve difficult key point detection problems, and the accuracy of multi-person pose estimation is improved; Finally, the Euclidean distance is used to calculate the spatial distance between key points, to determine the similarity of postures in the frame, and to eliminate redundant postures.
본 논문은 자동차의 편의성 및 안전성의 동시 확보를 위하여, 보조적 스위치의 조작없이 상시 음성의 입$\cdot$출력이 가능하도록 하였고, 남성과 여성을 구별하기 위하여 피치검출법을 사용하여 속도별로 구분하였다. 또한, band pass filter를 이용하여 자동으로 잡음하에서 정확하게 음성추간 검출(End Point Detection)을 하게 하였다. Reference Pattern은 DMS(Dynaminc Multi-Section)[1]모델을 사용하려고, 음성의 특징 파라미터와 인식 알고리즘은 PLP 13차와 One Stage Dynamic Programming(OSDP)를 사용하였다. 시내주행중인 자동차 환경에서 자주 사용되는 차량제어 명령어 30단어를 가지고 실험한 결과 40-80km에서 화자독립 남성 $96\%$, 여성 $94.4\%$ 화자종속일 때 남성 $97\%$, 여성 $95\%$의 인식률을 얻을수 있었고 남성과 여성을 구분하므로 써 인식률을 향상 시켰다.
The kinetics of the reaction between O(3P) and C2H4 was investigated by measuring time-dependent concentrations of OH resulting from the reaction by using the LIF detection. Oxygen atoms were generated by titrating microwave discharged N2/He with NO to the chemiluminescent end point. The operating pressures in the flow reactor ranged from 5 to 15 torr and the mixtures consisted of He/O(3/P)/C2H4 in the approximate ratios from 100/1/0.1 to 100/1/1. The controlled residence time prior to the detection were estimated to be 0.8-17 ms at the reactor pressure of 7 torr. Experimentally determined profiles both in shape and magnitude were compared with the computed OH density for a specified set of experimental parameters, allowing us to arrive at a complete mechanism for the reaction of O(3P) with ethylene.
커널을 변조하는 루트킷과 같은 악성코드가 만약 메모리 분석을 회피하기 위한 메커니즘을 추가하게 될 경우, 분석이 어려워지거나 불가능하게 되면서 분석가의 판단에 악영향을 미칠 수 있다. 따라서 향후 고도화된 커널 변조를 통해 탐지를 우회하는 루트킷과 같은 악성코드에 선제적으로 대응하고자 한다. 이를 위해 공격자의 관점에서 윈도우 커널에서 사용되는 주요 구조체를 분석하고, 커널 객체를 변조할 수 있는 방법을 적용하여 메모리 덤프 파일에 변조를 진행하였다. 변조 결과 널리 사용되는 메모리 분석 도구에서 탐지가 되지 않는 것을 실험을 통해 확인하였다. 이후 분석가의 관점에서 변조 저항성의 개념을 사용하여 변조를 탐지할 수 있는 소프트웨어 형태로 만들어 기존 메모리 분석 도구에서 탐지되지 않는 영역에 대해 탐지 가능함을 보인다. 본 연구를 통해 선제적으로 커널 영역에 대해 변조를 시도하고 정밀 분석이 가능하도록 인사이트를 도출하였다는 데 의의가 있다 판단된다. 하지만 정밀 분석을 위한 소프트웨어 구현에 있어 필요한 탐지 규칙을 수동으로 생성해야 한다는 한계점이 존재한다.
In this paper, an algorithm to compensate the distorted signals due to CT(Current Transformer) saturation is suggested. Firstly, WT(Wavelet Transform) is used to detect a start point and an end point of saturation. Filter banks which can be easily realized in real-time applications are employed in detecting CT saturation. Secondly, least-square curve fitting method is used to restore the distorted section of the secondary current. Fault simulations are performed on a power system model using EMTP(Electromagnetic Transient Program). A series of test results indicate that WT has superior detection accuracy and the proposed algorithm which shows very stable features under various levels of remanent flux is also satisfactory.
균일계수 산화환원 적정에 있어서의 전위의 적정분율에 따른 변화을 나타내는 정확한 방정식을 얻었다. 이 방정식은 정정곡선이 시약의 농도에 무관계함을 알려준다. 또한 전위차적정범위 종말점의 예민도는 반전지의 기준전위의 차는 몰론, 각 반반응에 관여하는 전자수에 따라 심한 영향을 받음을 알려준다. 적정곡선의 변곡점이 당량점과 일치하지 않음을 증명하였다. 또한 적정단계에 따른 반응의 완결도를 평형상수식을 토대로 하여 해석하였다. 이 결과는 산화환원 이외의 평형에도 적용된다.
본 논문은 2D 라이다를 이용해서 포트홀을 검출하는 시스템과 알고리즘을 제안한다. 기존의 포트홀을 검출하는 방법에는 진동, 3D 복원, 영상, 명암을 기반으로 한 방법이 있다. 제안하는 포트홀 검출 시스템은 저가형 LiDAR 두 개를 이용하여 포트홀 검출성능을 개선한다. 포트홀 검출 알고리즘은 LiDAR를 통해 얻은 데이터의 노이즈를 제거하기 위한 전처리과정, 시각화를 위한 클러스터링과 선분추출, 포트홀 검출을 위한 기울기 함수를 구하는 단계로 나뉜다. 기울기 함수를 통해 추출된 데이터의 특징점을 찾아내어 포트홀 여부를 검사하고 포트홀의 깊이와 폭을 측정한다. 2개의 라이다를 활용한 포트홀 검출 시스템을 개발하고, 라이다 장치를 이동하면서 포트홀을 검출함으로써 2D LiDAR를 이용한 3차원 포트홀 검출 시스템의 성능을 보인다.
고속축중기 시스템은 개별 차량의 통행속도 및 하중 정보를 수집할 수 있어 기존의 차량검지장비와 비교하여 다양한 활용이 가능하다. 그러나 고속축중기 원시 자료는 지점 검지 자료로 구간별 안전성 분석에 직접 적용하는 것은 한계가 있다. 이를 극복하기 위하여 본 연구에서는 고속축중기 자료 중 검지 시간, 검지 속도, 차량길이, 차량 종류, 차량 무게정보를 수집하여 대리안전척도로 이용한 상충률과 충격량을 산출하는 방법론을 제시하였다. 이를 통하여 고속도로 교통류 내의 추종관계 별 후미추돌 위험도를 분석하고 안전성을 평가하는 것이 가능할 것으로 판단되며 해당 구간 내 교통안전 위해차종 선별 및 계도 방안 모색에 기초연구로 활용될 수 있을 것으로 기대된다.
세균내독소는 lipopolysaccharide (LPS)라고 불리우며, 그람음성 세균의 세포벽에 존재하는 물질로 어느 생체재료나 액체에 존재할 수 있다. 세균내독소가 혈액으로 침투되면 발열 및 염증을 유발시킨다. 본 연구에서는 장내 그람음성세균인 Escherichia coli O157:H7, Klebsiella oxytoca, Salmonella Typhi, Shigella sonnei, Morganella morganii의 LPS 양을 비교하려 하였다. 각 세균은 배양한 후 $1.5{\times}10^8CFU/mL$ 농도로 희석하여 동일한 농도로 하였으며 실험의 정당성을 위하여 LAL시약의 표시감도확인시험을 진행하였다. 10 fold dilution 후 1차 시험을 하여 각 균의 반응 end point를 확인하고 바로 윗단계 희석배수 사이에서 2 fold dilution하여 균의 최종 반응 end point를 확인하였다. 결과적으로 E. coli O157은 75~37.5 CFU/mL, K. oxytoca는 37.5~18.75 CFU/mL, M. morganii와 S. Typhi는 3.75~1.875 CFU/mL, S. sonnei는 7.5~3.75 CFU/mL에서 0.015 EU/mL 이상의 endotoxin이 검출되었다. 최종적으로 억제인자에 대한 확인시험을 진행하여 결과값을 보증하였다. 본 연구를 통하여 세균내독소에 대한 추가적인 연구가 지속되기를 기원한다.
Chemical Mechanical Polishing(CMP) of Shallow Trench Isolation(STD structure in 0.18 m semiconductor device fabrication is studied. CMP process is applied for the STI structure with and without reverse moat pattern and End Point Detection (EPD) method is tested. To optimize the transistor properties related metal 1 parameters. we studied the correlation between CMP thickness of STI using high selectivity slurry. DOE of gate etch recipe, and 1st metal DC values. Remaining thickness of STI CMP is proportional to the thickness of gate-etch process and this can affect to gate profile. As CMP thickness increased. the N-poly foot is deteriorated. and the P-Poly Noth is getting better. If CD (Critical Dimension) value is fixed at some point,, all IDSN/P values are in inverse proportional to CMP thickness by reason of so called Profile Effect. Weve found out this phenomenon in all around DOE conditions of Gate etch process and we also could understand that it would not have any correlation effects between VT and CMP thickness in the range of POE 120 sec conditions. As CMP thickness increased by $100\AA$. 3.2 $u\AA$ of IDSN is getting better in base 1 condition. In POE 50% condition. 1.7 $u\AA$ is improved. and 0.7 $u\AA$ is improved in step 2 condition. Wed like to set the control target of CD (critical dimension) in gate etch process which can affect Idsat, VT property versus STI topology decided by CMP thickness. We also would like to decide optimized thickness target of STI CMP throughout property comparison between conventional STI CMP with reverse moat process and newly introduced STI CMP using high selectivity slurry. And we studied the process conditions to reduce Gate Profile Skew of which source known as STI topology by evaluation of gate etch recipe versus STI CMP thickness.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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